专利名称：一种水转印镭射涂层及其制备方法
技术领域：
本发明涉及包装薄膜技术领域，特别是涉及一种水转印镭射涂层及其制备方法。
背景技术：
随着科学技术的不断发展以及人们对产品外观的美的需求，现在人们已经逐渐不 满足于在纸上直接印刷。如今很多不同于纸的材料和外型复杂的实物印刷需求的出现，随 即诞生了转移印刷术。目前比较流行、应用范围最广的转移印刷术就是水转印和热转印。但 从实用性和广泛性来说，水转印的应用更具有市场潜力。水转印技术是利用水压将带彩色 图案的转印纸或者塑料薄膜进行高分子水解的一种印刷术，转印技术的诞生解决了常规印 刷方法所不能解决的问题。但是，现有技术中的镭射涂层由于只满足镭射压印的需求，无法满足后续水转印 工艺所需的活化与还原性，使得该镭射涂层只能应用于纸张、软管、PC板材等平面底材或者 有规则的曲面底材上，对于不规则底材，如电脑鼠标外壳、摩托车帽子、手机外壳等，则没 法量产使用，从而影响了产品的外观设计的美学要求，使得产品缺乏市场竞争力。因此，针对现有技术中的不足，亟需提供一种可以应用于不规则底材的水转印镭 射涂层及其制备方法。
发明内容
本发明的目的在于避免现有技术中的不足之处而提供一种可以应用于不规则底 材的水转印镭射涂层及其制备方法。本发明的目的通过以下技术方案实现
一方面，本发明提供了一种水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成
甲基丙烯酸甲酯20 30%氯化橡胶10 20%甲苯30 40%甲基异丁酮20 30%聚矽氧烷有机硅消泡剂0. 15 0.聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0. 1 --0.2 水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成
甲基丙烯酸甲酯25 )30%氯化橡胶10 ^ 15%甲苯30 35%甲基异丁酮25 30%聚矽氧烷有机硅消泡剂0. 2 ‘ 0.3 ‘聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0. 1 ‘ 0.15 水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成甲基丙烯酸甲酯 氯化橡胶 甲苯
甲基异丁酮
聚矽氧烷有机硅消泡剂 聚醚改性硅氧烷共聚流平剂
另一方面，本发明还提供了 骤
步骤一，按以下重量百分比计的组分准备原料
29% 12. 67 %
30% 28 % 0. 2 %
0. 13 %。
种水转印镭射涂层的制备方法，其中，包括以下步
甲基丙烯酸甲酯 氯化橡胶 甲苯
甲基异丁酮
聚矽氧烷有机硅消泡剂 聚醚改性硅氧烷共聚流平剂
20 10 30 20 0. 15 0. 1 -
30 % 20 % 40 % 30 % 0. 3 % -0. 2 % ；
步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持 搅拌筒的温度在恒温25 30°范围内，勻速搅拌5 IOmin ；
步骤三，再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒， 加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均勻的现象；待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和 聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌10 15min，然后上机使用， 得到水转印镭射涂层。 所述步骤一具体为，按以下重量百分比计的组分准备原料
甲基丙烯酸甲酯25 )30%氯化橡胶10 ^ 15%甲苯30 35%甲基异丁酮25 30%聚矽氧烷有机硅消泡剂0. 2 ‘ 0.3 %聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0. 1 ‘ 0.15 %。所述步骤一具体为，按以下重量百分比计的组分准备原料 甲基丙烯酸甲酯 氯化橡胶 甲苯
甲基异丁酮
聚矽氧烷有机硅消泡剂 聚醚改性硅氧烷共聚流平剂本发明的有益效果本发明的-成甲基丙烯酸甲酯20 30 %，氯化橡胶10 20 %，甲苯30 40 %，甲基异丁酮20 30 %，聚矽氧烷有机硅消泡剂15 0. 3 %，聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0. 1 0. 2 %。本 发明的一种水转印镭射涂层的制备方法，包括以下步骤按照上述重量百分比计的组分准
29% 12. 67 %
30% 28 % 0. 2 %
0. 13 %。
-种水转印镭射涂层，按重量百分比计，包括以下组备原料；将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持搅拌 筒的温度在恒温25 30°范围内，勻速搅拌5 IOmin ；再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂 和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均 勻的现象，待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒 后，再持续搅拌约10 15min，然后上机使用，得到水转印镭射涂层。与现有技术相比，本 发明中采用甲基丙烯酸甲酯可增强水转印镭射涂层的弹性，氯化橡胶可增强水转印镭射涂 层的亮度和耐温性，采用甲苯与甲基异丁酮的溶剂，可以与所选用的甲基丙烯酸甲酯和氯 化橡胶树脂的相容性好，不会发生异常请况，而且按照甲基丙烯酸甲酯20 30 %，氯化橡 胶10 20 %，甲苯30 40 %，甲基异丁酮20 30 %，聚矽氧烷有机硅消泡剂15 0. 3 %，聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0. 1 0.2 %的组成及配比可以满足后续水转印所需的活 化和还原效果。本发明的水转印镭射涂层耐温检测约110 115°，经后续镭射信息层涂布 测量离形力3. 0 4. 5g，破膜力3 8g，用常规硬压方式压印，镭射效果清晰闪耀，转移至 PVA上效果光滑完整，然后将具有该水转印镭射涂层的PVA面直接接触自来水，在60 180 秒后直接水转印至各种底材上。该水转印镭射涂层既可满足镭射压印的需求，又可转移至 PVA底材，同时还能满足后续水转印所需的活化与还原效果，突破现有镭射涂层只能应用于 纸张、软管、PC板材等平面底材和有规则的曲面底材的局限，能广泛应用于不规则底材，扩 大了镭射涂层的应用范围，而且具有成本低，实用性强的特点。
具体实施例方式结合以下实施例对本发明作进一步描述。实施例1
一种水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成
甲基丙烯酸甲酯29 %
氯化橡胶12. 67 %
甲苯30 %
甲基异丁酮28 %
聚矽氧烷有机硅消泡剂0. 2 %
聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0. 13 %。该水转印镭射涂层的耐温检测112°，经后续镭射信息层涂布测量离形力为 3. 5 4. 5g，破膜力为3 8g，采用常规硬压方式压印，镭射效果清晰闪耀，转移至PVA上光 滑完整，然后将具有该水转印镭射涂层的PVA面直接接触自来水，在100秒后直接水转印至 各种底材上，不仅满足镭射压印的需求，而且可转移至PVA底材，同时还能满足后续水转印 所需的活化与还原效果。实施例2
一种水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成
甲基丙烯酸甲酯20 %
氯化橡胶15 %
甲苯38 %
甲基异丁酮26. 5 %
6聚矽氧烷有机硅消泡剂0. 3 %
聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0. 2 %。该水转印镭射涂层的耐温检测114°，经后续镭射信息层涂布测量离形力为 3.0 4. 0g，破膜力为3 7g，采用常规硬压方式压印，镭射效果清晰闪耀，转移至PVA上光 滑完整，然后将具有该水转印镭射涂层的PVA面直接接触自来水，在60秒后直接水转印至 各种底材上，不仅满足镭射压印的需求，而且可转移至PVA底材，同时还能满足后续水转印 所需的活化与还原效果。实施例3
一种水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成
甲基丙烯酸甲酯30 %
氯化橡胶10 %
甲苯39. 75 %
甲基异丁酮20 %
聚矽氧烷有机硅消泡剂0. 15 %
聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0. 1 %。该水转印镭射涂层的耐温检测约113°，经后续镭射信息层涂布测量离形力为 3. 3 4. 0g，破膜力为4 6g，采用常规硬压方式压印，镭射效果清晰闪耀，转移至PVA上光 滑完整，然后将具有该水转印镭射涂层的PVA面直接接触自来水，在80秒后直接水转印至 各种底材上，不仅满足镭射压印的需求，而且可转移至PVA底材，同时还能满足后续水转印 所需的活化与还原效果。实施例4
一种水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成
甲基丙烯酸甲酯25 %氯化橡胶20 %甲苯33. 66 %甲基异丁酮21 %聚矽氧烷有机硅消泡剂0. 19 %聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0. 15 %。该水转印镭射涂层的耐温检测约115°，经后续镭射信息层涂布测量离形力为 3. 2 3. 9g，破膜力为5 6g，采用常规硬压方式压印，镭射效果清晰闪耀，转移至PVA上光 滑完整，然后将具有该水转印镭射涂层的PVA面直接接触自来水，在70秒后直接水转印至 各种底材上，不仅满足镭射压印的需求，而且可转移至PVA底材，同时还能满足后续水转印 所需的活化与还原效果。实施例5
一种水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成
甲基丙烯酸甲酯26 %
氯化橡胶18. 54 %
甲苯34 %
甲基异丁酮20. 99 %聚矽氧烷有机硅消泡剂0. 28 %
聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0. 19 %。该水转印镭射涂层的耐温检测110°，经后续镭射信息层涂布测量离形力为 3. 6 4. 5g，破膜力为4 6g，采用常规硬压方式压印，镭射效果清晰闪耀，转移至PVA上光 滑完整，然后将具有该水转印镭射涂层的PVA面直接接触自来水，在90秒后直接水转印至 各种底材上，不仅满足镭射压印的需求，而且可转移至PVA底材，同时还能满足后续水转印 所需的活化与还原效果。实施例6
一种水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成
甲基丙烯酸甲酯20 %
氯化橡胶19 %
甲苯40 %
甲基异丁酮20. 65 %
聚矽氧烷有机硅消泡剂0. 16 %
聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0. 19 %。该水转印镭射涂层的耐温检测115°，经后续镭射信息层涂布测量离形力为 3. 8 4. 4g，破膜力为6 8g，采用常规硬压方式压印，镭射效果清晰闪耀，转移至PVA上光 滑完整，然后将具有该水转印镭射涂层的PVA面直接接触自来水，在100秒后直接水转印至 各种底材上，不仅满足镭射压印的需求，而且可转移至PVA底材，同时还能满足后续水转印 所需的活化与还原效果。实施例7
一种水转印镭射涂层的制备方法，其中，包括以下步骤 步骤一，按照实施1中的重量百分比计的组分准备原料；
步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持 搅拌筒的温度在恒温25°下，勻速搅拌5min ；
步骤三，再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒， 加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均勻的现象，待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和 聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌约15min，然后上机使用，得 到水转印镭射涂层。实施例8
一种水转印镭射涂层的制备方法，其中，包括以下步骤 步骤一，按照实施2中的重量百分比计的组分准备原料；
步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持 搅拌筒的温度在恒温30°下，勻速搅拌IOmin ；
步骤三，再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒， 加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均勻的现象，待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和 聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌约15min，然后上机使用，得 到水转印镭射涂层。实施例9一种水转印镭射涂层的制备方法，其中，包括以下步骤 步骤一，按照实施3中的重量百分比计的组分准备原料；
步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持 搅拌筒的温度在恒温27°下，勻速搅拌9min ；
步骤三，再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒， 加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均勻的现象，待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和 聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌约13min，然后上机使用，得 到水转印镭射涂层。实施例10
一种水转印镭射涂层的制备方法，其中，包括以下步骤 步骤一，按照实施4中的重量百分比计的组分准备原料；
步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持 搅拌筒的温度在恒温29°下，勻速搅拌7min ；
步骤三，再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒， 加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均勻的现象，待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和 聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌约15min，然后上机使用，得 到水转印镭射涂层。实施例11
一种水转印镭射涂层的制备方法，其中，包括以下步骤 步骤一，按照实施5中的重量百分比计的组分准备原料；
步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持 搅拌筒的温度在恒温26°下，勻速搅拌6min ；
步骤三，再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒， 加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均勻的现象，待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和 聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌约14min，然后上机使用，得 到水转印镭射涂层。实施例12
一种水转印镭射涂层的制备方法，其中，包括以下步骤 步骤一，按照实施6中的重量百分比计的组分准备原料；
步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持 搅拌筒的温度在恒温30°下，勻速搅拌15min ；
步骤三，再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒， 加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均勻的现象，待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和 聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌约12min，然后上机使用，得 到水转印镭射涂层。最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对本发明保 护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本发明作了详细地说明，本领域的普通技术人员应 当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的实 质和范围。
权利要求
一种水转印镭射涂层，其特征在于，按重量百分比计，包括以下组成甲基丙烯酸甲酯 20～30﹪氯化橡胶10～20﹪甲苯30～40﹪甲基异丁酮 20～30﹪聚矽氧烷有机硅消泡剂0.15～0.3﹪聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0.1～0.2﹪。
2.根据权利要求1所述的水转印镭射涂层，其特征在于甲基丙烯酸甲酯25 30%氯化橡胶10 15%甲苯30 35%甲基异丁酮25 30%聚矽氧烷有机硅消泡剂0. 2 --0.3 %聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0. 1 --0.15 %。
3.根据权利要求1所述的水转印镭射涂层，其特征在于成甲基丙烯酸甲酯29 %氯化橡胶12. 67 %甲苯30 %甲基异丁酮28 %聚矽氧烷有机硅消泡剂0. 2 %聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0. 13 %。
4.一种水转印镭射涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤 步骤一，按以下重量百分比计的组分准备原料甲基丙烯酸甲酯20 30%氯化橡胶10 20 %甲苯30 40 %甲基异丁酮20 30 %聚矽氧烷有机硅消泡剂0. 15 0. 3 %聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0. 1 0. 2 % ；步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持 搅拌筒的温度在恒温25 30°范围内，勻速搅拌5 IOmin ；步骤三，再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒， 加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均勻的现象；待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和 聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌10 15min，然后上机使用， 得到水转印镭射涂层。
5.根据权利要求4所述的水转印镭射涂层的制备方法，其特征在于所述步骤一具体 为，按以下重量百分比计的组分准备原料甲基丙烯酸甲酯25 一 30%氯化橡胶10 ^ 15%甲苯30 35%甲基异丁酮25 30%聚矽氧烷有机硅消泡剂0. 2 ‘ 0.3 ‘聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0. 1 ‘ 0.15
6.根据权利要求4所述的水转印镭射涂层的制备方法，其特征在于所述步骤一具体 为，按以下重量百分比计的组分准备原料甲基丙烯酸甲酯29 %氯化橡胶12. 67 %甲苯30 %甲基异丁酮28 %聚矽氧烷有机硅消泡剂0. 2 %聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0. 13 %。
全文摘要
一种水转印镭射涂层，按重量百分比计，包括以下组成甲基丙烯酸甲酯20～30﹪，氯化橡胶10～20﹪，甲苯30～40﹪，甲基异丁酮20～30﹪，聚矽氧烷有机硅消泡剂15～0.3﹪，聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0.1～0.2﹪。一种水转印镭射涂层的制备方法，包括按照上述重量百分比计的组分准备原料；将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持搅拌筒的温度在恒温25～30°范围内，匀速搅拌5～10min；再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒，待全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌约10～15min，然后上机使用，得到水转印镭射涂层。该水转印镭射涂层及其制备方法可应用于不规则底材，具有成本低，实用性强的特点。
文档编号C09D4/02GK101942235SQ20101051450
公开日2011年1月12日 申请日期2010年10月21日 优先权日2010年10月21日
发明者三德·沙达西文, 吴俊德, 彭良兵 申请人:东莞光群雷射科技有限公司