本实用新型涉及光学膜生产设备领域，特别涉及一种光学膜清洗机。
背景技术：
光学膜由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学膜在金属或其他软性易侵蚀材料或薄膜表面，用以增加其强度或稳定性，改进光学性质。光学膜生产后通常附着在载附层上并进行收卷，再通过覆膜机将光学膜从在载附层上分离并覆膜在需要的平面上。
公告号为CN206622397U的中国专利公开了一种光学膜片清洁装置，它包括传送带和设置在所述传送带下方的四个支撑脚；所述传送带的两端均设置有滑轮；所述传送带上分别横向设置有两组粘尘滚轮和胶带滚轮；所述粘尘滚轮与所述胶带滚轮将所述传送带分成两段；所述粘尘滚轮和所述胶带滚轮分别与所述滑轮相接触，并在滑轮的转动作用力下转动；所述粘尘滚轮与所述胶带滚轮反向旋转。
这种光学膜清洁装置虽然能够实现对光学膜表面颗粒物的清洁，但考虑到实际生产过程中光学膜表面存在厚度以及平整度的合理误差，通过该清洁装置的光学膜片依然会附着一些未去除的杂质。
技术实现要素：
本实用新型的目的是提供一种光学膜清洗机，其优点是该清洗机能够实现对光学膜表面的双重清洁，提高清洁效果。
本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种光学膜清洗机，包括输送台和设置在输送台中部的清洁装置，所述清洁装置两侧的输送台上分别转动连接有输送带，所述输送台两端的侧壁设有驱动输送带转动的电机，所述清洁装置包括通过支架与输送台转动连接的清洁辊组一和清洁辊组二，所述清洁辊组一和清洁辊组二平行设置，所述清洁辊组一包括与支架转动连接的粘辊一和离子辊一，所述离子辊一设置于粘辊一远离输送台的一侧且保持与粘辊一抵触，所述清洁辊组二包括与支架转动连接的粘辊二和离子辊二，所述离子辊二设置于粘辊二远离输送台的一侧且与粘辊二抵触，所述粘辊二的表面设有凸粒，所述离子辊二的辊体上设有与凸粒配合的凹口。
通过上述技术方案，在输送台两端的侧壁设有电机，电机驱动输送带进行转动，将切割完成的光学膜经输送台输送通过输送台中部的清洁装置，清洁装置包括通过支架与输送台转动连接的清洁辊组一和清洁辊组二，清洁辊组一包括与支架转动连接的粘辊一和离子辊一，粘辊一与输送的光学膜表面抵触，实现对光学膜表面灰尘、杂质的粘除，粘辊一和离子辊一之间保持滚动抵触，利用离子辊一的特性能够将粘辊一上的杂质吸附在离子辊一上；清洁辊组二设置于清洁辊组一的一侧，包括了粘辊二和离子辊二，粘辊二的表面设有凸粒，离子辊二的表面设有与凸粒配合的凹口，从清洁辊组一清洁输送来的光学膜与粘辊二的表面抵触，实现对光学膜表面凹凸不平等部分内的杂质进行进一步去除，吸附的杂质随着粘辊二转动与离子辊二的抵触实现将杂质吸附至离子辊二表面，从而实现对光学膜表面的双重清洁，进一步提高最终清洁的效果。
本实用新型进一步设置为：所述清洁辊组一和清洁辊组二关于输送台的表面竖直对称设有两个。
通过上述技术方案，在输送台表面的上下方均设有清洁辊组一和清洁辊组二，有利于实现对光学膜上下两面的同时清洁，进一步提高了最终的清洁效果。
本实用新型进一步设置为：位于所述输送台上方的粘辊一和离子辊一通过转动块与支架滑动连接，所述支架上设有供转动块竖直滑移的滑槽，所述滑槽远离输送台的一端固定有液压缸，所述液压缸的顶升杆与转动块固定。
通过上述技术方案，粘辊一和离子辊一通过转动块与支架滑动连接，在支架上设有供转动块竖直滑移的滑槽，在滑槽远离输送台的一端固定有液压缸，液压缸的顶升杆与转动块固定，在液压缸的升降作用下，可以带动转动块沿滑槽的竖直活动，从而改变粘辊一和离子辊一的位置，能够满足不同厚度的光学膜的清洁工作，减小因为抵触不充分造成的清洁效果不佳。
本实用新型进一步设置为：所述粘辊一的辊体内设有压力感应器，所述输送台的一侧设有控制台，所述控制台内设有与压力感应器连接的控制模块。
通过上述技术方案，粘辊一辊体内设有的压力感应器能够及时感应粘辊一与光学膜的抵触压力，将检测的压力值反馈至控制台部分，控制台内的控制模块能够实现对液压缸的液压系统的控制，改变液压缸的伸缩进程，从而保证粘辊一和光学膜之间始终处于合理抵触程度，提高清洁的效果。
本实用新型进一步设置为：所述清洁装置外罩设有保护罩，所述保护罩与输送台拆卸连接。
通过上述技术方案，保护罩有利于对清洁装置内部进行保护，减小外界的污染、破坏，同时保护罩与输送台之间拆卸连接，方便了后期对清洁装置内部的清洁和维护。
本实用新型进一步设置为：所述输送台出料端所在的输送带上方设有防尘罩。
通过上述技术方案，防尘罩有利于对清洁完成的光学膜在向整理装置部分装叠的过程中实现保护，减少光学膜的二次污染，减小杂质的再次吸附。
本实用新型进一步设置为：所述输送台一端的下方转动连接有清洁辊，所述清洁辊与输送带的表面抵触。
通过上述技术方案，在输送台两端的下方转动连接有清洁辊，清洁辊与输送带的表面抵触，能够实现对输送带表面杂质的吸附，减少反复输送过程中输送带表面杂质粘附至光学膜上的现象。
本实用新型进一步设置为：所述输送台的下方设有支撑脚，所述支撑脚与地面抵触的一端设有减震块。
通过上述技术方案，通过在支撑角下方设置减震块，在实现整个输送台稳定放置的同时也减小了输送带工作过程产生的震动，实现平稳的输送和清洁工作，减小设备活动带来的清洁效果不佳。
综上所述，本实用新型具有以下有益效果：
1、清洁辊组一和清洁辊组二的组合能够实现对光学膜表面灰尘杂质的进一步清洁，减小光学膜表面凹凸不平处的杂质残留，提高最终清洁效果；
2、输送台两侧的清洁辊的设置有助于对输送带进行及时清洁，减小因为输送带表面的灰尘杂质吸附到光学膜上的现象。
附图说明
图1是用于展现实施例中的结构示意图；
图2是用于展现实施例中保护罩内部结构示意图；
图3是用于展现实施例中光学膜清洗机局部剖视图；
图4是图3中A处局部放大图；
图5是图3中B处局部放大图；
图6是用于展现实施例中清洁辊的位置示意图。
附图标记：1、输送台；11、输送带；12、电机；13、驱动电机；2、清洁装置；21、清洁辊组一；211、粘辊一；212、离子辊一；22、清洁辊组二；221、粘辊二；2211、凸粒；222、离子辊二；2221、凹口；3、支架；4、转动块；41、滑槽；32、液压缸；5、压力感应器；51、控制台；6、保护罩；7、防尘罩；8、清洁辊；9、支撑脚；91、减震块。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。
实施例：一种光学膜清洗机，如图1所示，包括输送台1和设置在输送台1中部的清洁装置2（如图2所示），清洁装置2两侧的输送台1上分别转动连接有输送带11，输送台1两端的侧壁设有驱动输送带11转动的电机12，电机12驱动输送带11进行转动输送，光学膜经输送带11的输送通过清洁装置2。
如图2所示，清洁装置2包括通过支架3与输送台1转动连接的清洁辊组一21和清洁辊组二22，清洁辊组一21包括与支架3转动连接的粘辊一211和离子辊一212，离子辊一212设置于粘辊一211远离输送台1的一侧且保持与粘辊一211抵触，在粘辊一211转轴的一端设有驱动粘辊一211转动的驱动电机13，从输送带11输送来的光学膜通过清洁装置2部分，光学膜的表面与粘辊一211抵触，随着不断输送前进，粘辊一211在驱动电机12的带动下在光学膜表面的相对滚动，从而实现对光学膜表面杂质的粘除，由于粘辊一211和离子辊一212保持抵触，粘辊一211的转动会带动离子辊一212同步转动，使吸附在粘辊一211表面的灰尘杂质随着粘辊一211的转动被离子辊一212吸附，使粘辊一211的表面保持洁净，从而实现对光学膜表面的充分吸附，减小因为粘辊一211表面不洁造成的清洁效果不稳定。
如图2所示，考虑到实际生产过程中，光学膜表面会出现部分凸凹不平的现象，粘辊一211对于类似光学膜部分的粘除吸附效果就无法得到保证，会出现清洁效果不佳的现象，为了实现进一步清洁，清洁辊组二22平行于清洁辊组一21设置在清洁辊组一21的一侧，清洁辊组二22包括与支架3转动连接的粘辊二221和离子辊二222，离子辊二222设置于粘辊二221远离输送台1的一侧且与粘辊二221抵触，在粘辊二221的表面设有弹性凸粒2211（如图5所示），离子辊二222的辊体上设有与凸粒2211配合的凹口2221（如图5所示），经清洁辊组一21清洁的光学膜向清洁辊组二22一侧输送，粘辊二221保持与光学膜的表面抵触，弹性凸粒2211与光学膜表面充分挤压接触，能够实现对光学膜表面难吸附区域灰尘杂质的去除工作，吸附在粘辊二221表面的杂质随着粘辊二221与离子辊二222的相对转动被离子辊二222吸附，提高了粘辊二221表面的洁净度，从而提高粘辊二221持续的粘除吸附效果。
如图2所示，考虑到仅通过设置在光学膜上方的一组清洁辊组一21和清洁辊组二22无法实现对光学膜双面的清洁，该光学膜清洗机中，清洁辊组一21、清洁辊组二22分别关于输送台1上光学膜所在平面对称设有两个，光学膜从上下两个粘辊一211之间通过，光学膜的上下两面在粘辊一211的挤压、粘附后实现对光学膜表面的清洁；同时，通过粘辊一211吸附处理后的光学膜通过粘辊二221部分，光学膜上下面抵触的两个粘辊二221有利于对光学膜上下面进行进一步清洁，粘辊二221上的弹性凸粒2211（如图5所示）始终保持对光学膜上下两面较难吸附的杂质实现吸附，并持续将光学膜进行输送。
如图2所示，在实际生产中，会发现光学膜产品虽然能够满足适当的厚度误差，但厚度上的差异会直接影响到光学膜清洁的效果，为了减小光学膜厚度变化带来的清洁效果不佳，位于输送的光学膜上方的粘辊一211和离子辊一212通过转动块4（如图4所示）与支架3（如图4所示）滑动连接，在支架3上设有供转动块4竖直滑移的滑槽41（如图4所示）。同时在滑槽41远离输送台1的一端固定有液压缸32，液压缸32的顶升杆与转动块4固定，在上方粘辊一211实际粘附工作过程中，液压缸32可以实现伸缩进程，从而带动转动块4沿滑槽41槽向的竖直升降，改变竖直方向两个粘辊一211之间的距离，使粘辊一211对光学膜的挤压抵触充分。为了实现对液压缸32的稳定控制，在粘辊一211的辊体内设有压力感应器5（如图5所示），能够实时对粘辊一211与光学膜之间的压力实现监测，在输送台1一侧设有控制台51（如图1所示），控制台51内的控制模块与压力感应器5连接，通过对压力感应器5监测的压力状态对液压缸32实现控制，同时控制模块控制液压系统对液压缸32的进给油量，从而控制粘辊一211和光学膜之间的合理压力范围，使之能够进行稳定的清洁动作。
如图2所示，由于整个光学膜的清洁工作均在无尘环境下进行，为了减小外界环境对清洁装置2内部工作的影响，在清洁装置2外罩设有保护罩6（如图1所示），保护罩6通过螺栓与螺母的配合方式与输送台1拆卸连接，能够实现对清洁装置2内部的保护，同时也方便了后续工作人员在对离子辊一212和离子辊二222的拆卸、清洁工作，便于日常的维护。
如图1所示，同时在输送台1出料端所在的输送带11上方设有防尘罩7，能够对清洁完成的光学膜进行保护，减少清洁完成后二次污染现象的出现。在输送台1两端的下方转动连接有清洁辊8，清洁辊8与输送带11的表面抵触，通过输送带11与清洁辊8（如图6所示）之间的挤压抵触，能够对输送带11上可能附着的杂质进行吸附，减少因为输送带11上的杂质影响光学膜表面清洁度。
如图6所示，整个光学膜清洗机在光学膜输送和清洁的过程中，整个设备会产生较大振动和抖动，为了减小设备的活动影响到光学膜的输送和清洁效果，在输送台1的下方设有支撑脚9，支撑脚9与地面抵触的一端设有减震块91，实现了对输送台1稳定支撑的同时还能够实现对设备振动等的及时缓冲。
本具体实施例仅仅是对本实用新型的解释，其并不是对本实用新型的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本实用新型的权利要求范围内都受到专利法的保护。