本实用新型涉及粉料研磨技术领域，主要涉及一种可循环使用的粉料研磨装置。
背景技术：
锆珠是用于添加在研磨机械中对物料进行研磨的介质，常用的为95锆珠和65锆珠，95锆珠密度为6.0g/cm3，磨耗极低，多用于电子行业、食品及药品级研磨，65锆珠密度4.0g/cm3，磨耗相对于95纯锆珠来说磨耗要大一些，价格比较实惠，多用于农药、油漆和涂料等的研磨。粉料研磨一般进行批次研磨，在研磨的时候容易产生气泡，且每次使用的65锆珠比较多，锆珠表面磨损物常常会沉积在研磨筒体的底部，研磨后的浆料会与磨损物混合在一起，影响浆料的出料以及下一批粉料的研磨精度。
技术实现要素：
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种有效过滤磨损物、浆料全部排放，保证浆料纯度、下一批粉料的研磨精度，可脱出研磨产生的气泡，清洁效果佳的可循环使用的粉料研磨装置。
本实用新型所要解决的技术问题可以采用如下技术方案来实现：
一种可循环使用的粉料研磨装置，其特征在于，包括用于盛装粉料且顶部具有密封盖的研磨筒体、可转动的设置在所述研磨筒体内的研磨机构、设置在所述研磨筒体上用于驱动所述研磨机构旋转的驱动机构，在所述驱动机构上设置有传动轴穿过所述密封盖与所述研磨机构传动连接；
在所述研磨筒体的顶部设置有一使气泡脱出的加压机构，在所述研磨筒体的上部设置有粉料进口、下部设置有一带有阀门的浆料出口，在所述浆料出口处设置有过滤机构。
在本实用新型的一个优选实施例中，所述过滤机构为周边固定在所述浆料出口处的浆料出管外壁的筛网。
本实用新型的有益效果是：一种可循环使用的粉料研磨装置，设置加压机构可脱出研磨产生的气泡，使得浆料快速全部排放，清洁效果佳，在浆料出口设置过滤机构，有效过滤锆珠磨损物，保证浆料纯度以及下一批粉料的研磨精度；过滤机构设置为筛网，结构简单，成本低。
附图说明
图1是本实用新型一种可循环使用的粉料研磨装置的结构示意图。
图2是本实用新型研磨机构的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本实用新型。
参见图1至图2，图中给出的是一种可循环使用的粉料研磨装置，包括用于盛装粉料且顶部具有密封盖110的研磨筒体100、可转动的设置在研磨筒体100内的研磨机构200、设置在研磨筒体100上用于驱动研磨机构200旋转的驱动机构300；驱动机构300为一驱动电机310，驱动电机310的输出轴端固定设置有一传动轴320，传动轴320穿过密封盖110与研磨机构200传动连接，在密封盖110内于传动轴320周边设置有轴承密封圈330进行密封。
在研磨筒体100的顶部设置有一使气泡脱出的加压机构400，加压机构400包括设置在研磨筒体100侧边的加压箱、垂直设置在密封盖110上的加压口410、连接加压箱与加压管的连接管；设置加压机构400可脱出研磨产生的气泡，使得浆料快速全部排放，清洁效果佳。
在研磨筒体100外周设置有夹套，用于对内部物料加热，提高物料排出效率；在研磨筒体100的外环面上部设置有粉料进口120、外环面下部设置有一带有阀门131的浆料出口130，在浆料出口130处设置有过滤机构500，过滤机构500为周边固定在浆料出口130处的浆料出管外壁的筛网510，筛网510结构简单，过滤效果好，降低了生产成本。
研磨机构200包括水平设置具有与传动轴320正向传动连接的上连接轴211的上磨盘210、同轴设置在上磨盘210下方具有与传动轴320反向传动连接的下连接轴221的下磨盘220、设置在上连接轴211与下连接轴221之间的反向转动组件230、设置在上磨盘210内部上方的堆积槽212、若干竖直设置在上磨盘210内且上端与堆积槽212连通的下料通孔213。
反向转动组件230包括水平套设在上连接轴211下部的第一锥形齿轮231、水平套设在下连接轴221上部的第二锥形齿轮232、纵向啮合在第一锥形齿轮231与第二锥形齿轮232的一侧外齿上的第三锥形齿轮233；上磨盘210的下表面形成上研磨面，下磨盘220的上表面形成下研磨面；在上磨盘210的内部下方横向设置有分散槽240，分散槽240的两端分别形成与外界相通的进风口241与出风口242。
在进行粉料研磨时，将粉料从粉料进口120倒入堆积槽212内，粉料经过下料通孔213散落在下研磨面，驱动电机310依次驱动上连接轴211同向转动、下连接轴221反向转动，上磨盘210与下磨盘220相互作用对粉料进行研磨，研磨完成后的浆料从圆周落下；当一批次的粉料研磨完毕，向进风口241内通入空气，将内部残留的粉料吹出，便可以对上磨盘210、下磨盘220进行清理。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及同等物界定。