一种芯片吸嘴的制作方法

文档序号:11599873阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种芯片吸嘴,包括基座,以及设置于基座上的嘴部;所述基座内部设有气道,气道上端口处的基座上设有用于连接真空发生装置的贯串孔,气道下端口处开设在基座的工作端面上;其特征在于:所述基座的工作端面是矩形,嘴部由且仅由沿基座工作端面边缘设置的三条吸嘴壁,三条吸嘴壁的吸附端面齐平,三条吸嘴壁与基座的工作端面之间形成负压腔。

2.根据权利要求1所述的一种芯片吸嘴,其特征在于:所述气道的直径是8mm。

3.根据权利要求1所述的一种芯片吸嘴,其特征在于:所述吸嘴壁的壁厚宽度是210um,硬度是75S。

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的一种芯片吸嘴,其特征在于:所述基座的工作端面上设有抗静电表层。

5.根据权利要求1-3中任意一项所述的一种芯片吸嘴,其特征在于:所述三条吸嘴壁分别包括中间的第一吸嘴壁,以及设置在第一吸嘴壁两侧的第二吸嘴壁;所述第一吸嘴壁的两端部分别与第二吸嘴壁的第一端部连为一体,第二吸嘴壁的第二端部与基座工作端面边缘之间留有间隙。

6.根据权利要求5所述的一种芯片吸嘴,其特征在于:所述基座是锥形基座,基座包括上方的主体部,以及下方的收口部;所述主体部呈矩形柱体,贯串孔开设有在主体部上,收口部呈矩形锥台,三条吸嘴壁一体连接于收口部的基座工作端面上。

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