一种自动喷涂线用行走总成的制作方法

文档序号:11970524阅读:326来源:国知局

本实用新型涉及机械设计领域,尤其涉及一种喷涂生产线设备,具体是指一种自动喷涂线用行走总成。



背景技术:

众所周知,自动化生产在现在企业中越来越受到关注,申请人于2013年1月28日申请了专利公开号为CN203020923 U,名称为一种自动喷涂线用链条的实用新型专利,经过使用过程中数据反馈,最然能实现响应的功能和作用,但是,上述专利行走过程中由于链条重心较高,移动过程中不够稳定,并且还具有一定的噪音,稳定性相对差,并且日常维护过程中结构复杂,难以清理灰尘等。



技术实现要素:

本实用新型要解决的技术问题是针对现有技术所存在的不足之处,提供一种自动喷涂线用行走总成,该喷涂线用链条将行走轮上移,链条重心在下面,移动过程中更加平稳,设置专门的行走轮导轨,并固定在枕木型支撑架上,运行平稳,噪音低,同时旋转链轮上移,旋转更加稳定,枕木型支撑座与机架连接,更加稳定牢固,设备结构简单,便于卫生清理,更加干净。

本实用新型的技术解决方案是,提供如下一种自动喷涂线用行走总成,包括导轨支撑,所述导轨支撑上设有导轨,所述导轨上安装有可在导轨上滑动的运行链条,还包括可在导轨上滚动的行走轮。

作为优选,所述导轨支撑上设有镶嵌凹槽,所述导轨安装在镶嵌凹槽内。

作为优选,所述导轨截面结构为凸字型,所述导轨凸起部横向设置,所述导轨为左右两个,呈对称方式布置。

作为优选,所述运行链条安装在两个导轨之间形成的缝隙内,所述运行链条为工字型,与两个凸字型设置的导轨相配合。

作为优选,所述运行链条中部设有连接中轴,所述连接中轴上设有横轴,所述行走轮位于横轴两端,所述行走轮沿着导轨滚动。

作为优选,所述行走轮使得运行链条处于悬空状态,位于两个导轨之间的缝隙内且部与导轨之间设有间隙。

作为优选,所述连接中轴顶部设有旋转治具,所述旋转直接底部设有凹孔,所述连接中轴插入到旋转治具的凹孔内,所述旋转治具与连接中轴之间设有第二轴承。

作为优选,所述旋转治具为阶梯轴,所述旋转治具上设有旋转链轮和第一轴承,所述第一轴承位于旋转治具的中部,所述旋转链轮位于旋转治具的中下部。

作为优选,所述导轨支撑为顶部开口的U型结构,所述导轨支撑底部设有朝向两侧面延伸的支撑板,导轨支撑与支撑板之间设有肋板。

采用本技术方案的有益效果:该喷涂线用链条将行走轮上移,链条重心在下面,移动过程中更加平稳,设置专门的行走轮导轨,并固定在枕木型支撑架上,运行平稳,噪音低,同时旋转链轮上移,旋转更加稳定,枕木型支撑座与机架连接,更加稳定牢固,设备结构简单,便于卫生清理,更加干净。

附图说明

图1为本实用新型的自动喷涂线用行走总成的结构示意图。

图中所示:1、导轨支撑,2、导轨,3、运行链条,4、行走轮,5、镶嵌凹槽,6、连接中轴,7、横轴,8、旋转治具,9、凹孔,10、第二轴承,11、旋转链轮,12、第一轴承,13、支撑板,14、肋板。

具体实施方式

为便于说明,下面结合附图,对实用新型的自动喷涂线用行走总成做详细说明。

如图1中所示,一种自动喷涂线用行走总成,包括导轨支撑1,所述导轨支撑1上设有导轨2,所述导轨2上安装有可在导轨2上滑动的运行链条3,还包括可在导轨2上滚动的行走轮4,所述导轨支撑1上设有镶嵌凹槽5,所述导轨2安装在镶嵌凹槽5内,所述导轨2截面结构为凸字型,所述导轨2凸起部横向设置,所述导轨2为左右两个,呈对称方式布置,所述运行链条3安装在两个导轨2之间形成的缝隙内,所述运行链条3为工字型,与两个凸字型设置的导轨2相配合,所述运行链条3中部设有连接中轴6,所述连接中轴6上设有横轴7,所述行走轮4位于横轴7两端,所述行走轮4沿着导轨2滚动,所述行走轮4使得运行链条3处于悬空状态,位于两个导轨2之间的缝隙内且部与导轨2之间设有间隙,所述连接中轴6顶部设有旋转治具8,所述旋转直接底部设有凹孔9,所述连接中轴6插入到旋转治具8的凹孔9内,所述旋转治具8与连接中轴6之间设有第二轴承10,所述旋转治具8为阶梯轴,所述旋转治具8上设有旋转链轮11和第一轴承12,所述第一轴承12位于旋转治具8的中部,所述旋转链轮11位于旋转治具8的中下部,所述导轨支撑1为顶部开口的U型结构,所述导轨支撑1底部设有朝向两侧面延伸的支撑板13,导轨支撑1与支撑板13之间设有肋板14,所述导轨支撑1高度为75mm,宽度为200mm。

该喷涂线用链条将行走轮上移,链条重心在下面,移动过程中更加平稳,设置专门的行走轮导轨,并固定在枕木型支撑架上,运行平稳,噪音低,同时旋转链轮上移,旋转更加稳定,枕木型支撑座与机架连接,更加稳定牢固,设备结构简单,便于卫生清理,更加干净。

在上述实施例中,对本实用新型的最佳实施方式做了描述,很显然,在本实用新型的发明构思下,仍可做出很多变化。在此,应该说明,在本实用新型的发明构思下所做出的任何改变都将落入本实用新型的保护范围内。

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