专利名称：回转窑窑体状态简易监测装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及化工设备技术领域，具体涉及一种回转窑窑体状态的简易测量装置。
背景技术：
回转窑广泛应用于化学加工过程中，如在采用回转窑内作为煅烧的设备，煅烧时受火均匀，相对于立窑式煅烧，可大大提高煅烧的产品的质量。但回转窑在运转过程中因各种原因可能引起窑轴心偏离安装调试好的轴心，但因回转窑体积相对较大，其轴心偏转几个毫米时很难发现，而轴心偏移，很容易引起崩塌等各种事故。
实用新型内容为尽早发现上述窑轴心发生偏移而存在的安全隐患，本实用新型提供了一种回转窑窑体状态简易测量装置。回转窑窑体状态简易测量装置，包括测量线、安装孔、水平仪、刻度线，其特征在于所述的安装孔设计在窑头和窑尾，其连线与回转窑轴心相平行；测量线固定在两个安装孔之间，水平仪安装在测量线上，水平仪可沿测量线滑动，刻度线为窑轴正常时水平仪内的液体在测量线的不同位置时，水平仪内的液体所显示的痕迹线。本实用新型通过水平仪内液体所显示痕迹线的变化确定窑轴是否发生偏移，结构简单，观察方便，只要检测时窑轴的水平仪内的液体痕迹与原刻度痕迹不同，则表示回转窑轴心发生偏移。
图1 :回转窑窑体状态简易测量装置安装示意图；图中1.安装孔2.水平仪3.测量线
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步的说明回转窑窑体状态简易测量装置，包括测量线3、安装孔1、水平仪2、刻度线，其特征在于所述的安装孔I设计在窑头和窑尾，其连线与回转窑轴心相平行；测量线3固定在两个安装孔I之间，水平仪2安装在测量线3上，水平仪可沿测量线滑动，刻度线为窑轴正常时水平仪2内的液体在测量线3的不同位置时，水平仪2内的液体所显示的痕迹线。本实用新型的保护范围不仅限于具体实施方式
部分所公开的技术方案，凡通过测量线与水平仪的搭配使用，实现对回转窑窑体状态的监测均落入本实用新型的保护范围。
权利要求1.回转窑窑体状态简易测量装置，包括测量线(3)、安装孔(I)、水平仪(2)、刻度线，其特征在于所述的安装孔(I)设计在窑头和窑尾，其连线与回转窑轴心相平行；测量线(3) 固定在两个安装孔(I)之间，水平仪(2)安装在测量线(3)上，水平仪可沿测量线滑动，刻度线为窑轴正常时水平仪(2)内的液体在测量线(3)的不同位置时，水平仪(2)内的液体所显示的痕迹线。
专利摘要回转窑窑体状态简易测量装置，包括测量线、安装孔、水平仪、刻度线，其特征在于所述的安装孔设计在窑头和窑尾，其连线与回转窑轴心相平行；测量线固定在两个安装孔之间，水平仪安装在测量线上，水平仪可沿测量线滑动，刻度线为窑轴正常时水平仪内的液体在测量线的不同位置时，水平仪内的液体所显示的痕迹线。本实用新型通过水平仪内液体所显示痕迹线的变化确定窑轴是否发生偏移，结构简单，观察方便，只要检测时窑轴的水平仪内的液体痕迹与原刻度痕迹不同，则表示回转窑轴心发生偏移。
文档编号F27B7/42GK202885505SQ201220595820
公开日2013年4月17日 申请日期2012年11月13日 优先权日2012年11月13日
发明者文邦祥 申请人:遵义市恒新化工有限公司