专利名称：光学薄膜及其制造方法
技术领域：
本发明涉及光学薄膜及其制造方法，特别涉及适用于显示装置的滤光片的光学薄膜及其制造方法。
背景技术：
近红外线与可见光一同从等离子体显示面板(PDP)中被放射出来。但是，近红外线也被用于家用电视机、空调、录像机等家电产品用的近红外线遥控器、其它通信机器，因此，有时这些机器由于来自等离子体显示面板的近红外线而发生误动作。因此，在等离子体显示面板的前表面(观看面侧)设置近红外线吸收薄膜，例如使850nm IlOOnm的近红外线的透射率为20%以下。近红外线吸收薄膜通常是在树脂薄膜中含有近红外线吸收色素的薄膜，与防反射薄膜、电磁波屏蔽薄膜等其它的功能薄膜一同贴附在玻璃板等透明基板上构成滤光片。但是，对于这样的滤光片，由于除了近红外线吸收薄膜以外，需要另外设置用于贴附它的粘合层，因此，生产率未必优异。因此，为了省略近红外线吸收薄膜，有人提出使粘合层中含有近红外线吸收色素(例如，参照专利文献I)。作为近红外线吸收色素，可以例举如酞菁类、二亚铵类、聚甲炔类、金属络合物类、方酸类、花青类、靛苯胺类等的各种色素，其中，由于近红外线吸收波长域广，优选例举二亚铵类色素。但是，二亚铵类色素通常耐热性、耐湿性低，特别是在粘合层中含有时容易劣化。由于这样的色素劣化，不仅近红外线吸收能力下降，可见光透射率(視認透過率)等光学特性也降低。因此，也提出通过制成具有特定阴离子的二亚铵类色素来抑制劣化(例如，参照专利文献2)。现有技术文献专利文献专利文献I:日本专利特开2001-207142号公报专利文献2:日本专利特开2007-004098号公报
发明内容
如上所述，为了抑制二亚铵类色素的劣化进行了研究，但未必能够充分抑制粘合层中的劣化。本发明是为了解决上述课题而完成的发明，目的是提供抑制了粘合层中的二亚铵类色素的劣化的光学薄膜及其制造方法。本发明的光学薄膜的特征在于，具有基材薄膜和粘合层，所述粘合层形成在所述基材薄膜上，粘合层的粘合剂中分散有含有下述式(I)所示的二亚铵化合物且熔点在200°C以上的块状体。[化I]
权利要求
1.一种光学薄膜，其特征在于，具有基材薄膜和粘合层，所述粘合层形成在所述基材薄膜上，所述粘合层的粘合剂中分散有含有下述式(I)所示的二亚铵化合物且熔点在200°c以上的块状体， [化I]
2.如权利要求I所述的光学薄膜，所述R1 R8中，碳数I 3的脂肪族烃基是丙基，其它的脂肪族烃基是丁基。
3.如权利要求I或2所述的光学薄膜，所述粘合层含有90质量％ 99质量％的所述粘合剂。
4.如权利要求I 3中任一项所述的光学薄膜，所述粘合层中，相对于所述粘合剂100质量份，含有O. 5质量份 5质量份的所述二亚铵化合物。
5.如权利要求I 4中任一项所述的光学薄膜，所述粘合剂是丙烯酸类粘合剂、有机硅类粘合剂、氨基甲酸酯类粘合剂或丁二烯类粘合剂。
6.如权利要求I 5中任一项所述的光学薄膜，所述块状体的熔点比其含有的二亚铵化合物的熔点低I 20°C。
7.如权利要求I 6中任一项所述的光学薄膜，粘合层还含有最大吸收波长λ_在800nm IlOOnm范围内的近红外线吸收色素。
8.一种滤光片，使用了权利要求I 7中任一项所述的光学薄膜。
9.一种光学薄膜的制造方法，其特征在于，具有将粘合剂、下述式(I)所示的二亚铵化合物和能够溶解所述二亚铵化合物的溶剂混合来制备涂布液的混合工序，将所述涂布液涂布在基材薄膜上而形成涂布层的涂布工序，以及将所述涂布层加热到100°c以上而形成粘合层的加热工序； [化2]
10.如权利要求9所述的光学薄膜的制造方法，所述混合工序是在混合了所述二亚铵化合物和所述溶剂后添加所述粘合剂来进行混合。
11.如权利要求9或10所述的光学薄膜的制造方法，所述溶剂是酮类溶剂。
全文摘要
提供抑制了粘合层中的二亚铵化合物的劣化的光学薄膜及其制造方法。该光学薄膜的特征在于，具有基材薄膜和粘合层，所述粘合层形成于所述基材薄膜上，所述粘合层的粘合剂中分散有含有下述式(1)所示的二亚铵化合物且熔点在200℃以上的块状体。(化1)(R1～R8分别独立地表示碳数1～6的无取代或取代的相同或不同的脂肪族烃基，且R1～R8中的4.9个基团～8个基团是碳数1～3的脂肪族烃基(氢原子的一部分可以被卤素原子取代)，X-表示(R9SO2)3C-，R9表示碳数1～4的无取代或被卤素原子取代的脂肪族烃基)。
文档编号C09J11/06GK102959435SQ20118003151
公开日2013年3月6日 申请日期2011年6月24日 优先权日2010年6月25日
发明者宫古强臣, 冈田崇嗣, 佐佐木宏二 申请人:旭硝子株式会社