一种钛酸钙固相制备过程中的冲洗装置的制作方法

文档序号:17096213发布日期:2019-03-13 23:53阅读:186来源:国知局
一种钛酸钙固相制备过程中的冲洗装置的制作方法

本发明涉及冲洗装置技术领域,尤其涉及一种钛酸钙固相制备过程中的冲洗装置。



背景技术:

固相制备方法制取的钛酸钙的过程中会先生成太酸亚微米级颗粒球,然后将太酸亚微米级颗粒球与碳酸钙混合反应才能获得钛酸钙微纳颗粒球,在太酸亚微米级颗粒球与碳酸钙混合反应前为了保证混合反应制取的钛酸钙微纳颗粒球的纯度和性能需要对生成的太酸亚微米级颗粒球进行冲洗,但是由于太酸亚微米级颗粒球颗粒太小,冲洗时容易产生太酸亚微米级颗粒球颗粒的流失或冲洗不清的现象。



技术实现要素:

为克服现有技术中存在太酸亚微米级颗粒球颗粒太小,冲洗时容易产生太酸亚微米级颗粒球颗粒的流失或冲洗不清的现象的问题,本发明提供了一种钛酸钙固相制备过程中的冲洗装置。

一种钛酸钙固相制备过程中的冲洗装置,包括主体、盖板和控制中心,所述控制中心位于主体底部下方的侧边位置,所述主体包括搅拌装置、过滤装置和加热装置,所述搅拌装置设置在盖板下方与盖板相连接,所述搅拌装置横向设置有转轴,所述转轴与第一搅拌电机相连接,所述转轴尾部设置有压力传感装置,所述转轴上设置有搅拌杆,转轴下方设置有搅拌底板,搅拌底板为锥形底板,所述锥形底板两边与地面呈35~50度夹角,所述锥形底板中央部分为第一层过滤网,所述锥形底板下方设置有过滤装置,过滤装置底部设置有加热装置,所述过滤装置与加热装置之间设置有隔热板,所述加热装置包括电加热器以及温度传感器,所述搅拌装置、过滤装置和加热装置与控制中心电性连接。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述盖板包括进水口,所述进水口位于盖板一侧,所述进水口外侧连接水泵,所述进水口内侧设置有单向水流控制阀,所述进水孔与水管分流装置相连接,所述进水口连接盖板部底部设置的出水孔,所述水管分流装置连接盖板部底部设置的出水孔。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述搅拌装置与过滤装置之间设置有伸缩机构,所述伸缩机构为弹簧伸缩装置,所述弹簧伸缩装置设置于搅拌装置的四个角上,所述弹簧伸缩装置与压力传感装置受控于控制中心。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述过滤装置包括第一导流腔、缓冲腔、第二导流腔依次连接。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述第一导流腔上端四角设置有连接孔用于安装弹簧伸缩装置,所述第一导流腔的结构与搅拌底板的结构一致,所述第一导流腔底部设置有第二层过滤网。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述缓冲腔为上端中央部分开口的空腔结构,所述上端开口大小与跟第一导流腔相接触的部分大小一致。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述第二导流腔设置有第三、第四过滤部件,所述第三过滤部件的滤孔大于第四过滤部件的滤孔,所述第三、第四过滤部件的放置腔四周设置有漏水孔。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述第二导流腔设置有出水腔,所述出水腔的位置设置于漏水孔周边为密封结构,所述出水腔设置有出水管。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述过滤装置与加热装置设置有壳体,所述壳体包括前后左右四面,所述过滤装置与加热装置的前面设置有观察窗,所述观察窗为嵌入在壳体内部,观察窗与壳体之间使用粘合剂粘黏,所述观察窗为高纯二氧化硅玻璃,所述高纯二氧化硅玻璃外侧贴有防爆膜。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述加热装置底部行走机构,所述行走机构为履带式行走机构。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:1、本发明所述的钛酸钙固相制备过程中的冲洗装置的结构合理、功能实用、操作方便、冲洗效果好保证了工作效率的优点;2、本发明通过设置加热装置加大了水分的蒸发率,提高了原料的利用率;3、本发明通过设置行走机构,可以任意本装置的摆放位置,降低了机器转移的难度。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图和实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。

实施例1:

如图1所示,一种钛酸钙固相制备过程中的冲洗装置,包括主体、盖板1和控制中心20,所述控制中心位于主体底部下方的侧边位置,所述主体包括搅拌装置2、过滤装置和加热装置8,所述搅拌装置设置在盖板下方与盖板相连接,所述搅拌装置横向设置有转轴14,所述转轴与第一搅拌电机13相连接,所述转轴尾部设置有压力传感装置16,所述转轴上设置有搅拌杆15,转轴下方设置有搅拌底板,搅拌底板为锥形底板,所述锥形底板两边与地面呈35~50度夹角,所述锥形底板中央部分为第一层过滤网18,锥形底板两边为实心结构,确保原料以及水是从第一滤网粗滤过的,所述锥形底板上端设置有第一排渣口,排除第一滤网所滤不掉的杂质。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述锥形底板下方设置有过滤装置,过滤装置底部设置有加热装置,所述过滤装置与加热装置之间设置有隔热板,所述加热装置包括电加热器22以及温度传感器,所述搅拌装置、过滤装置和加热装置与控制中心电性连接。所述温度传感器检测到加热装置所到达的温度反馈给控制中心,控制中心控制加热装置的继续开启还是暂停运行,当温度传感器的温度达到最高值时,控制中心控制加热装置暂停加热,当停止加热时间过长时,温度降到最低值时,控制中心控制加热装置的开启。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述盖板包括进水口10,所述进水口位于盖板一侧,所述进水口外侧连接水泵11,所述进水口内侧设置有单向水流控制阀,可以防止水流倒流,所述进水孔与水管分流装置相连接,所述进水口连接盖板部底部设置的出水孔12,所述水管分流装置连接盖板部底部设置的出水孔,对出水进行分流。所述出水孔设置为6-10个,方便操作。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述搅拌装置与过滤装置之间设置有伸缩机构17,所述伸缩机构为弹簧伸缩装置,所述弹簧伸缩装置设置于搅拌装置的四个角上,所述弹簧伸缩装置与压力传感装置受控于控制中心,控制中心接收压力传感装置的压力信号,当压力值大于设定值时控制中心控制弹簧伸缩装置进行伸缩运动。所述弹簧伸缩装置为电机驱动弹簧,所述弹簧与第一搅拌电机相连接,由第一搅拌电机提供伸缩的动力。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述过滤装置包括第一导流腔3、缓冲腔4、第二导流腔5依次连接。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述第一导流腔上端四角设置有连接孔用于安装弹簧伸缩装置,所述第一导流腔的结构与搅拌底板的结构一致,所述第一导流腔底部设置有第二层过滤网19。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述缓冲腔为上端中央部分开口的空腔结构,所述上端开口大小与跟第一导流腔相接触的部分大小一致。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述第二导流腔设置有第三、第四过滤部件,所述第三过滤部件6的滤孔大于第四过滤部件7的滤孔,所述第三、第四过滤部件的放置腔四周设置有漏水孔,使过滤出的水经漏水孔进入出水腔。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述第三、第四过滤部件中间位置设置有颗粒导出机构21,所述颗粒导出机构下端延伸进入加热装置,对导出的颗粒进行加热。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述第二导流腔设置有出水腔,所述出水腔的位置设置于漏水孔周边为密封结构,所述出水腔设置有出水管,所述出水管连接过滤装置右侧下方设置的废水出水口。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述过滤装置与加热装置设置有壳体,所述壳体包括前后左右四面,所述过滤装置与加热装置的前面设置有观察窗,所述观察窗为嵌入在壳体内部,观察窗与壳体之间使用粘合剂粘黏,所述观察窗为高纯二氧化硅玻璃,所述高纯二氧化硅玻璃外侧贴有防爆膜。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述加热装置侧面设置有原料出口,所述原料出口通过传送机构传送至原料收集装置。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述加热装置底部行走机构9,所述行走机构为履带式行走机构。

进一步,在本发明的一种实施方式中,第一层过滤网的网孔大于第二层过滤网的网孔,所述第三过滤部件的滤孔大于第四过滤部件的滤孔,第二层过滤网的网孔也大于第三过滤部件的滤孔,所述第三过滤部件和第四过滤部件为圆柱形结构。

进一步,在本发明的一种实施方式中,所述缓冲腔底部设置有辅助过滤网,所述缓冲腔内壁下侧设置有第二出渣口,所述辅助过滤网过滤的残渣通过第二出渣口进入设置在过滤装置内壁的废渣收集装置中。第三过滤部件和第四过滤部件过滤的废料通过设置在第二导流腔下方的侧壁设置的第三出渣口进入废渣收集装置。

实施例2:

一种钛酸钙固相制备过程中的冲洗装置,在冲洗前将需要被冲洗的原料放置于搅拌装置内部,然后利用转轴、搅拌杆及第一搅拌电机的作用,使得原料搅拌均匀,利用盖板设置进水口,引进水源,盖板部底部设置的出水孔,对出水进行分流,使搅拌装置在搅拌的状态下可轻松过滤一部分原料,搅拌过程中可以使大的原料相互挤压然后分散成小块,增加原料的利用率。在过滤装置中设置第一导流腔、缓冲腔、第二导流腔依次连接,在缓冲腔内下侧使用过辅助过滤网以及第二出渣口,收集析出的废料,进入废渣收集装置,第三过滤部件和第四过滤部件析出的废料也同样进入进入废渣收集装置,将有用的原料通过颗粒导出机构导出进入加热装置,使原料通过加热装置加热排除原料中的水分。

实施例3:

一种钛酸钙固相制备过程中的冲洗装置,该钛酸钙固相制备过程中的冲洗装置还可以用在钛酸镁、钛酸钡等的生产过程中。

上述说明示出并描述了本发明的优选实施例,如前所述,应当理解本发明并非局限于本文所披露的形式,不应看作是对其他实施例的排除,而可用于各种其他组合、修改和环境,并能够在本文所述发明构想范围内,通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本发明的精神和范围,则都应在本发明所附权利要求的保护范围内。

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