光刻胶供给装置及涂布的制造方法
【专利摘要】本发明提供一种光刻胶供给装置，其特征在于，所述光刻胶供给装置包括光刻胶容器、光刻胶供给系统及缓冲容器，所述缓冲容器通过管道分别与所述光刻胶容器及光刻胶供给系统连通，所述缓冲容器与所述光刻胶容器之间产生的压力差使缓冲容器内的光刻胶进入所述光刻胶容器内，并通过所述缓冲容器与光刻胶供给系统之间产生的压力差将光刻胶传送至光刻胶供给系统。本发明还提供一种具有所述光刻胶供给装置的涂布机。
【专利说明】光刻胶供给装置及涂布机
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种光刻胶供给装置及涂布机。
【背景技术】
[0002]现有的光刻工艺中均包括涂胶的步骤，涂胶工艺的目的是为了在光刻的晶片表面形成光刻胶膜；常用的涂胶方法是动态喷涂，为了保证光刻工艺的质量及持续性，会设置有供应光刻胶的供应装置。比如常见的供应装置包括光刻胶存储器、供给系统及连接光刻胶存储器与供给系统的管道。向需要密封的光刻胶存储器加压将光刻胶通过管道传递到供给系统，而光刻胶存储器需要频繁更换来保证胶体供给量又要保证密封性；因此光刻胶容器与管道连接处承受很大压力，在这种情况下既要保持容易更换的可操作性，又要有很强的密封性和承压能力，因此造成连接处极易发生损坏，松脱和漏液等现象，并且因容易造成生产线的产能损失和人员处理的负担，操作性能较低。
【发明内容】
[0003]本发明的目的在于提供一种光刻胶供给装置，可避免高压对光刻胶容器产生的损坏，并保证密封。
[0004]本发明还提供一种具有所述光刻胶供给装置的涂布机。
[0005]提供一种光刻胶供给装置，所述光刻胶供给装置包括光刻胶容器、光刻胶供给系统及缓冲容器，所述缓冲容器通过管道分别与所述光刻胶容器及光刻胶供给系统连通，所述缓冲容器与所述光刻胶容器之间产生的压力差使缓冲容器内的光刻胶进入所述光刻胶容器内，并通过所述缓冲容器与光刻胶供给系统之间产生的压力差将光刻胶传送至光刻胶供给系统。
[0006]其中，所述缓冲容器还连接有吸真空装置，通过吸真空装置降低所述缓冲容器内部压力。
[0007]其中，所述缓冲容器还连接有压缩空气装置，通过压缩空气装置增加所述缓冲容器内部压力。
[0008]其中，所述缓冲容器与吸真空装置之间设置有第一阀门。
[0009]其中，所述缓冲容器与所述压缩空气装置之间设置有第二阀门。
[0010]其中，所述光刻胶容器通过管道与外界连通，以便为光刻胶容器内提供大气压力。
[0011]其中，所述缓冲容器与所述光刻胶容器之间以及与光刻胶供给系统之间均设有控制阀。
[0012]其中，所述光刻胶容器设有光阻转接头，所述管道穿过光阻转接头。
[0013]其中，所述缓冲容器与所述光刻胶供给系统相对固定。
[0014]一种涂布机，包括权利要求以上所述的光刻胶供给装置。
[0015]本发明的光刻胶供给装置在光刻胶容器与光刻胶供给系统之间连接有密封的缓冲容器，通过三者之间的压力差进行光刻胶的传输，所述光刻胶容器的光阻转接头不需要承受压力，减少光阻转接头损坏发生。反复拆卸也时密封性要求较低，降低及泄露产生。
【专利附图】
【附图说明】
[0016]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1是本发明实施例的光刻胶供给装置结构示意图。
【具体实施方式】
[0018]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0019]请参阅图1，本发明佳实施方式提供一种光刻胶供给装置100，其用于为涂布机工作中光刻胶原料的供给。所述光刻胶供给装置100包括光刻胶容器10、光刻胶供给系统20及缓冲容器30。所述缓冲容器30通过管道15分别与所述光刻胶容器10及光刻胶供给系统20连通。所述缓冲容器30与所述光刻胶容器10之间产生的压力差使光刻胶进入所述光刻胶容器10内，并通过所述缓冲容器30与光刻胶供给系统20之间产生的压力差将光刻胶传送至光刻胶供给系统20。
[0020]本实施例中，所述光刻胶容器10通过管道11与外界连通，外界提供干燥的空气通过管道进入所述光刻胶容器10内，使所述光刻胶容器10内的压力增大，以便将光刻胶容器内的光刻胶压出。所述光刻胶容器10内的光刻胶通过管道11进入所述缓冲容器30。所述光刻胶容器10 口部设有光阻转接头12，所述管道11穿过光阻转接头12。在更换所述光刻胶容器10时，所述光阻转接头与所述光刻胶容器10之间无需进行特定的密封。所述缓冲容器30与所述光刻胶容器10之间以及与光刻胶供给系统20之间的管道13上均设有控制阀。所述缓冲容器30与所述光刻胶容器10之间的控制阀控制光刻胶进入所述缓冲容器30。所述缓冲容器30与光刻胶供给系统20之间的控制阀控制光刻胶进入进入所述光刻胶供给系统20内。
[0021]进一步的，所述缓冲容器30连接有吸真空装置35，通过吸真空装置降低所述缓冲容器30内部压力。本实施例中，所述缓冲容器30通过管道32与所述吸真空装置35连通，并且所述缓冲容器30与吸真空装置35之间设置有第一阀门351。通过所述第一阀门351的打开或者关闭来控制真空装置35为所述缓冲容器30提供吸真空动作。当吸真空装置35开启后，所述缓冲容器30内的压力小于所述光刻胶容器10内的压力，所述光刻胶从所述光刻胶容器10吸取至所述缓冲容器30内。
[0022]进一步的，所述缓冲容器30还连接有压缩空气装置40，通过压缩空气装置40增加所述缓冲容器30内部压力。本实施例中，所述压缩空气装置40与所述缓冲容器30之间设置有第二阀门45。通过所述第二阀门451的打开或者关闭来控制所述压缩空气装置40为所述缓冲容器30增加压力的动作。当压缩空气装置40开启后，所述缓冲容器30内的压力大于所述光刻胶供给系统20的压力，所述光刻胶从所述缓冲容器30吸取至所述光刻胶供给系统20内。在此制程之前，需要先开启吸真空装置35将光刻胶吸入所述缓冲容器30内，然后关系吸真空装置35，在开启压缩空气装置40。
[0023]进一步的，所述缓冲容器30与所述光刻胶供给系统20相对固定。所述缓冲容器30内处以密封状态，在填充光刻胶时或者更换光刻胶容器10时，无需拆解，保证密封性。
[0024]本发明的光刻胶供给装置在光刻胶容器10与光刻胶供给系统20之间连接有密封的缓冲容器30，通过三者之间的压力差进行光刻胶的传输，所述光刻胶容器10的光阻转接头12不需要承受压力，减少光阻转接头12损坏发生。反复拆卸也时密封性要求较低，降低及泄露产生；而所述缓冲容器30不足要反复更换，保证了密封性。
[0025]本发明还提供一种涂布机，其包括权利要求以上所述的光刻胶供给装置。通过改变光刻胶供液装置，消除所述光刻胶容器10的光阻转接头12承受重压的现状，降低涂布机产线异常发生频率和产能损失，降低生产线人员工作负担。
[0026]以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。
【权利要求】
1.一种光刻胶供给装置，其特征在于，所述光刻胶供给装置包括光刻胶容器、光刻胶供给系统及缓冲容器，所述缓冲容器通过管道分别与所述光刻胶容器及光刻胶供给系统连通，所述缓冲容器与所述光刻胶容器之间产生的压力差使缓冲容器内的光刻胶进入所述光刻胶容器内，并通过所述缓冲容器与光刻胶供给系统之间产生的压力差将光刻胶传送至光刻胶供给系统。
2.如权利要求1所述的光刻胶供给装置，其特征在于，所述缓冲容器还连接有吸真空装置，通过吸真空装置降低所述缓冲容器内部压力。
3.如权利要求2所述的光刻胶供给装置，其特征在于，所述缓冲容器还连接有压缩空气装置，通过压缩空气装置增加所述缓冲容器内部压力。
4.如权利要求3所述的光刻胶供给装置，其特征在于，所述缓冲容器与吸真空装置之间设置有第一阀门。
5.如权利要求4所述的光刻胶供给装置，其特征在于，所述缓冲容器与所述压缩空气装置之间设置有第二阀门。
6.如权利要求1-5任一项所述的光刻胶供给装置，其特征在于，所述光刻胶容器通过管道与外界连通，以便为光刻胶容器内提供大气压力。
7.如权利要求6所述的光刻胶供给装置，其特征在于，所述缓冲容器与所述光刻胶容器之间以及与光刻胶供给系统之间均设有控制阀。
8.如权利要求6所述的光刻胶供给装置，其特征在于，所述光刻胶容器设有光阻转接头，所述管道穿过光阻转接头。
9.如权利要求8所述的光刻胶供给装置，其特征在于，所述缓冲容器与所述光刻胶供给系统相对固定。
10.一种涂布机，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的光刻胶供给装置。
【文档编号】B05C11/10GK104281007SQ201410385311
【公开日】2015年1月14日 申请日期:2014年8月6日 优先权日:2014年8月6日
【发明者】何文超, 陈聪文, 李俞廷 申请人:深圳市华星光电技术有限公司