专利名称：抗蚀剂处理液的再生方法及其装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种抗蚀剂处理液再生方法及其装置，具体涉及一种用于照相平版印刷工艺的抗蚀剂的剥离方法，并涉及一种从抗蚀剂剥离工艺中所产生的含抗蚀剂处理液中分离出抗蚀剂，从而再生抗蚀剂处理液，并将其重新用于抗蚀剂剥离工艺的抗蚀剂处理液的再生方法及其装置。
本发明涉及一种在剥离用于形成金属膜图案的抗蚀剂时，能够最大限度地降低对金属膜的腐蚀，且剥离效果和分解效果优秀的抗蚀剂的剥离及分解方法及其装置。
背景技术：
抗蚀剂(光致抗蚀剂、photo-resist)是在照相平版印刷工艺中必不可少的物质，而照相平版印刷工艺一般应用在集成电路(integrated circuit，IC)、大规模集成电路(large scale integration，LSI)、超大规模集成电路(very large scale integration，VLSI)等半导体装置和液晶显示器、平板显示器等图像显示装置的制造中。
下面，简单说明照相平版印刷工艺。
首先，在预定基板上形成抗蚀剂膜，随后进行图形化工艺，剥离预定区域的抗蚀剂膜，以暴露基板上部，并留下其它区域的抗蚀剂膜，从而通过残留的抗蚀剂膜保护基板上部。接着，将形成有预定图案的曝光掩膜，紧贴在形成于上述基板整个表面的抗蚀剂上部，或者以预定距离隔开设置在抗蚀剂上部。之后，对上述掩膜整面进行曝光，并进行显像工艺，以形成由掩膜图案转印的抗蚀剂图案。接着，将抗蚀剂图案用作蚀刻掩膜，对基板进行蚀刻，从而在基板内部最终形成预定图案。之后，剥离残留在具有预定图案的基板上的抗蚀剂图案，并结束照相平版印刷工艺。
其中，剥离形成在所述基板上的抗蚀剂的方法，通常使用抗蚀剂剥离剂组合物来实施，而关于以往的抗蚀剂剥离剂组合物，韩国专利2003-0033988号公开了一种在基板上形成有机薄膜的方法，其使用含有碳酸乙烯酯(Ethylene Carbonate)、碳酸丙烯酯(propylene Carbonate)或其混合物的处理液。此外，该方法还公开了一种处理液再生装置，所述装置包括臭氧溶解装置，而所述处理液在所述装置上循环后得到再生。虽然上述方法可在短时间内剥离抗蚀剂，且可利用臭氧再生抗蚀剂处理液，但如果所含抗蚀剂超过一定水平，其剥离性能就会急剧下降，同时药液疲劳度也会增加。另外，由于臭氧的供给采用气体吹入法，臭氧的溶解度仅为50％左右，因此其效率也会随之下降。
发明内容
本发明鉴于上述问题而作，其目的在于提供一种经济型抗蚀剂处理液的再生方法及其装置，该方法及装置具有优秀的抗蚀剂剥离性能，且其药液疲劳度较小，而且通过分解抗蚀剂成分来再生所述处理液后，可将其重新应用于基板上抗蚀剂的剥离工序。
为达到上述目的，本发明提供一种抗蚀剂处理液的再生方法，其包括工序使从抗蚀剂剥离工序中所排出的含抗蚀剂处理液接触多相光催化剂，剥离及分解抗蚀剂。
在使所述抗蚀剂处理液与多相光催化剂进行接触之前，进一步包括使从所述抗蚀剂剥离工序中排出的含抗蚀剂处理液与臭氧进行接触，获得预处理液的工序。
此外，本发明还提供一种抗蚀剂处理液的再生装置，其包括抗蚀剂剥离装置，其用于加入抗蚀剂剥离剂组合物，以剥离具有抗蚀剂膜的基板上的抗蚀剂，并排出含抗蚀剂处理液；催化剂接触装置，其填充有多相光催化剂，用于使从上述抗蚀剂剥离装置所供应的含抗蚀剂处理液接触多相光催化剂，以分解所述抗蚀剂。
图1是本发明抗蚀剂处理液再生方法的流程示意图。
图2是本发明抗蚀剂处理液再生装置的结构示意图。
图3是图2所示的再生装置第一种实施方式的结构示意图，该装置具有用于提高抗蚀剂剥离及分解效率的浸渍式抗蚀剂剥离装置。
图4是图2所示的再生装置第二种实施方式的结构示意图，该装置具有用于提高抗蚀剂剥离及分解效率的喷射式抗蚀剂剥离装置。
10臭氧发生器20臭氧接触装置30催化剂接触装置31筛网32紫外灯33紫外灯电源装置34阀门40抗蚀剂剥离装置41抗蚀剂剥离内槽42抗蚀剂剥离外槽50外储存槽60第一内储存槽61第二内储存槽70第一抗蚀剂剥离槽71第二抗蚀剂剥离槽23、24、25、34、35、51、52、64循环阀22、53、62、63泵72、73喷嘴具体实施方式
下面，详细说明本发明。
本发明所涉及的抗蚀剂处理液的再生方法及其装置，在照相平版印刷工艺中形成抗蚀剂图案之后，剥离抗蚀剂时，残留在基板上部的抗蚀剂的剥离效果优秀，且可从抗蚀剂剥离过程中所产生的含抗蚀剂处理液中分解出抗蚀剂成分，以使所述处理液得以重新使用在抗蚀剂剥离工序中。
下面，参照附图详细说明本发明所涉及的抗蚀剂处理液的再生方法及其装置。图1是本发明抗蚀剂处理液再生方法的流程示意图。
如图1所示，本发明抗蚀剂处理液的再生方法，包括通过利用抗蚀剂剥离剂组合物，从具有抗蚀剂膜的基板上剥离抗蚀剂，并使从抗蚀剂剥离工序中排出的含抗蚀剂处理液与多相光催化剂进行接触，剥离及分解抗蚀剂的工序。含抗蚀剂处理液接触于多相光催化剂之后，其中的抗蚀剂成分就会被分解，而经过此处理的处理液被移送到抗蚀剂膜剥离工序，可再次利用于抗蚀剂的剥离。
本发明可通过使用多相催化剂处理含抗蚀剂成分的抗蚀剂剥离剂组合物(以下，简称“含抗蚀剂处理液”)，来提高抗蚀剂分解性能。
具体如下光催化剂可分为均相光催化剂和多相光催化剂，其中均相光催化剂以分子态存在于溶液中，如各种过渡金属配合物；而所述多相光催化剂以颗粒状分散于介质中，其主要有半导体物质。本发明使用多相光催化剂，将其用于抗蚀剂成分的分解反应。
上述多相光催化剂，不仅可以起到均相催化剂的作用，同时还可以起到对抗蚀剂成分中感光剂(PAC)和树脂(Resin)的分解作用，而且其与氧化剂同时使用还可以将抗蚀剂分解效率最大化。上述多相光催化剂可使用本领域中常用的催化剂，而对其种类并没有特别的限定。例如，多相光催化剂可使用金属氧化剂，而进行光助-芬顿(photo-Fenton)反应时，一般可使用紫外线/氧化铁/过氧化氢水或臭氧，或者可使用紫外线/二氧化钛/铁/过氧化氢水或臭氧。这些反应统称为高级氧化技术(Advanced oxidation technologies，AOTs)，其可应用于废水处理、废液处理、环境污染物质治理等方面。本发明中，多相催化剂可使用在通过热蒸镀或化学蒸镀法涂覆金属氧化物的载体中再含有反应性物质或金属氧化剂的物质。这种催化剂可在由溶剂、氧化剂、及有机酸或胺所组成的剥离液结构中，可使氧化剂对溶剂内抗蚀剂的分解效率提高40～50％以上。最适于作为多相催化剂的金属氧化剂是可易于商用化的铁氧化物、钛氧化物等，其中，钛氧化物在紫外光的照射下更具活性；而起到光催化剂或热催化剂作用的铁氧化物，在同时使用热与紫外光时，其活性更加突出。
例如，多相光催化剂可选自二氧化钛(titanium dioxide)、通过热蒸镀或化学蒸镀法在珠子(bead)或二氧化硅(silica)上涂敷二氧化钛的多相催化剂、以及搭载氧化亚铁或氧化铁的二氧化钛中的至少一种。其中，优选使用二氧化钛，而且根据需要可在二氧化钛上搭载氧化亚铁、氧化铁等，以提高多相催化剂的效率。二氧化钛在紫外线的照射下可生成自由基，并且在水溶液状态下，可生成羟自由基(hydroxyl radical)、超氧自由基等氧化、还原性强的自由基。所述自由基与臭氧、或过氧化氢水等氧化剂一起使用时，可发挥最大效率。另外，在没有紫外光的条件下，搭载在二氧化钛上的氧化亚铁，氧化铁或二氧化钛本身也能够促进臭氧及过氧化氢水的分解，因而有助于氧化剂生成自由基。
另外，虽然没有在图1中表示，但本发明在实行催化剂接触工序之前，可先使从抗蚀剂剥离工序中排出的含抗蚀剂处理液接触于臭氧，获得预处理液。本发明可通过臭氧接触工序，促进含抗蚀剂处理液中的臭氧分解工序。考虑到溶剂中抗蚀剂分解效率及溶剂本身所不足的抗蚀剂剥离性能，由臭氧发生器产生、且和含有抗蚀剂的处理液相接触的臭氧量最好为10-50g/hr。
本发明中，所述抗蚀剂剥离工序可包括将具有抗蚀剂膜基板浸渍于蚀剂剥离剂组合物中，或者将抗蚀剂剥离剂组合物喷射于上述基板，以获得含抗蚀剂处理液的工序。
下面，简单说明本发明所涉及的照相平版印刷工艺。
首先，在半导体基板或玻璃基板等预定基板上形成抗蚀剂膜。上述基板可以是在形成抗蚀剂膜之前未经任何工序的基板，但优选使用在形成抗蚀剂膜之前经过若干工序的前处理工艺、并形成有金属布线等下层结构的基板。因此，上述抗蚀剂膜通常形成在已于内部或上部具有预定的下层结构的基板上。上述抗蚀剂膜可形成在基板上面的整个区域或者某些部分区域，但优选涂敷在基板的整个表面。在后续的图形化工艺中，剥离预定区域的抗蚀剂膜，以暴露基板上部，并留下其它区域的抗蚀剂膜，从而通过残留的抗蚀剂膜保护基板上部。在整个基板表面涂敷抗蚀剂膜的方法有几种，但优选使用旋涂法。接着，将形成有预定图案的曝光掩膜，紧贴在形成于上述基板整个表面的抗蚀剂上部，或者以预定距离隔开设置在抗蚀剂上部。之后，对上述掩膜全面照射如紫外线、电子束、X射线等高能量光化射线，以进行曝光工艺。所述掩膜图案可分为两个区域，即上述高能量光化射线的透光区和遮光区。因此，透过上述掩膜图案透光区的上述高能量光化射线，可到达其下部的抗蚀剂膜。到达上述抗蚀剂膜的高能量光化射线，将改变抗蚀剂膜的物理性质。结束上述高能量光化射线的照射后，上述抗蚀剂膜将被分成未改变物理性质区域和改变物理性质区域。通过如上抗蚀剂膜的物性改变与否来被区划形成的图案，由于其被掩膜暂时形成，因此通常被称为掩膜图案的“潜像(latent)”。之后，对上述抗蚀剂膜上的潜像进行显像工艺，以形成由掩膜图案转印的抗蚀剂图案。接着，将抗蚀剂图案用作蚀刻掩膜，对基板进行蚀刻，从而在基板内部最终形成预定图案。之后，剥离残留在具有预定图案的基板上的抗蚀剂图案，就可结束照相平版印刷工艺。
另外，本发明提供一种用于剥离及分解抗蚀剂成分的抗蚀剂处理液再生装置。图2是本发明抗蚀剂处理液再生装置的结构示意图。
如图2所示，本发明的抗蚀剂处理液再生装置，最好包括抗蚀剂剥离装置40，其用于加入抗蚀剂剥离剂组合物，以从具有抗蚀剂膜的基板上剥离抗蚀剂；催化剂接触装置30，其中填充有多相光催化剂，用于使所述抗蚀剂剥离装置40所供应的含抗蚀剂处理液与多相光催化剂进行接触，以分解所述抗蚀剂。
上述催化剂接触装置30最好包括用于填充多相光催化剂的筛网31及紫外灯32。所述筛网31的孔径为100-1000μm，可防止多相催化剂的流失。所述紫外灯32用于提高催化剂的反应效率，由于其具有波长越短、效率就越高的特性，最好具备356nm以下的波长。本发明为提高多相催化剂的反应效率，最好将抗蚀剂剥离剂组合物从装满多相光催化剂的筛网下方注入，并根据需要可使用安装在其内侧的紫外灯32。
另外，如图3所示，本发明的抗蚀剂处理液再生装置可进一步包括臭氧发生器10和臭氧接触装置20，所述臭氧发生器10可以10-50g/hr的量产生臭氧，并通过泵向所述臭氧接触装置20供应臭氧；所述臭氧接触装置20具有较大表面积，其用于在多相光催化剂接触工序之前，使从抗蚀剂剥离工序中排出的含抗蚀剂处理液与臭氧进行接触，以获得预处理液。本发明具有通过臭氧接触装置20增加含抗蚀剂处理液与臭氧的接触面积，从而提高臭氧溶解度的特点。即，本发明与以往的以微小气泡形态吹入臭氧的方式相比，其溶解度高达80-90％(即，将PR分解速度从6个小时减少至1个小时左右)，因而具有优秀的分解性能。
此外，本发明装置可进一步设置用于调节被加入到抗蚀剂剥离装置的处理液温度的温度控制装置；用于控制所述催化剂接触装置中紫外灯32的电源、臭氧发生器10的电源以及泵的操作的控制装置；以及用于输送上述各处理液的供应管道。所述装置还安装有循环阀23、24、25、34、35、51、52、64及泵22、53、62、63，其用于调整抗蚀剂的流动。
图3及图4分别表示本发明抗蚀剂处理液再生装置的优选实施例。
图3是图2所示的再生装置第一种实施方式的结构示意图，该装置具有用于提高抗蚀剂剥离及分解效率的浸渍式抗蚀剂剥离装置。
图4是图2所示的再生装置第二种实施方式的结构示意图，该装置具有用于提高抗蚀剂剥离及分解效率的喷射式抗蚀剂剥离装置。
如图3及图4所示，本发明的抗蚀剂处理液再生装置可包括浸渍式抗蚀剂剥离装置，其用于在抗蚀剂剥离剂组合物中浸渍具有抗蚀剂膜的基板，以剥离所述抗蚀剂膜；或者喷射式抗蚀剂剥离装置，其设有喷嘴，用于向所述基板喷射从储存装置所供应的抗蚀剂剥离剂组合物，以剥离抗蚀剂膜。
下面，分别对包括浸渍式及喷射式抗蚀剂剥离装置的抗蚀剂处理液再生装置进行详细说明。
如图3所示，本发明装置包括浸渍式抗蚀剂剥离内槽41，其用于加入抗蚀剂剥离剂组合物，用于在其中浸渍具有抗蚀剂膜的基板，从而剥离抗蚀剂；浸渍式抗蚀剂剥离外槽42，其安装在所述抗蚀剂剥离内槽41的外侧，用于通过泵34将从所述抗蚀剂剥离内槽41中流出的含抗蚀剂处理液供应到臭氧接触装置20；臭氧接触装置20，其用于使由所述抗蚀剂剥离内槽41所供应的含抗蚀剂处理液在接触于多相光催化剂之前，先与臭氧进行接触；臭氧发生器10，其用于以10-50g/hr的量产生臭氧，并通过泵将臭氧供应到所述臭氧接触装置20；及催化剂接触装置30，其填充有多相催化剂，用于使从所述臭氧接触装置20所供应的处理液经由其内部，并由此而分解抗蚀剂。
此时，含抗蚀剂处理液在阀门34的调整下可以不经过催化剂接触装置30，而直接在臭氧作用下，在臭氧接触装置20、抗蚀剂剥离内槽41及抗蚀剂剥离外槽42中得到抗蚀剂的分解处理。
此外，所述浸渍式再生装置还包括控制装置，其用于调整抗蚀剂剥离外槽40中加热器的温度、催化剂接触装置30中紫外灯32的电源、臭氧发生器10的电源以及泵的操作；管道，其用于从所述臭氧发生器10向臭氧接触装置20供应臭氧，从抗蚀剂剥离槽向臭氧接触装置供应含抗蚀剂处理液。
另外，所述浸渍式再生装置还具备循环阀34，其用于调整各处理液的流动。
下面，举例说明利用图3所示浸渍式再生装置剥离预定基板上的抗蚀剂，并再生抗蚀剂处理液的方法。
通过加热器(未图示)将温度维持在70℃左右、且填充有抗蚀剂剥离组合物的抗蚀剂剥离内槽41中，装入涂敷有抗蚀剂、并已完成蚀刻工序的液晶显示器玻璃基板，之后开始抗蚀剂的剥离工序。而用于剥离上述玻璃基板上抗蚀剂的抗蚀剂剥离内槽41、抗蚀剂剥离外槽42所具备的清洗装置，当然可以适用通过清洗液清洗玻璃基板或剥离抗蚀剂的所有的常用方法。
然后，通过臭氧发生器10产生生成量高于或等于25g/hr的臭氧，并将所述臭氧供应到臭氧接触装置20，之后在臭氧接触装置20中使上述抗蚀剂剥离内槽41中所产生的含抗蚀剂处理液与臭氧进行接触，从而获得预处理液。通过所述过程所获得的预处理液，可供应到上述抗蚀剂剥离外槽42中，并直接用于抗蚀剂剥离工序。通过上述抗蚀剂剥离工序，抗蚀剂成分包含在抗蚀剂剥离剂组合物中，而且因抗蚀剂成分中感光剂的作用，处理液呈红色，同时具有吸收紫外光的性能。由此，上述含抗蚀剂处理液通过泵从抗蚀剂剥离外槽42供应到臭氧接触装置20，并与臭氧进行接触后，被供应到催化剂接触装置30。
催化剂接触装置30安装有筛网31及紫外灯32，而所述筛网31中还填充有在氧化铝上涂敷二氧化钛的多相催化剂，在所述溶解有臭氧的预处理液在经过催化剂接触装置的多相催化剂及紫外灯的过程中，抗蚀剂的分解更显活性。
这一情况下，在臭氧接触装置20中通过臭氧进行抗蚀剂的第一次分解，但抗蚀剂的分解在催化剂接触装置30中最具活性。另外，可根据需要调整紫外灯32的电源，并通过控制装置(未图示)、管道和泵等供应手段控制温度和供应量。
此外，如图4所示，本发明的装置包括喷射式第一抗蚀剂剥离槽70及第二抗蚀剂剥离槽71，其以喷射方式注入抗蚀剂剥离剂组合物，从涂敷有抗蚀剂的基板上剥离抗蚀剂；第一内储存槽60及第二内储存槽61，其连接于所述第一抗蚀剂剥离槽70及第二抗蚀剂剥离槽71的底部，用于储存准备供应到所述第一抗蚀剂剥离槽70及第二抗蚀剂剥离槽71的抗蚀剂剥离剂组合物，并储存经过抗蚀剂剥离工序的含抗蚀剂处理液，且从外储存槽50重新接收通过含抗蚀剂处理液与臭氧及多相光催化剂的接触工序分解抗蚀剂成分之后的抗蚀剂剥离剂组合物，所述第一内储存槽60及第二内储存槽61分别具有加热器。
臭氧接触装置20，其用于使从所述第一内储存槽60及第二内储存槽61所供应的含抗蚀剂处理液与由臭氧发生器10所供应的臭氧进行接触，以获得预处理液；臭氧发生器10，其用于以10-50g/hr的量产生臭氧，并通过泵向所述臭氧接触装置10供应臭氧；催化剂接触装置30，其用于使所述臭氧接触装置10所供应的预处理液与多相光催化剂进行接触，以分解抗蚀剂；外储存槽50，其用于储存所述臭氧接触装置10或催化剂接触装置30所供应的处理液。
上述喷射式再生装置还安装有用于剥离抗蚀剂的喷嘴72、73，而上述催化剂接触装置30安装有紫外灯32，并通过控制装置(未图示)及管道、泵等供应装置调整温度和供应量。
此时，含抗蚀剂处理液在阀门24、34的调整下可以不经过催化剂接触装置30，而直接在臭氧作用下，在臭氧接触装置20及外储存槽50中得到抗蚀剂的分解处理。
上述喷射式装置进一步包括控制装置，其用于调整第一内储存槽60及第二内储存槽61的加热器温度、催化剂接触装置30中紫外灯的电源、臭氧发生器10的电源、以及泵的操作；
管道及泵，其分别用于将所述臭氧发生器10所供应的臭氧和由所述第一抗蚀剂剥离槽及第二抗蚀剂剥离槽所供应的处理液供应到臭氧接触装置；以及其他管道、泵及过滤器，其分别用于从所述第一内储存槽及第二内储存槽向第一抗蚀剂剥离槽及第二抗蚀剂剥离槽供应抗蚀剂剥离剂组合物，并从臭氧接触装置向催化剂接触装置供应预处理液，从外储存槽向第一内储存槽70及第二内储存槽71供应抗蚀剂剥离剂组合物。
所述喷射式再生装置还安装有循环阀23、24、25、34、35、51、52、65、66，其分别用于调整各处理液的流动。
下面，举例说明利用本发明的图4所示喷射式再生装置，剥离及分解预定基板上抗蚀剂的方法。
由装满抗蚀剂剥离剂组合物(通过加热器保持70℃温度)的第一内储存槽60及第二内储存槽61，通过泵及喷嘴72、73供应抗蚀剂剥离剂组合物。而所述抗蚀剂剥离剂组合物通过所述喷嘴喷射到第一抗蚀剂剥离槽70及第二抗蚀剂剥离槽71，并开始剥离玻璃基板上的抗蚀剂。当然，用于清洗玻璃基板的清洗装置，应该可以适用通过清洗液清洗玻璃基板或剥离抗蚀剂的所有的常规方法。
抗蚀剂的剥离基本上在第二抗蚀剂剥离槽71中进行，而第一抗蚀剂剥离槽70中只进行第二抗蚀剂剥离槽71中未获得剥离的部分，所以第二内储存槽61中抗蚀剂剥离剂组合物中的抗蚀剂成分自然就多于第一抗蚀剂剥离槽70。因此，以反复循环方式进行一定时间以上的剥离时，第一内储存槽60的抗蚀剂剥离剂组合物将通过泵移送到第二内储存槽61，而第二内储存槽61，则被由外储存槽50所供应的、新的抗蚀剂剥离剂组合物所填充，其中新的抗蚀剂剥离剂组合物包含通过臭氧及其附带装置分解出抗蚀剂后的组合物。
因此，第二内储存槽61中，含抗蚀剂处理液中的抗蚀剂成分不会维持一定时间以上，而且在第一内储存槽60中，抗蚀剂成分也不会维持一定时间以上。在第一内储存槽60中，含抗蚀剂处理液的抗蚀剂成分若超过一定量以上，就可以不经过第二内储存槽61，而直接通过臭氧接触装置20移送到抗蚀剂分解装置，即催化剂接触装置。
如此，含有一定量以上抗蚀剂成分的处理液与由臭氧发生器10稳定地以25g/hr以上的量所产生的臭氧在臭氧接触装置20中进行接触，从而开始分解抗蚀剂，最终获得预处理液。然后，预处理液在阀门34开启的状态下，通过泵22被移送到催化剂接触装置30，并通过装满催化剂的筛网31后，再经过紫外灯32，全面进行抗蚀剂的分解。其中，所述催化剂是在氧化铝上涂覆一定厚度二氧化钛的结构。
为了只用臭氧分解抗蚀剂，在阀门34被关闭，而另一阀门35被开启的状态下，处理液可在泵22的作用下直接移向外储存槽50。在外储存槽50中，处理液将会暂停流动，以待填充于第一内储存槽60及第二内储存槽61中。
虽然在臭氧接触装置20中通过臭氧初步进行抗蚀剂的分解，但抗蚀剂的分解在催化剂接触装置30中最具活性。
本发明通过上述装置，利用抗蚀剂剥离剂组合物来剥离抗蚀剂膜，并对经过抗蚀剂剥离工序的含抗蚀剂处理液进行再生处理后，重新将此利用于抗蚀剂的剥离上。
另外，本发明对抗蚀剂剥离剂组合物没有特别限定，可使用常用的抗蚀剂剥离剂组合物。
另外，为了降低以往的药液疲劳度，本发明可将高沸点单一溶剂作为抗蚀剂剥离剂来使用。作为高沸点单一溶剂，最适合使用极性及非极性溶剂，其中，极性溶剂虽有优异的抗蚀剂剥离性能，但因其独特的性质，在抗蚀剂分解工序中由于过快分解或不能稳定臭氧或过氧化氢水等氧化剂而降低分解效率。非极性溶剂虽然可以稳定臭氧或过氧化氢水等氧化剂，但其抗蚀剂剥离性能不如极性溶剂。
因此，本发明为了弥补以往单一溶剂的缺点，在抗蚀剂剥离剂组合物中加入催化剂或添加剂，从而稳定臭氧或过氧化氢水等氧化剂的同时，促进分解所需的自由基的产生。或者加入胺、有机酸或添加剂等，来补充剥离性能。即，本发明为了防止因药液中含有抗蚀剂而导致剥离性能的降低，在抗蚀剂剥离工序中，可使用能够分解抗蚀剂成分中树脂和感光剂成分的装置，并为了弥补因使用单一溶剂而降低的剥离性能，可进一步说使用添加剂。
本发明的抗蚀剂剥离剂组合物可使用如碳酸乙烯酯(EthyleneCarbonate)、碳酸丙烯酯(propylene Carbonate)或其混合物。另外，所述抗蚀剂剥离剂组合物最好是包括选自由化学式1、化学式2、化学式3或化学式4表示的环状化合物；由化学式5表示的乙二醇类化合物；以及由化学式6表示的碳酸盐化合物中的至少一种化合物。
[化学式2] [化学式3][化学式4] [化学式5] [化学式6] 在上述化学式中，R、R′、R″、R分别表示氢、羟基(hydroxygroup)、C1-10的烷基(alkyl group)、C1-10的烷醇基(alkanolgroup)或C1-10的乙酸烷基酯基(alkylacetate group)；而R1是C1-10的烷基、苯甲基(Benzyl group)、苯基(phenyl group)或C1-10的乙酸烷基酯基；R2是C1-10的烷基、苯甲基、苯基、C1-10的乙酸烷基酯或C1-10的碳酸烷基酯；R3是羟基、C1-10的烷基或C1-10的乙酸烷基酯；n是1到12的整数。
上述组合物还可以包括胺或有机酸、氧化剂、由化学式7或化学式8表示的内酯类溶剂或其混合物。
[化学式8] 在上述化学式中，R分别表示氢、羟基、C1-10的烷基、C1-10的烷醇基或C1-10的乙酸烷基酯基。
本发明为了减少药液疲劳度，将由几种成分构成的抗蚀剂剥离剂组合物作为高沸点单一溶剂来使用。本发明中，高沸点单一溶剂最好是极性或非极性溶剂。其中，极性溶剂虽然由于其特有的性质，过快分解或无法稳定在抗蚀剂的分解工序中可另外添加的臭氧或过氧化氢水等氧化剂，从而降低分解效率，但是其抗蚀剂剥离性能却很优秀。另外，非极性溶剂虽然其抗蚀剂剥离性能不如极性溶剂，但可以稳定臭氧或过氧化氢水等氧化剂。为了弥补这种溶剂的缺点，本发明通过添加催化剂或添加剂，稳定臭氧或过氧化氢水等氧化剂的同时，促进分解工序所需要的自由基的生成，或者添加胺、有机酸或其他添加剂来辅助剥离性能。
具体如下。本发明所涉及的抗蚀剂剥离剂组合物中，作为单一溶剂使用的成分是选自由化学式1表示的化合物、由化学式2、化学式3或化学式4表示的环状化合物、由化学式5表示的乙二醇类化合物以及由化学式6表示的碳酸盐化合物中的至少一种化合物。所述化合物不应在臭氧或过氧化氢水等氧化剂的作用下分解，且其沸点也应在120℃以上，并且在高温下其药液减少量也应该很少。本发明的这种化合物在抗蚀剂剥离剂组合物中可含有100重量份，其在组合物中作为溶剂来作用。
此外，本发明为了防止因药液中含有抗蚀剂而降低剥离性能，可加入能够分解抗蚀剂剥离工序中抗蚀剂成分中树脂和感光剂的催化剂及添加剂等，并且为了弥补因使用单一溶剂而降低的剥离性能，加入特定添加剂等。
本发明的抗蚀剂剥离剂组合物，在选自上述环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物中，还可进一步包含胺或有机酸、氧化剂、由上述化学式7或化学式8所表示的内酯类溶剂、或其混合物。
本发明的主要目的是，在作为溶剂来使用、并由选自所述环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物中加入氧化剂，藉此分解溶剂中的抗蚀剂。本发明的另一目的是，通过进一步添加胺或有机酸，提高溶剂本身所不足的抗蚀剂剥离性能，并提高氧化剂的效率。此时，即使使用胺、有机酸或氧化剂，为了进一步提高工艺效率，有必要通过溶剂中的胺、有机酸或者热来激活氧化剂的自由基生成。虽然胺或有机酸也可以起到一种提高自由基生成效率的催化剂作用，但是其功能更加符合根据一定的条件产生自由基的溶剂环境及提高抗蚀剂剥离性能，实际上需要将其与臭氧和过氧化氢水及氧化剂一起使用，从而提高自由基产生效率的催化剂、添加剂和与之匹配的装置。
另外，本发明所涉及的组合物通过加入胺、有机酸、内酯类化合物或其混合物，进一步改善抗蚀剂剥离性能及抗蚀剂分解性能。
本发明的抗蚀剂剥离剂组合物，可以是包含70-99.9重量份的选自上述环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物、以及0.1-30重量份的胺或有机酸的双组分组合物。
本发明的抗蚀剂剥离剂组合物，也可以是包含90-99.9重量份的选自上述环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物、以及0.01-10重量份的氧化剂的双组分组合物。此时，本发明的抗蚀剂剥离剂组合物，优选包含70-99.499重量份的选自环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物或者碳酸盐化合物、0.001-1重量份的臭氧及除臭氧以外的0.5-10重量份的氧化剂。
本发明的抗蚀剂剥离剂组合物，也可以是包含70-89.9重量份的选自环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物、10-50重量份的内酯类化合物及0.1-30重量的胺或有机酸份的三组分组合物。
本发明的抗蚀剂剥离剂组合物，还可以是包含70-89.99重量份的选自环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物、10-50重量份的内酯类化合物及0.01-10重量份氧化剂的三组分组合物。此时，本发明的抗蚀剂剥离剂组合物，最好是包含70-89.899重量份的选自环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物、10-50重量份的内酯类化合物、0.001-1重量份的臭氧及0.1-10重量份的除臭氧外氧化剂。
本发明的抗蚀剂剥离剂组合物，也可以是包含70-98.99重量份的选自上述环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物、1-30重量份的胺或有机酸及0.01-10重量份氧化剂的三组分组合物。
本发明的抗蚀剂剥离剂组合物，也可以是包含70-88.99重量份的选自环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物、10-50重量份的内酯类化合物、1-30重量份的胺或有机酸及0.01-10重量份氧化剂的四组分组合物。
本发明中，可用于单一组分组合物的上述环状化合物，优选选自环戊酮(cyclopentanone)、甲基环戊酮(methyl cyclopentanone)、乙酸四氢糠酯(tetrahydrofurfuryl acetate)、四氢吡喃-4-酮(Tetra hydro-pyran-4-one)及四氢吡喃-2-甲醇(tetrahydro pyran-2-methanol)中的至少一种化合物。而且，上述乙二醇类化合物，可选自乙二醇(ethylene glycol)、二甘醇(diethylene glycol)、三甘醇(triethylene glycol)、四甘醇(tetraethylene glycol)、乙二醇甲醚(ethylene glycol methyl ether)、乙二醇乙醚(ethylene glycol ethyl ether)、乙二醇丁醚(ethylene glycol butyl ether)、二甘醇甲醚(diethylene glycol methyl ether)、二甘醇乙醚(diethylene glycol ethyl ether)、二甘醇丁醚(diethylene glycol butyl ether)、三甘醇甲醚(triethylene glycol methyl ether)、三甘醇乙醚(triethylene glycol ethyl ether)、三甘醇丁醚(triethylene glycol butyl ether)、及二甘醇二甲醚(diethyleneglycol dimethyl ether)中的至少一种化合物。上述碳酸盐化合物，最好是选自碳酸二苄酯(dibenzyl Carbonate)、碳酸二乙酯(diethyl carbonate)及二碳酸二乙酯(diethyl dicarbonate)中的至少一种化合物。
本发明为二至四组分组合物时，选自环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物含量，可根据一起加入的化合物而改变。当其为包含胺或有机酸的双组分组合物时，选自上述环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物，基于全部组合物，优选使用70-99.9重量份；当其为包含氧化剂的双组分组合物，选自环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物，基于全部组合物，优选使用90-99.9重量份；当其包含臭氧及除臭氧外的氧化剂时，选自环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物，基于全部组合物，优选使用70-99.499重量份；当其为包含内酯类化合物及胺或有机酸的三组分组合物时，选自环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物，基于全部组合物，优选使用70-89.9重量份；当其为包含内酯类化合物及氧化剂的三组分组合物时，选自环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物，基于全部组合物，优选使用70-89.99重量份；当其包含臭氧及除臭氧外的氧化剂和内酯类化合物时，选自环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物，基于全部组合物，优选使用70-89.899重量份。在上述情况中，如果选自上述环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中的化合物含量低于其下限值，就会因为氧化剂、胺或有机酸的含量相对增加而导致金属布线的腐蚀及抗蚀剂剥离效率的降低；反之，如果高于其上限值，就会因为氧化剂、胺或有机酸的重量份相对减少而导致自由基的生成不足而难以分解抗蚀剂。
本发明所使用的胺或有机酸本身也有助于抗蚀剂的剥离，而且与抗蚀剂组分中的感光性化合物(PACphotoactive compound)进行反应，起到氧化感光性化合物的作用。所述感光性化合物，由于其存在于高分子之间，因此被氧化的感光性化合物，溶解在本发明中选自环状化合物及乙二醇类化合物中的化合物或者碳酸盐化合物中，且其高斯链变得松驰而呈易溶的状态。胺或有机酸在单一溶剂中，不仅可以对该单一溶剂所缺乏的抗蚀剂剥离性能起到辅助性的作用，还可以通过调整溶剂的pH值来调整酸度，以形成可供氧化剂在溶剂中易于形成自由基的条件，从而调整氧化剂的活性。例如，当pH值高于7.5时，将易于形成羟自由基；而pH值低于7.5时，可使溶剂中的氧化剂呈稳定状。
此时，胺可通过提高溶剂的pH值，来提高在高pH值条件下持续供给的臭氧或过氧化氢水等氧化剂的分解效率，并形成易于生成高反应性羟自由基的条件。这种羟自由基，可与溶剂中的抗蚀剂组合物进行反应而使之分解，同时还有助于剥离涂敷在基板上的抗蚀剂。上述胺优选是一级、二级、三级链胺或者环状胺，具体可以是选自单乙醇胺(monoethanol amine)、一异丙胺(mono isopropyl amine)、氨基乙氧基乙醇(Aminoethoxy ethanol)、甲基乙醇胺(methyl ethanol amine)、二乙醇胺(diethanol amine)、三乙醇胺(triethanolamine)、二甲基乙醇胺(dimethylethanol amine)、二乙基甲醇胺(diethyl metanol amine)、甲基二乙醇胺(methyl diethanol amine)、1-(2-羟乙基)-4-甲基哌嗪(1-(2-ydroxyethyl)-4-methyl piperazine)、N-甲基-N(N，N-二甲氨基乙基)-氨基乙醇(N-methyl-N(N，N-dimethylaminoethyl)-aminoethanol)、羟乙基哌嗪(hydroxyethyl piperazine)、氨乙基哌嗪(aminoethyl piperazine)及氨丙基吗啡(aminopropyl morphine)中的至少一种胺。
上述有机酸，可降低溶剂的pH值，从而将臭氧或过氧化氢水等氧化剂限制在规定量，并使之稳定地存在于溶剂中，且使其稳定地分解成羟自由基或氧自由基。上述有机酸优选使用羧酸(carboxylic acids)、二羧酸(dicarboxylic acid)及其酸酐(anhydride)。具体地可使用选自苯甲酸(benzoic acid)、甲基苯甲酸(methyl benzoic acid)、羟基苯甲酸(hydroxyl benzoic acid)、氨基苯甲酸(amino benzoic acid)、柠檬酸(citric acid)、丁二酸(succinic acid)、羟基丁二酸(malic acid)、顺丁烯二酸(maleic acid)、水杨酸(salicylic acid)、草酸(oxalic acid)、邻苯二甲酸(phthalic acid)、衣康酸(itaconic acid)、丁二酸酐(succinic anhydride)、邻苯二甲酸酐(phthalic anhydride)、衣康酸酐(itaconic anhydride)中的至少一种。
本发明中，当其为双组分或三组分组合物时，基于组合物总量100重量份，优选使用0.1-30重量份的胺或有机酸。如果胺或有机酸的含量低于0.1重量份，就会使对经过干式蚀刻等过程而改性的抗蚀剂的剥离性能下降，而且较难通过调整溶剂的pH值来形成自由基的生成环境；反之，如果超过30重量份，就会降低对溶胶化高分子的溶解能力，从而在总体上降低抗蚀剂剥离性能。
本发明组合物中的氧化剂，优选使用选自臭氧、过氧化氢水、叔丁基过氧化氢(tert-butyl hydrogen peroxide)、苯甲酰过氧化氢(benzoylhydrogen peroxide)、过氧化氢脲(urea hydrogen peroxide)、硝酸铵(ammonium nitrate)、甲酸铵(ammonium formate)、碳酸铵(ammonium carbonate)、重碳酸铵(ammonium bicarbonate)、醋酸铵(ammonium acetate)、氟化氢铵(ammonium hydrogen fluoride)、硫氰酸铵(ammonium thiocyanate)、硫酸铵(ammonium sulfate)、硫化铵(ammonium sulfide)、草酸铵(ammonium oxalate)、硫代硫酸铵(ammonium thiosulfate)中的至少一种，而最好使用臭氧。当使用臭氧时，最好同时使用除臭氧之外的一种以上氧化剂。此时，氧化剂最好是使用选自过氧化氢及铵盐中的化合物，而加入过氧化氢或铵盐等氧化剂时，必须先使其溶解在水中，这样才能见效。当同时使用臭氧和过氧化氢水时，其对抗蚀剂的分解性能可翻倍；当同时使用臭氧和铵盐时，可增加抗蚀剂分解性能，并能易于剥离在灰化工艺后所产生的变质抗蚀剂。当于选自上述环状化合物、乙二醇类化合物、碳酸盐化合物中加入过氧化氢水或铵盐，而不包含臭氧时，也可确认到其对抗蚀剂的分解能力，但可以发现与使用臭氧时相比，其对抗蚀剂成分中树脂的分解能力有所下降，而对感光剂的分解性能相同。因此，本发明中可混合使用一种以上氧化剂，而最好是单独使用臭氧，而且根据所需工艺可使用不同的氧化剂。
作为氧化剂使用的过氧化氢水、臭氧、铵盐等，可在特定条件下，生成羟自由基、氧自由基、铵自由基来分解抗蚀剂成分中的感光性化合物，以此直接降低溶剂中的抗蚀剂含量，不仅如此，还可提高溶剂本身所缺乏的对抗蚀剂的剥离性能。
此时，可作为氧化剂使用的臭氧，应通过臭氧发生器进行实时供给，而为了分解或剥离溶解在溶剂中的抗蚀剂及涂敷在基板上的抗蚀剂，溶剂中应溶解有50-100ppm左右的臭氧，最低也应包含30ppm以上时才能有助于抗蚀剂剥离性能。为了使臭氧有效地溶解在溶剂中，需在臭氧发生器和装有溶剂的容器之间设置接触器。这种臭氧在溶剂中的分解效率越高，对抗蚀剂的剥离效率就越高；而温度越高且羟基氧化物的含量越多，其分解速度也就越快。
在本发明的双组分至四组分的组合物中，基于每种组合物的总量100重量份，可使用0.01-10重量份的氧化剂。如果氧化剂的含量低于0.01重量份，就会因为所生成的自由基不足而难以分解抗蚀剂；如果超过10重量份，就会导致金属布线的腐蚀。在本发明的组合物中包含臭氧时，可使用0.001-1重量份的臭氧，而包含除臭氧之外的氧化剂时，可使用0.1-10重量份的氧化剂。
由上述化学式6或化学式7表示的内酯类化合物，可以是选自γ-丁内酯(gamma-butyrolactone)、γ-亚甲基γ-丁内酯(gamma methylenegamma-butyrolactone)、α-甲基γ-丁内酯(alpha-methyl gamma-butyrolactone)、α-亚甲基γ-丁内酯(alpha-methylene gamma-butyrolactone)、2-乙酰丁内酯(2-acetyl butyrolactone)、γ-己内酯(gamma-hexanolactone)、γ-壬内酯(gamma-nonanolactone)、δ-辛内酯(delta-octanolactone)、γ-戊内酯(gamma-valerolactone)、δ-戊内酯(delta-valerolactones)、δ-己内酯(delta-hexanolactone)中的至少一种化合物。
当本发明是三组分或四组分组合物时，基于组合物总量100重量份，可使用10-50重量份的内酯类化合物。如果其含量低于10重量份，就会使氧化剂及胺或有机酸的重量份相对增加而导致金属布线的腐蚀及抗蚀剂剥离性能的降低；如果超过50重量份，就会使氧化剂及胺或有机酸的重量份相对下降且由于自由基的生成不足而难以分解抗蚀剂。
本发明对如上抗蚀剂剥离剂组合物的制备方法不作特别的限定，可通过常规方法来进行配合，并将其用于剥离在电路或显示元件的布图中所使用的抗蚀剂。
下面，通过实施例进一步详细说明本发明。实施例只是用来说明本发明，而并不是用于限定本发明。另外，在下述实施例中，若无其他说明，其中百分比及混合比就以重量为基准。
实施例1-20根据下面表1的组分和含量，制造了抗蚀剂剥离剂组合物。
注上述表1中，TEG三甘醇(triethylene glycol)、BDG二甘醇丁醚(diethylene glycol butyl ether)、DMDG二甘醇二甲醚(diethylene glycol dimethyl ether)、GBLγ-丁内酯(gamma-butyrolactone)、ABL2-乙酰丁内酯(2-acetyl butyrolactone)、PhAA邻苯二甲酸酐(phthalic anhydride)、SAA丁二酸酐(succinic anhydride)、MEA单乙醇胺(monoethanol amine)、过水35重量％的过氧化氢水溶液、碳酸铵10重量％的碳酸铵水溶液。
试验例1-4是测试通过上述方法制造的抗蚀剂剥离剂组合物的抗蚀剂剥离性能及抗蚀剂分解性能的实验。
为了测试抗蚀剂剥离性能，制备了在玻璃上涂敷正性抗蚀剂(DTFR-3650B，东进世美肯株式会社)后，在140℃的温度条件下，烘烤10分钟(试片1)的试片和，在150℃的温度条件下，烘烤10分钟(试片2)的试片。对采用上述方式所制造的试片，测定了抗蚀剂剥离时间，试片大小为2cm×4cm。
为了测试抗蚀剂分解性能，在根据上述表1的组分所制造的抗蚀剂剥离剂组合物中，强行加入了3重量％的上述正性抗蚀剂(DTFR-3650B，东进世美肯株式会社公司制造)。使用臭氧时，通过调整臭氧发生器，使溶剂内的臭氧维持在60ppm以上。分别与臭氧进行4小时的反应之后，测试抗蚀剂的分解情况。通过在两个以上电极之间插入电介质，并在放电空间中，通过将氧转换成臭氧的放电法制造了臭氧，而臭氧接触装置使用表面积大且密封的容器。在这种臭氧接触装置中，使臭氧以微细气泡形式接触并溶解于溶剂中。
抗蚀剂的分解情况是通过紫外吸光度的检测来进行观察的。对每个试验组分别检测在280nm、350nm、550nm波长下的吸光度，并以％来表示相对于基准的分解情况。
通过利用上述试片及图3所示浸渍式装置，检测抗蚀剂剥离性能及分解性能，其结果表示在表2中。
从上述表2中可知，当抗蚀剂剥离剂组合物含有氧化剂、且安装有紫外灯的情况下，将其通过多相催化剂时，抗蚀剂分解效率最佳，而作为氧化剂含有过氧化氢水时，对抗蚀剂剥离性能的影响甚微。
而且，根据紫外灯的有无，其剥离性能有所不同，虽然抗蚀剂剥离剂组合物之间存在一些差异，但其差异也在5％左右，而当安装有紫外灯时，其分解效率优秀。
首先，在本试验中通过图4所示喷射式装置，检测抗蚀剂剥离性能及分解性能，其结果表示在表3中。
从上述表3的结果可知，与浸渍式抗蚀剂剥离装置一样，当抗蚀剂剥离剂组合物中含有氧化剂、且安装有紫外灯的情况下将其通过多相催化剂时，抗蚀剂分解效率最佳，而作为氧化剂含有过氧化氢水时，对抗蚀剂剥离性能的影响甚微。
但是，当采用喷射方式时，由于高于一定水平的喷力而产生物理力，其与浸渍方式相比，显示出较好的抗蚀剂剥离性能，而抗蚀剂分解能力则相似。
上述情况下，根据紫外灯的有无情况，其结果不同，虽然抗蚀剂剥离剂组合物之间存在一些差异，但其差异只有5％左右，而安装有紫外灯时，显示出突出的分解效率。
综上，使用本发明所涉及的抗蚀剂处理液再生方法及装置时，对残留在金属膜图案上抗蚀剂的剥离性能优秀，而且可分解工艺中所产生、并包含在抗蚀剂剥离剂组合物中的抗蚀剂成分。不仅如此，可以最大限度地减小在高温下因挥发而引起的成分变化及药液疲劳度。另外，不仅具有优秀的基板清洗能力，还可将处理液重新利用在抗蚀剂剥离工序中。
权利要求
1.一种抗蚀剂处理液的再生方法，其特征在于，包括工序使从抗蚀剂剥离工序所排出的含抗蚀剂处理液接触多相光催化剂；剥离及分解抗蚀剂。
2.根据权利要求1所述的抗蚀剂处理液的再生方法，其特征在于，在使所述抗蚀剂处理液与多相光催化剂进行接触之前，进一步包括工序使从抗蚀剂剥离工序所排出的含抗蚀剂处理液与臭氧进行接触，获得预处理液。
3.根据权利要求1所述的抗蚀剂处理液的再生方法，其特征在于所述抗蚀剂剥离工序包括，将具有抗蚀剂膜的基板浸渍于抗蚀剂剥离剂组合物中，或者在所述基板上喷射抗蚀剂剥离剂组合物，获得含抗蚀剂处理液。
4.根据权利要求1所述的抗蚀剂处理液的再生方法，其特征在于所述多相催化剂选自二氧化钛、通过热蒸镀或化学蒸镀法在珠子或二氧化硅上涂敷有二氧化钛的多相催化剂、以及搭载氧化亚铁或者氧化铁的二氧化钛中的至少一种。
5.根据权利要求2所述的抗蚀剂处理液的再生方法，其特征在于所接触的所述臭氧的量范围是10-50g/hr。
6.一种抗蚀剂处理液的再生装置，其特征在于，包括抗蚀剂剥离装置，其用于加入抗蚀剂剥离剂组合物，以剥离具有抗蚀剂膜的基板上的抗蚀剂，并排出含抗蚀剂处理液；催化剂接触装置，其填充有多相光催化剂，用于使从所述抗蚀剂剥离装置所供应的含抗蚀剂处理液接触多相光催化剂，以分解所述抗蚀剂。
7.根据权利要求6所述的抗蚀剂处理液的再生装置，其特征在于，进一步包括臭氧接触装置，其用于在所述多相光催化剂接触之前，使从所述抗蚀剂剥离工序排出的含抗蚀剂处理液与臭氧进行接触，以获得预处理液；臭氧发生器，其以10-50g/hr的量产生臭氧，并通过泵向所述臭氧接触装置供应臭氧。
8.根据权利要求6所述的抗蚀剂处理液的再生装置，其特征在于所述催化剂接触装置具备填充有多相光催化剂、且其孔径为100-1000μm的筛网及能够产生小于或等于365nm波长紫外线的紫外灯。
9.根据权利要求6所述的抗蚀剂处理液的再生装置，其特征在于所述多相催化剂选自二氧化钛、通过热蒸镀或化学蒸镀法在珠子或二氧化硅上涂敷二氧化钛的多相催化剂、以及搭载氧化亚铁或氧化铁的二氧化钛中的至少一种。
10.根据权利要求6所述的抗蚀剂处理液的再生装置，其特征在于，所述抗蚀剂剥离装置包括浸渍式抗蚀剂剥离装置，其用于在抗蚀剂剥离剂组合物中浸渍具有抗蚀剂膜的基板，以剥离所述抗蚀剂膜；或者喷射式抗蚀剂剥离装置，其设有喷嘴，用于向所述基板喷射从储存装置供应的抗蚀剂剥离剂组合物，以剥离抗蚀剂膜。
11.根据权利要求6至10中任何一项所述的抗蚀剂处理液的再生装置，其特征在于，温度控制装置，其用于调整加入到所述抗蚀剂剥离装置的处理液温度；控制装置，其用于控制所述催化剂接触装置上紫外灯的电源、臭氧发生器的电源，并控制泵的操作；供应管道，其用于输送处理液。
全文摘要
本发明涉及一种抗蚀剂处理液的再生方法及其装置。具体涉及一种从包含用于图形化电路或显示元件金属布线的抗蚀剂膜的基板上剥离抗蚀剂后，使从抗蚀剂剥离工序所排出的含抗蚀剂处理液接触多相光催化剂，从而剥离及分解抗蚀剂的方法及装置。该方法及装置不仅可以剥离残留在图形化金属膜上的抗蚀剂，还可以分解工艺过程中所产生的、并包含在处理液中的抗蚀剂成分，因此能够最大限度地减小在高温下因挥发而引起的成分变化及药液疲劳度，而且能够将对图形化金属膜的腐蚀降到最低。
文档编号C02F1/30GK101017334SQ200710000449
公开日2007年8月15日 申请日期2007年2月7日 优先权日2006年2月7日
发明者尹锡壹, 金圣培, 郑宗铉, 许舜范, 金柄郁 申请人:株式会社东进世美肯