涂布装置及清洗方法与流程

本发明涉及一种将被涂布材料涂布于成为处理对象的面上的涂布装置及所述涂布装置的清洗方法。

背景技术：

目前，在液晶显示装置用玻璃基板、半导体晶片、等离子显示面板(plasma display panel，PDP)用玻璃基板、光掩膜用玻璃基板、彩色滤光片用基板、记录磁盘用基板、太阳能电池用基板、电子纸(electronic paper)用基板等精密电子装置用基板的制造工序中，是使用在基板的表面涂布光阻剂等被涂布材料的涂布装置。关于现有的涂布装置，例如记载于专利文献1中。专利文献1的涂布装置是一边使喷嘴相对于基板相对地移动，一边从设置于喷嘴上的狭缝状的喷出口，将被涂布材料喷出至基板的表面。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2007-253093号公报

在这种涂布装置中，需要对喷嘴的内部及与喷嘴连接的配管的内部定期进行清洗。在清洗时，将有机溶剂等淋洗液经由配管供给至喷嘴的内部。当被涂布材料的粘度低，并且被涂布材料的粘度与淋洗液的粘度的差小时，可利用淋洗液容易地冲洗掉附着于喷嘴的内部或配管的内壁的被涂布材料。

然而，当使用高粘度的被涂布材料时，则难以利用低粘度的淋洗液冲洗掉附着于喷嘴的内部或配管的内壁的被涂布材料。因此，清洗耗费时间，并且淋洗液的用量增大。而且，当使用高粘度的被涂布材料时，为了确保被涂布材料的流动性，需要增大配管的内径。因此，难以使淋洗液与大直径的配管的整个内壁接触。

近年来，在柔性器件(flexible device)或电池的制造工序中，将高粘度的被涂布材料涂布于成为处理对象的面上的装置的需求提高。伴随于此，对 附着有高粘度的被涂布材料的喷嘴及配管的内部有效率地进行清洗的技术增加了重要性。

技术实现要素：

本发明是鉴于如上所述的情况而完成的，目的在于提供一种可利用粘度低于被涂布材料的淋洗液对附着于供给配管的内壁的被涂布材料有效率地进行清洗的涂布装置及清洗方法。

为了解决所述问题，本发明的第1形态是一种涂布装置，将作为流体的被涂布材料涂布于成为处理对象的面上，所述涂布装置包括：喷嘴，包含喷出流体的喷出口；供给机构，向所述喷嘴选择性地供给所述被涂布材料及淋洗液，所述淋洗液是粘度低于所述被涂布材料的流体；以及控制部，对所述供给机构进行控制，并且所述供给机构包括：供给配管，与所述喷嘴连接；以及流速切换元件，在所述供给配管内使流体的速度发生变化，所述控制部在供给所述淋洗液时使所述流速切换元件动作。

本发明的第2形态根据第1形态的涂布装置，其中所述流速切换元件包括设置于所述供给配管上的开关阀。

本发明的第3形态根据第1形态的涂布装置，其中所述流速切换元件包括设置于所述供给配管上的泵。

本发明的第4形态根据第1形态至第3形态中任一形态的涂布装置，其中所述控制部在供给所述淋洗液时，使所述流速切换元件每隔规定的时间反复地动作。

本发明的第5形态根据第1形态至第4形态中任一形态的涂布装置，还包括：排出配管，用于从所述喷嘴排出气体；以及减压机构，使所述排出配管内产生负压，并且所述控制部在供给所述淋洗液时使所述减压机构动作。

本发明的第6形态根据第5形态的涂布装置，其中所述减压机构包括连接着所述排出配管的下游侧的端部的减压槽，从所述喷嘴流入至所述排出配管的淋洗液积存于所述减压槽内，并且所述涂布装置还包括将积存于所述减压槽内的淋洗液再次供给至所述供给机构的循环机构。

本发明的第7形态根据第5形态或第6形态的涂布装置，其中所述喷出口是设置于所述喷嘴的下部的狭缝状的开口，所述排出配管与设置于所述喷 嘴的上部的排出口连接。

本发明的第8形态是一种清洗方法，在将作为流体的被涂布材料从供给配管供给至喷嘴并从所述喷嘴的喷出口加以喷出的涂布装置中，利用淋洗液对所述供给配管及所述喷嘴进行清洗，所述淋洗液是粘度低于所述被涂布材料的流体，所述清洗方法包括如下工序：a)开始从所述供给配管向所述喷嘴供给所述淋洗液；以及b)在所述工序a)之后，使所述供给配管内的所述淋洗液的流速发生变化。

本发明的第9形态根据第8形态的清洗方法，其中在所述工序b)中，使所述淋洗液的流速每隔规定的时间反复地发生变化。

本发明的第10形态根据第8形态或第9形态的清洗方法，还包括如下工序：c)使排出配管内产生负压，所述排出配管用于从所述喷嘴排出气体。

本发明的第11形态根据第10形态的清洗方法，还包括如下工序：d)将在所述工序c)中流入至所述排出配管的所述淋洗液再次供给至所述供给配管的上游侧。

根据本发明的第1形态～第11形态，可在供给配管内使淋洗液的流速发生变化。由此，可对附着于供给配管的内壁的被涂布材料有效率地进行清洗。

特别是，根据本发明的第2形态，可不使供给机构的构成复杂化而使淋洗液的流速发生变化。

特别是，根据本发明的第3形态，可借由对泵的压力进行选择来使淋洗液的流速变为所需的值。

特别是，根据本发明的第4形态及第9形态，可进一步提高利用淋洗液的清洗效果。

特别是，根据本发明的第5形态及第10形态，由供给机构供给的淋洗液流入至排出配管内。由此，可对排出配管的内部进行清洗。

特别是，根据本发明的第6形态及第11形态，可对暂且用过的淋洗液加以再利用。由此，可降低淋洗液的用量。

特别是，根据本发明的第7形态，供给至喷嘴的内部的淋洗液流向上部的排出口。因此，淋洗液对堵塞喷出口的被涂布材料的压力得以减轻。其结果使得可彻底冲洗掉堵塞喷出口的被涂布材料。因此，不容易变成仅从狭缝状的喷出口的一部分喷出淋洗液的状况。

附图说明

图1是涂布装置的立体图。

图2是狭缝喷嘴的立体图。

图3是表示狭缝喷嘴的内部的流路的图。

图4是表示与狭缝喷嘴连接的配管系统的构成的图。

图5是表示控制部与配管系统的各部的连接构成的框图。

图6是表示清洗处理的流程的流程图。

图7是表示清洗处理过程中的狭缝喷嘴内的样子的图(本实施方式)。

图8是表示清洗处理过程中的狭缝喷嘴内的样子的图(比较例)。

图9是表示第3开关阀或第4开关阀的开关动作的示例的时间图。

图10是表示变形例的涂布装置内的配管系统的构成的图。

[符号的说明]

1：涂布装置

9：基板

10：平台

11：基板保持面

20：狭缝喷嘴

21：喷嘴主体

22：供给口

23：喷出口

24：排出口

30：喷嘴保持部

31：交联部

32：支持部

33：升降机构

40：移行机构

41：移行轨道

42：线性马达

50：控制部

51：运算处理部

52：存储器

53：存储部

60：供给机构

61：被涂布材料供给源

62：第1供给配管

63：第1开关阀

64：淋洗液供给源

65：第2供给配管

66：第2开关阀

67：脱气槽

68：主供给配管

69：供给泵

70：分支供给配管

71：第3开关阀

72：第4开关阀

73：第1空气供给源

74：第1空气供给配管

75：第1空气用开关阀

76：摆动泵

80：排出机构

81：排出配管

82：第5开关阀

83：减压槽

84：减压泵

90：循环机构

91：循环配管

92：第6开关阀

93：第2空气供给源

94：第2空气供给配管

95：第2空气用开关阀

210：流路

211：喷嘴构件

212：喷嘴构件

213：侧板

214：侧板

421：固定单元

422：移动单元

M：被涂布材料

S1～S5：步骤

具体实施方式

以下，一边参照附图，一边对本发明的实施方式进行说明。再者，以下，为了便于说明，将涂布装置中的狭缝喷嘴20的移动方向称为“前后方向”，将与前后方向正交的水平方向称为“左右方向”。

<1.关于涂布装置的构成>

图1是本发明的一实施方式的涂布装置1的立体图。所述涂布装置1是在柔性器件的制造工序中，在玻璃制的载体基板(carrier substrate)9的上表面上涂布具有流动性的被涂布材料(例如，聚酰亚胺等树脂)的装置。涂布于基板9的上表面的被涂布材料在其后经固化而成为薄膜。并且，在所述薄膜的表面上形成电极等的图案，并从基板9剥下所述薄膜，由此形成柔性器件。

如图1所示，本实施方式的涂布装置1包括平台10、狭缝喷嘴20、喷嘴保持部30、移行机构40及控制部50。

平台10是对基板9进行载置并加以保持的大致长方体状的保持台。平台10例如由一体的石材所形成。平台10的上表面成为平坦的基板保持面11。在基板保持面11上，设置有多个真空吸附孔(省略图示)。当将基板9载置于基板保持面11时，借由真空吸附孔的吸力，基板9的下表面吸附于基板保持面11。由此，将基板9以水平姿势固定于平台10上。并且，在平台10的内部，设置有多个顶升销(lift pin)。当从平台10搬出基板9时，多个顶升销 突出于基板保持面11上。由此，可从基板保持面11剥离基板9。

狭缝喷嘴20是喷出被涂布材料的喷嘴。狭缝喷嘴20包括在左右方向上长的喷嘴主体21。在喷嘴主体21的下端部，设置有沿左右方向延伸的狭缝状的喷出口23。喷出口23朝向载置于平台10上的基板9的上表面。当从下述供给机构60(参照图4)向喷嘴主体21内供给被涂布材料时，从狭缝喷嘴20的喷出口23向成为处理对象的基板9的上表面喷出被涂布材料。再者，关于狭缝喷嘴20的更详细的构造将在后文描述。

喷嘴保持部30是用于将狭缝喷嘴20保持于基板保持面11的上方的机构。喷嘴保持部30包括：交联部31，沿左右方向延伸；以及一对柱状的支持部32，支持着交联部31的两端。狭缝喷嘴20安装于交联部31的下表面。并且，各支持部32包括对交联部31的端部的高度进行调节的升降机构33。当使左右的升降机构33动作时，一并对交联部31与狭缝喷嘴20的高度及姿势进行调节。

移行机构40是用于使狭缝喷嘴20沿前后方向移动的机构。移行机构40包括一对移行轨道41以及一对线性马达(linear motor)42。一对移行轨道41在平台10的左右的侧部附近，沿前后方向延伸。移行轨道41一边分别支持着一对支持部32，一边对各支持部32的下端部沿前后方向进行引导。即，一对移行轨道41作为将一对支持部32的移动方向限制为前后方向的线性引导件(linear guide)而发挥作用。

线性马达42包括：固定单元421，固定于平台10；以及移动单元422，固定于支持部32。固定单元421沿平台10的左右的侧缘部，在前后方向上延伸。当涂布装置1运行时，在固定单元421与移动单元422之间产生磁性吸力或磁性反弹力。由此，移动单元422、喷嘴保持部30及狭缝喷嘴20作为一体而沿前后方向移动。

控制部50是用于对涂布装置1内的各部进行动作控制的元件。如图1中示意所示，控制部50由包括中央处理器(central processing unit，CPU)等运算处理部51、随机存取存储器(random access memory，RAM)等存储器52及硬盘驱动器等存储部53的计算机所构成。控制部50与所述顶升销、升降机构33、线性马达42等涂布装置1内的各部分别电性连接。并且，控制部50与下述供给机构60、排出机构80及循环机构90内所设置的泵及开关阀也 电性连接。控制部50借由将存储于存储部53内的计算机程序及数据暂时读取至存储器52，并由运算处理部51根据所述计算机程序及数据进行运算处理，来对涂布装置1内的各部进行动作控制。由此，进行对基板9的涂布处理及下述清洗处理。

<2.关于狭缝喷嘴的构造>

其次，对狭缝喷嘴20的更详细的构造进行说明。图2是狭缝喷嘴20的立体图。图3是表示狭缝喷嘴20的内部的流路210的图。

如图2所示，狭缝喷嘴20的喷嘴主体21包括一对喷嘴构件211、喷嘴构件212以及一对侧板213、侧板214。喷嘴构件211、喷嘴构件212及侧板213、侧板214的材料例如是使用铝等金属。如果将一对喷嘴构件211、喷嘴构件212加以相互固定，并且将一对侧板213、侧板214安装于其左右的两端部，则形成内部具有流路210的喷嘴主体21。

在喷嘴主体21上，设置有一对供给口22及1个狭缝状的喷出口23。一对供给口22分别设置于一对侧板213、侧板214。1个喷出口23是在前方的喷嘴构件211的下端部与后方的喷嘴构件212的下端部之间呈狭缝状形成开口。当涂布装置1运行时，从一对供给口22向喷嘴主体21内的流路210供给被涂布材料。然后，将流路210内的被涂布材料从喷出口23朝向喷嘴主体21的下方加以喷出。

并且，如图2所示，本实施方式的喷嘴主体21包括1个排出口24。排出口24设置于喷嘴主体21的上表面。当清洗狭缝喷嘴20时，混入至喷嘴主体21内的流路210中的气泡与淋洗液一并经由排出口24向下述排出配管81排出。由此，将气泡从喷嘴主体21内的流路210加以去除。

<3.关于与狭缝喷嘴连接的配管系统的构成>

接着，对被涂布材料以及淋洗液的供给及排出的相关配管系统的构成进行说明。图4是表示与狭缝喷嘴20连接的配管系统的构成的图。如图4所示，本实施方式的涂布装置1包括供给机构60、排出机构80及循环机构90。

供给机构60是用于对狭缝喷嘴20选择性地供给被涂布材料及淋洗液的机构。供给机构60包括被涂布材料供给源61、第1供给配管62、第1开关阀63、淋洗液供给源64、第2供给配管65、第2开关阀66、脱气槽67、主供给配管68、供给泵69、两根分支供给配管70、第3开关阀71、第4开关 阀72、第1空气供给源73、第1空气供给配管74及第1空气用开关阀75。

在被涂布材料供给源61上积存有应涂布于基板9的上表面的被涂布材料。被涂布材料例如是使用高粘度的流体即聚酰亚胺等熔融树脂。被涂布材料的粘度例如为数千cP～1万cP左右。被涂布材料供给源61与脱气槽67借由第1供给配管62而连接。并且，在第1供给配管62的路径上，插入有第1开关阀63。因此，当将第1开关阀63打开时，从被涂布材料供给源61通过第1供给配管62向脱气槽67供给被涂布材料。并且，当将第1开关阀63关闭时，停止从被涂布材料供给源61向脱气槽67供给被涂布材料。

在淋洗液供给源64中积存有用于对狭缝喷嘴20及与狭缝喷嘴20连接的配管进行清洗的淋洗液。淋洗液是使用粘度低于被涂布材料的流体(例如，纯水或有机溶剂)。淋洗液的粘度例如为1cP～数cP左右。淋洗液供给源64与脱气槽67借由第2供给配管65而连接。并且，在第2供给配管65的路径上，插入有第2开关阀66。因此，当将第2开关阀66打开时，从淋洗液供给源64通过第2供给配管65向脱气槽67供给淋洗液。并且，当将第2开关阀66关闭时，停止从淋洗液供给源64向脱气槽67供给淋洗液。

脱气槽67是暂时积存被涂布材料或淋洗液的容器。被涂布材料或淋洗液中所含的气泡或溶解气体在脱气槽67内被去除。脱气槽67经由第1空气供给配管74而与第1空气供给源73连接。在第1空气供给源73中蓄积有经加压的空气。并且，在第1空气供给配管74的路径上，插入有第1空气用开关阀75。当将第1空气用开关阀75打开时，从第1空气供给源73通过第1空气供给配管74向脱气槽67内供给经加压的空气。由此，积存于脱气槽67内的被涂布材料或淋洗液的液面受到加压。再者，也可以代替经加压的空气，而将经加压的氮气等惰性气体供给至脱气槽67内。

主供给配管68的上游侧的端部与脱气槽67的底部连接。在主供给配管68的下游侧的端部，分别连接着两根分支供给配管70的上游侧的端部。并且，两根分支供给配管70的下游侧的端部分别连接于狭缝喷嘴20的两个供给口22。主供给配管68及分支供给配管70的内径具有供高粘度的被涂布材料流动的充分的尺寸。

在主供给配管68的路径上，设置有供给泵69。并且，在两根分支供给配管70的各路径上，分别设置有第3开关阀71及第4开关阀72。在供给淋 洗液时，将第1空气用开关阀75、第3开关阀71及第4开关阀72打开。于是，借由脱气槽67内的加压而将积存于脱气槽67内的淋洗液挤出至主供给配管68。然后，将所述淋洗液通过主供给配管68及两根分支供给配管70供给至狭缝喷嘴20内的流路210。并且，在供给被涂布材料时，将空气用开关阀75、第3开关阀71及第4开关阀72打开，并且使供给泵69动作。于是，借由脱气槽67内的加压及供给泵69的作用而将积存于脱气槽67内的被涂布材料通过主供给配管68及两根分支供给配管70供给至狭缝喷嘴20内的流路210。

排出机构80是用于将蓄积于狭缝喷嘴20的排出口24附近的气体排出至外部的机构。排出机构80包括排出配管81、第5开关阀82、减压槽83及减压泵84。排出配管81的上游侧的端部与狭缝喷嘴20的排出口24连接。排出配管81的下游侧的端部与减压槽83连接。并且，在排出配管81的路径上设置有第5开关阀82。

在进行下述清洗时，从供给机构60向狭缝喷嘴20供给淋洗液，并且将第5开关阀82打开，使减压泵84动作。于是，与减压泵84连接的减压槽83内的压力下降。由此，在排出配管81内也产生负压。即，在本实施方式中，是由减压槽83及减压泵84构成减压机构。当在排出配管81内产生负压时，蓄积于狭缝喷嘴20的排出口24附近的气体与淋洗液一并被排出至排出配管81。并且，从狭缝喷嘴20已排出至排出配管81的淋洗液及气体积存于减压槽83内。

再者，为了使减压槽83内的压力下降，也可以使用妙德(convum)等的真空发生器来代替减压泵84。

循环机构90是用于将积存于减压槽83内的淋洗液再次供给至脱气槽67的机构。循环机构90包括循环配管91、第6开关阀92、第2空气供给源93、第2空气供给配管94及第2空气用开关阀95。循环配管91的上游侧的端部与减压槽83的底部连接。循环配管91的下游侧的端部与脱气槽67连接。并且，在循环配管91的路径上设置有第6开关阀92。并且，减压槽83经由第2空气供给配管94而与第2空气供给源93连接。在第2空气供给源93中蓄积有经加压的空气。并且，在第2空气供给配管94的路径上插入有第2空气用开关阀95。

因此，当使减压泵84停止，并且将第6开关阀92及第2空气用开关阀95打开时，从第2空气供给源93通过第2空气供给配管94向减压槽83内供给经加压的空气。于是，借由减压槽67内的加压而将减压槽83内的淋洗液挤出至循环配管91。然后，将所述淋洗液通过循环配管91再次供给至脱气槽67。再者，也可以代替经加压的空气，而将经加压的氮气等惰性气体供给至减压槽83内。

图5是表示控制部50与配管系统的各部的连接构成的框图。如图5所示，控制部50与所述第1开关阀63、第2开关阀66、供给泵69、第3开关阀71、第4开关阀72、第1空气用开关阀75、第5开关阀82、减压泵84、第6开关阀92及第2空气用开关阀95分别电性连接。控制部50根据预先设定的计算机程序或来自外部的命令，对所述各部进行动作控制。由此，进行涂布装置1中的涂布处理及清洗处理。

<4.关于狭缝喷嘴及配管的清洗>

在所述涂布装置1中，当进行被涂布材料的涂布处理时，在脱气槽67、主供给配管68、两根分支供给配管70及狭缝喷嘴20的内部附着有高粘度的被涂布材料。因此，涂布装置1需要在涂布处理后、下一次涂布处理前、或者定期地进行清洗处理。以下，一边参照图6的流程图，一边对所述清洗处理进行说明。

在进行清洗处理时，首先，将第2开关阀66打开，并从淋洗液供给源64向脱气槽67供给淋洗液。由此，使淋洗液积存于脱气槽67内(步骤S1)。附着于脱气槽67的内壁的被涂布材料借由溶解于所积存的淋洗液中而加以去除。这时，第1空气用开关阀75被打开。因此，借由从第1空气供给源73供给的空气而对脱气槽67内进行加压。

其次，控制部50将第3开关阀71及第4开关阀72打开。于是，借由脱气槽67内的压力，开始从脱气槽67向狭缝喷嘴20供给淋洗液(步骤S2)。脱气槽67内的淋洗液通过主供给配管68及两根分支供给配管70被压送至狭缝喷嘴20侧，并且从一对供给口22供给至狭缝喷嘴20内的流路210。附着于主供给配管68及两根分支供给配管70内的被涂布材料被通过内部的淋洗液慢慢冲洗掉。并且，附着于狭缝喷嘴20内的被涂布材料也被淋洗液慢慢冲洗掉。

其次，控制部50使减压泵84开始动作。由此，使减压槽83及排出配管81内产生负压(步骤S3)。于是，狭缝喷嘴20内的淋洗液与蓄积于排出口24附近的气体一并流入至排出配管81。由此，气体从狭缝喷嘴20内的流路210被去除。而且，排出配管81的内部也被淋洗液清洗。其后，淋洗液积存于减压槽83内。

图7是表示步骤S3以后的狭缝喷嘴20内的样子的图。图8是在使减压泵84不动作而继续供给淋洗液时的狭缝喷嘴20内的样子的图(比较例)。在图8的示例中，借由供给至狭缝喷嘴20的内部的淋洗液，对以堵塞狭缝喷嘴20的喷出口23的方式而附着的被涂布材料M如虚线箭头所示施加强大压力。因此，如图8的中段及下段的图所示，容易成为如下状态：被涂布材料M的一部分经贯通，淋洗液由此处向下方流出。这样一来，淋洗液的水流集中于被涂布材料M的经贯通的部分，因此冲洗掉附着于喷出口23的其它被涂布材料变得极为困难。

与此相对，在本实施方式中，如图7所示，供给至狭缝喷嘴20内的流路210的淋洗液如虚线箭头所示，流向上部的排出口24。因此，不会借由供给至狭缝喷嘴20的内部的淋洗液，对以堵塞狭缝喷嘴20的喷出口23的方式而附着的被涂布材料M施加强大压力。因此，可利用淋洗液对被涂布材料M的表面进行整体侵蚀。这样一来，不易成为被涂布材料M的一部分经贯通的状态。并且，即使被涂布材料M的一部分经贯通，也会借由吸引至排出配管81，来抑制淋洗液集中至所述部分。其结果为，可彻底地去除附着于狭缝喷嘴20的喷出口23的被涂布材料。

接着，控制部50一边继续供给淋洗液，一边使第3开关阀71及第4开关阀72开关。由此，在主供给配管68及两根分支供给配管70内，使淋洗液的流速发生变化(步骤S4)。当淋洗液的流速发生变化时，淋洗液相对于附着于所述配管的内壁的被涂布材料的触碰方式会产生强弱。并且，淋洗液容易触碰至配管的内壁的整个面。由此，可将附着于配管的内壁的被涂布材料有效率地冲洗掉。其结果为，可降低为了获得所需的洁净度而使用的淋洗液的量，并且还可以缩短清洗所耗费的时间。

图9是表示第3开关阀71或第4开关阀72的开关动作的示例的时间图。在步骤S4中，如图9所示，使第3开关阀71及第4开关阀72每隔规定的时 间反复地开关。因此，与只进行一次关闭及打开的动作的情况相比，可进一步提高利用淋洗液的清洗效果。第3开关阀71及第4开关阀72的开关动作的间隔及次数可根据应去除的被涂布材料的性质或所要求的洁净度来任意设定。

如上所述，在本实施方式中，是利用第3开关阀71及第4开关阀72，使主供给配管68及两根分支供给配管70内的淋洗液的流速发生变化。即，在本实施方式中，第3开关阀及第4开关阀作为流速切换元件而发挥作用。若利用开关阀，则在不使供给机构60的构成复杂化的情况下便可使淋洗液的流速发生变化。

其后，控制部50使减压泵84停止，并且将第6开关阀92及第2空气用开关阀95打开。于是，借由减压槽83内的加压，而将积存于减压槽83内的淋洗液经由循环配管91再次供给至脱气槽67(步骤S5)。被再次供给至脱气槽67的淋洗液与从淋洗液供给源64新供给的淋洗液一并，通过主供给配管68及两根分支供给配管70而供给至狭缝喷嘴20。这样，在本实施方式的涂布装置1中，可使暂且用过的淋洗液循环而加以再利用。由此，可以大幅度降低淋洗液的用量。

<5.变形例>

以上，已对本发明的一实施方式进行说明，但本发明并不限定于所述实施方式。

图10是表示一变形例的涂布装置1内的配管系统的构成的图。在图10的示例中，在主供给配管68的路径上设置有摆动泵76。摆动泵76例如可使用柏勒夫泵(bellofram pump)、隔膜泵(diaphragm pump)、波纹管泵(bellows pump)等。当一边从脱气槽67向狭缝喷嘴20供给淋洗液，一边使摆动泵76动作时，在主供给配管68的内部，淋洗液的流速会周期性地发生变化。因此，可以不进行第3开关阀71及第4开关阀72的开关而对淋洗液的水流赋予强弱，来有效率地清洗附着于配管的内壁的被涂布材料。

如上所述，在图10的示例中，使用摆动泵76作为流速切换元件。只要利用摆动泵76，即可借由选择摆动泵76的输出压来使配管内的淋洗液的流速变为所需的值。因此，根据被涂布材料的粘度或性质，可将淋洗液的流速的变化设定为最佳状态。

并且，除了开关阀或摆动泵以外，例如，还可以使用能够对流量进行调节的比例电磁阀来使淋洗液的流速发生变化。并且，还可以将所述多个元件组合起来，使淋洗液的流速发生变化。供给配管内的淋洗液的流速可不必维持着朝向狭缝喷嘴20侧的正(plus)的流速。即，在淋洗液的流速发生变化的过程中，也可以成为淋洗液暂时向脱气槽67侧逆流的状态。

并且，在所述实施方式中，是从狭缝喷嘴20的两个供给口22向狭缝喷嘴20内供给被涂布材料。但是，在供给被涂布材料时，也可以只将第3开关阀71及第4开关阀72中的一个打开，而只从两个供给口22中的一个向狭缝喷嘴20内供给被涂布材料。并且，在清洗狭缝喷嘴20及配管时，也可以将第3开关阀71及第4开关阀72两者打开，从两个供给口22两者向狭缝喷嘴20内供给淋洗液。

并且，在所述实施方式中，是将被涂布材料与淋洗液通过共用的供给配管68、供给配管70供给至狭缝喷嘴20内。但是，也可以设为利用互不相同的配管将被涂布材料及淋洗液供给至狭缝喷嘴20内。例如，也可以设为在狭缝喷嘴20的排出配管81上另外设置被涂布材料用的供给配管，从所述供给配管经由排出配管81及排出口24而向狭缝喷嘴20内供给被涂布材料。并且，也可以设为在清洗狭缝喷嘴20时，将设置于被涂布材料用的供给配管内的开关阀关闭，并且将第3开关阀71及第4开关阀72打开，从分支供给配管70经由一对供给口22而向狭缝喷嘴20内供给淋洗液。

并且，在所述实施方式中，是借由对减压槽内进行加压来从减压槽向脱气槽再次供给淋洗液，但是循环机构内的淋洗液的送液方法也可以是除了减压槽内的加压以外的方法。例如，也可以设为在循环配管的路径上设置泵，借由使所述泵动作来使淋洗液循环。并且，也可以在循环配管的路径上设置用于去除异物的过滤器(filter)。

并且，所述涂布装置1是在制造柔性器件的基材自身的制程中使用的装置，但是本发明的涂布装置也可以用于在器件形成后的基材的表面形成保护膜的制程中。并且，本发明的涂布装置也可以用于柔性器件以外的液晶显示装置或半导体基板的制造工序中。并且，本发明的涂布装置还可以用于锂离子蓄电池或燃料电池等电池的制造工序中。

并且，关于涂布装置的细微部分，也可以与本发明的各图所示的构成不 同。例如，为了促进气泡从狭缝喷嘴排出，也可以在狭缝喷嘴内的流路的上缘部设置倾斜度。并且，也可以将所述实施方式或变形例中出现的各要素在不产生矛盾的范围内适当地加以组合。