半导体衬底晶片生产废水处理系统的制作方法

文档序号:25159316发布日期:2021-05-25 12:45阅读:77来源:国知局
半导体衬底晶片生产废水处理系统的制作方法

本实用新型涉及废水处理技术领域,具体为半导体衬底晶片生产废水处理系统。



背景技术:

在半导体器件生产加工时,需要对半导体衬底晶片的主面进行抛光、清洗等工艺,以获得高质量的衬底晶片,再在衬底晶片的主面用分子束外延技术或有机金属化合物气相外延技术生长外延结构。

对半导体衬底晶片进行加工时产生的腐蚀性废水,必须经中和处理合格后才能进行排放,现有的废水处理系统是将废水与中和剂混合至酸碱平衡后直接排放,其中掺杂或产生的杂质没有经过分离再处理,直接排放会造成一定的污染,为了解决上述问题,我们提出半导体衬底晶片生产废水处理系统。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供半导体衬底晶片生产废水处理系统,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:半导体衬底晶片生产废水处理系统,包括支架,所述支架的数量为两个,两个所述支架之间固定安装有中和箱和排液斗,所述中和箱的上表面右侧固定安装有进液管,所述中和箱的下端固定安装有电磁阀,所述中和箱的下表面左侧固定安装有驱动装置,所述驱动装置的右侧安装有过滤装置,所述过滤装置位于排液斗的上侧,所述过滤装置包括安装在驱动装置内侧的支撑筒,所述支撑筒的内部下端固定安装有过滤网,所述过滤网为半球形结构,所述过滤网的下端固定安装有振动器,所述支撑筒和过滤网的内侧紧密贴合有复合过滤袋,所述复合过滤袋的开口位于电磁阀的下侧。

优选的,所述驱动装置包括固定安装在中和箱下表面左侧的转动电机,所述转动电机的输出轴下端固定安装有翻转电机,所述翻转电机的输出轴右端固定安装有支撑框,所述支撑框的内表面均匀固定安装有空气弹簧件的一端,所述空气弹簧件的另一端与支撑筒外表面固定装配。

优选的,所述中和箱的上端固定安装有搅拌器,所述搅拌器的搅拌架转动安装在中和箱的内部。

优选的,所述中和箱的上表面左侧固定安装有投药管和清水管的一端,所述投药管的另一端与外部给药系统连接装配,所述清水管的另一端与清水供给系统连接装配。

优选的,所述中和箱的内部下侧固定安装有ph测量计。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该半导体衬底晶片生产废水处理系统,能够在中和废水后,对合格水中掺杂或产生的杂质进行过滤分离,以便无害化处理,使排放的水更安全环保。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意剖视图。

图2为本实用新型过滤装置的结构示意剖视图。

图中:1支架、2排液斗、3驱动装置、31转动电机、32翻转电机、33支撑框、34空气弹簧件、4过滤装置、41支撑筒、42过滤网、43复合过滤袋、44振动器、5中和箱、6投药管、7清水管、8搅拌器、9进液管、10、ph测量计、11电磁阀。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1、图2,本实用新型提供一种技术方案:半导体衬底晶片生产废水处理系统,包括支架1,支架1的数量为两个,两个支架1之间固定安装有中和箱5和排液斗2,中和箱5的上表面右侧固定安装有进液管9,中和箱5的下端固定安装有电磁阀11,中和箱5的下表面左侧固定安装有驱动装置3,驱动装置3的右侧安装有过滤装置4,过滤装置4位于排液斗2的上侧。

支架1起支撑固定作用,通过进液管9能够向中和箱5内输入废水;电磁阀11能够控制中和水的排放,排液斗2能够将过滤装置4过滤后的合格水收集并排放,杂质经驱动装置3向左侧转移集中倾倒至回收箱中待处理。

过滤装置4包括安装在驱动装置3内侧的支撑筒41,支撑筒41的内部下端固定安装有过滤网42,过滤网42为半球形结构,过滤网42的下端固定安装有振动器44,支撑筒41和过滤网42的内侧紧密贴合有复合过滤袋43,复合过滤袋43的开口位于电磁阀11的下侧。

过滤装置4中的支撑筒41能够对过滤网42进行固定,复合过滤袋43能够对经过的液体进行精细过滤,振动器44能够使过滤网42、复合过滤袋43产生振动,在翻转后有利于杂质的倾倒。

驱动装置3包括固定安装在中和箱5下表面左侧的转动电机31,转动电机31的输出轴下端固定安装有翻转电机32,翻转电机32的输出轴右端固定安装有支撑框33,支撑框33的内表面均匀固定安装有空气弹簧件34的一端,空气弹簧件34的另一端与支撑筒41外表面固定装配。

驱动装置3中的转动电机31能够带动翻转电机32等装置,水平向左侧转动180度,翻转电机32能够翻转支撑框33、过滤装置4等结构180度,将过滤袋43开口朝下,与放置好的回收箱对应,空气弹簧件34能够吸收支撑筒41上的振动,避免传递到支撑框33上,使设备整体振动。

中和箱5的上端固定安装有搅拌器8,搅拌器8的搅拌架转动安装在中和箱5的内部。

搅拌器8能够对中和箱5中的废水和中和剂进行混合搅拌,使反应快速、充分进行。

中和箱5的上表面左侧固定安装有投药管6和清水管7的一端,投药管6的另一端与外部给药系统连接装配,清水管7的另一端与清水供给系统连接装配。

通过投药管6能够将外部给药系统中的中和剂导入中和箱5内与废水混合,清水管7能够将外部清水供给系统的清水导入中和箱5中进行冲洗。

中和箱5的内部下侧固定安装有ph测量计10。

通过ph测量计10能够实时检测中和箱5内部混合液的酸碱值,并将数据传递给控制箱。

工作原理:振动器44、转动电机31、翻转电机32、搅拌器8、ph测量计10通过导线与外部控制箱电连接。工作时,将废液经进液管9导入中和箱5中,ph测量计10检测中和箱5内部废水的酸碱值,通过投药管6将外部给药系统中的中和剂导入中和箱5内,同时搅拌器8进行搅拌混合处理;达到合格酸碱值时,电磁阀11开启,液体经复合过滤袋43过滤后向下落入排液斗2中集中排放;滞留在复合过滤袋43上的杂质,通过转动电机31向左翻转、翻转电机32向下翻转后,将过滤袋43开口朝下,与放置好的回收箱对应,同时振动器44产生振动,有利于杂质的充分脱离,空气弹簧件34能够吸收支撑筒41上的振动,避免传递到支撑框33上,使设备整体振动;完成后复位,根据需求,经清水管7将外部清水供给系统的清水导入中和箱5中进行全面冲洗。

对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

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