专利名称：连续处理电镀废水的旋流澄清装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及是一种电镀废水的后处理设备，尤其是连续处理电镀废水的旋流澄清装置。
背景技术：
目前对于中小规模的电镀企业，由于其废水水量不大、水量水质变化较大、废水中的物质回收价值不高，其经济有效的处理方法仍然是化学沉淀法。传统化学法处理工艺主要包括前处理、后处理、污泥脱水三部分，其中后处理大都采用斜管沉淀和砂滤，虽然这种工艺流程简单、上马快，但沉淀池、砂滤池占地面积大，砂滤池反冲洗困难。并且，电镀废水中常含有表面活性剂以及电镀溶剂，废水中的化学需氧量(CODCr)为180～260mg/L，传统的后处理工艺由于缺少化学需氧量(CODCr)去除的有效工艺导致出水CODCr往往达不到污水综合排放标准。因此不适合中小规模电镀企业的废水处理。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种将沉淀、过滤、澄清于一体的连续处理电镀废水的旋流澄清装置。
本实用新型的连续处理电镀废水的旋流澄清装置，包括壳体，在壳体内自内向外依次同轴线套置有内筒、档圈和下小上大的锥形筒，内筒的下段为圆柱形筒，上段筒径逐渐扩展呈喇叭状形成反应室，在内筒的下端开有回流孔，进水管伸入壳体与内筒下端相切连通，内筒与档圈之间的空间构成污泥循环室，锥形筒的大端周向与壳体的内壁相连，锥形筒的小端周向与档圈和壳体底部的连接处相连，锥形筒外壁与壳体形成的腔体为净水室，锥形筒的内壁与档圈之间的空间构成集泥槽，净水室设有出水管引出壳体，集泥槽设有排泥管引出壳体，在内筒的反应室外同轴线套有筒，筒的外壁与壳体的内壁间固定有上环形板和下环形板并形成污泥沉降室，该筒高出反应室的喇叭口和上环形板，在下环形板上绕周向有孔与排布在污泥沉降室中的斜管相通，在斜管的上方设有泡沫滤珠层，上环形板上有出水口，出水口上设有滤帽，在上环形板与筒外壁和壳体内壁围成的空间，环绕壳体内壁装置有溢流槽，与溢流槽相通的净水管的一端插入净水室中。
本实用新型装置运行时，在电镀废水投加聚丙烯酰胺(PAM)，电镀废水经进水管从切线方向进入内筒中，电镀废水沿内筒旋转向上的过程中快速而均匀地与PAM混合，产生涡体，为细小的重金属氢氧化物沉淀物提供了良好的絮凝条件，提高了絮凝效果缩短了絮凝时间。
水流沿内筒旋转加速到达反应室后，由于反应室的直径逐渐扩大，流速降低，絮体逐渐长大，当水溢出内筒喇叭口后流速减慢，停留时间增加，促使形成大的絮体快速沉淀。
由于停留时间增加，部分尺寸较大的颗粒直接沉入内筒与档圈之间的污泥循环室，而水流再经过污泥沉降室的斜管沉淀和泡沫滤珠层过滤后，污泥沿斜管沉入集泥槽中，通过静水压从排泥管排出体外，清水从滤帽出来后流入溢流槽中，通过净水管到达净水室中，最后从出水口排放。
由于在内筒里形成旋流反应，底部负压区能将污泥循环室的污泥从回流孔吸入内筒，进行循环。由于污泥具有较大的比表面，采用澄清工艺将其进行循环，利用它的吸附表面能有效地去除废水中的CODCr。
本实用新型将电镀废水后处理的旋流混合、澄清、沉淀、过滤、污泥循环有机融为一体，集成在一个装置中完成。该装置具有占地面积小、CODCr去除率高、出水水质好、可动态连续处理等优点，试验表明对于总铬、总铜、总氰化物浓度分别为6.72、18.40、22.10mg/L的电镀废水经本装置处理后，出水的总铬、总铜、总氰化物去除率分别达到93.3％、97.4％、99.9％。废水CODCr从初始的240mg/L左右经过旋流澄清后降至60mg/L左右。该装置适合在中小型电镀企业中推广应用。
图1是连续处理电镀废水的旋流澄清装置的结构示意图；图2是图1的俯视图。
具体实施方式
参照图1、图2，连续处理电镀废水的旋流澄清装置包括壳体20，在壳体20内自内向外依次同轴线套置有内筒4、档圈21和下小上大的锥形筒7，内筒4的下段为圆柱形筒，上段筒径逐渐扩展呈喇叭状形成反应室13，在内筒的下端开有回流孔17，进水管1伸入壳体20与内筒下端相切连通，内筒4与档圈21之间的空间构成污泥循环室16，锥形筒7的大端周向与壳体20的内壁相连，锥形筒7的小端周向与档圈21和壳体20底部的连接处相连，锥形筒7外壁与壳体20形成的腔体为净水室18，锥形筒7的内壁与档圈21之间的空间构成集泥槽3，档圈21高度约为内筒4的圆柱形筒段高度的二分之一，净水室18设有出水管19引出壳体，集泥槽3设有排泥管2引出壳体，在内筒4的反应室13外同轴线套有筒11，筒11的外壁与壳体20的内壁间固定有上环形板9和下环形板5并形成污泥沉降室6，筒11高出反应室13的喇叭口和上环形板9，在下环形板5上绕周向有孔与排布在污泥沉降室6中的斜管14相通，在斜管14的上方设有泡沫滤珠层8。为了达到良好的污泥沉降效果，通常使斜管14与水平方向呈60度夹角。上环形板9上有出水口，出水口上设有滤帽12，在上环形板9与筒11外壁和壳体20内壁围成的空间，环绕壳体20的内壁装置有环形溢流槽10，溢流槽10中装有净水管15，与溢流槽10相通的净水管15的一端穿越上、下环形板9、5和锥形筒7的壁置入净水室18中。
权利要求1.连续处理电镀废水的旋流澄清装置，其特征是包括壳体(20)，在壳体(20)内自内向外依次同轴线套置有内筒(4)、档圈(21)和下小上大的锥形筒(7)，内筒(4)的下段为圆柱形筒，上段筒径逐渐扩展呈喇叭状形成反应室(13)，在内筒的下端开有回流孔(17)，进水管(1)伸入壳体(20)与内筒下端相切连通，内筒(4)与档圈(21)之间的空间构成污泥循环室(16)，锥形筒(7)的大端周向与壳体(20)的内壁相连，锥形筒(7)的小端周向与档圈(21)和壳体(20)底部的连接处相连，锥形筒(7)外壁与壳体(20)形成的腔体为净水室(18)，锥形筒(7)的内壁与档圈(21)之间的空间构成集泥槽(3)，净水室(18)设有出水管(19)引出壳体，集泥槽(3)设有排泥管(2)引出壳体，在内筒(4)的反应室(13)外同轴线套有筒(11)，筒(11)的外壁与壳体(20)的内壁间固定有上环形板(9)和下环形板(5)并形成污泥沉降室(6)，筒(11)高出反应室(13)的喇叭口和上环形板(9)，在下环形板(5)上绕周向有孔与排布在污泥沉降室(6)中的斜管(14)相通，在斜管(14)的上方设有泡沫滤珠层(8)，上环形板(9)上有出水口，出水口上设有滤帽(12)，在上环形板(9)与筒(11)外壁和壳体(20)内壁围成的空间，环绕壳体(20)内壁装置有溢流槽(10)，与溢流槽(10)相通的净水管(15)的一端插入净水室(18)中。
2.根据权利要求1所述的连续处理电镀废水的旋流澄清装置，其特征是斜管(14)与水平方向呈60度夹角。
专利摘要本实用新型涉及的连续处理电镀废水的旋流澄清装置包括在壳体内自内向外依次同轴线套置内筒、档圈和下小上大的锥形筒，内筒的下段为圆柱形，上段筒径逐渐扩展呈喇叭状，进水管伸入壳体与内筒下端相切连通，锥形筒的大端周向与壳体内壁相连，锥形筒的小端周向与档圈和壳体底部的连接处相连，在内筒的反应室外同轴线套有筒，筒的外壁与壳体的内壁间固定有上环形板和下环形板，在上、下环形板之间设有斜管和泡沫滤珠层，在上环形板上方环绕壳体的内壁装置有溢流槽，溢流槽与排放净水的管道相通。该装置将电镀废水后处理的旋流混合、澄清、沉淀、过滤有机集成于一体，具有占地面积小、COD
文档编号B01D36/00GK2776990SQ200520101139
公开日2006年5月3日 申请日期2005年3月23日 优先权日2005年3月23日
发明者雷乐成, 周明华, 邵振华 申请人:浙江大学