一种显影液过滤器的清洗药剂及清洗方法与流程

本发明涉及过滤器清洗
技术领域：
，具体涉及一种显影液过滤器的清洗药剂及清洗方法。
背景技术：
：pcb干膜显影液的一般组成为米吐尔、对苯二酚、碳酸钠、次氯酸钠和水等。使用显影液的主要目的是将因没有受到紫外线照射而架桥的油墨除去。显影加工时油墨化学结构反应式为：由化学结构反应式可以看出经显影后生成碳酸氢钠和树脂胶团杂质。因此经陶瓷膜过滤时，碳酸氢钠回用，树脂胶团杂质以及其他无机污垢被截留，并随着陶瓷膜的使用树脂胶团杂质及其他无机污垢逐渐污堵膜微孔。为了恢复陶瓷膜的通量，常用的方法有酸洗，例如稀盐酸和稀硫酸等，也有碱洗的，例如氢氧化钠，再搭配适当的螯合剂和表面活性剂，可以提升清洗效果。但是上述的方法清洗效果依然不太理想。技术实现要素：为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本发明的目的在于提供一种显影液过滤器的清洗药剂及清洗方法，可以完全恢复陶瓷膜的膜通量。本发明的目的通过下述技术方案实现：一种显影液过滤器的清洗药剂，包括清洗剂a和清洗剂b；所述清洗剂a包括如下组分：h2so41-3wt％、h2o21-3wt‰，余量为水；所述清洗剂b包括如下组分：naclo3-5wt％、十二烷基苯磺酸钠1-3wt‰、乙二胺四乙酸二钠0.5-1.5wt‰，余量为水。申请人经过研究发现，堵塞陶瓷膜的显影液污堵物在酸性条件下胶团收缩体积变小且变硬，当采用传统的化学清洗用酸清洗时，会造成膜通量恢复的假象，实则污堵胶团杂质并未被清洗出，再次使用膜通量很快会急剧下降；而堵塞陶瓷膜的显影液污堵物在碱性条件下容易膨胀并凝聚成絮状胶团，配合适当的冲洗可以将絮状胶团冲出，但是仍会有部分大胶团残留，因此清洗后膜通量恢复效果不佳。本申请的清洗剂a，可以使胶团杂质收缩，从而胶团杂质与过滤孔的间隙变大，有利于清洗剂a和后续清洗剂b的渗透，对膜微孔进行更充分的冲洗，同时过氧化氢的作用也可以将胶团杂质氧化成更小的颗粒，从而避免其硬化并粘附在过滤孔壁上。本申请的清洗剂b，在陶瓷膜仍残留少量酸洗后的小颗粒的情况下，可以使胶质颗粒发生膨胀，从而提升其与水流的接触面积，提高冲洗效果；此外，在naclo、十二烷基苯磺酸钠和乙二胺四乙酸二钠的作用下，膨胀后的胶质颗粒不会凝聚成团，从而完全去除陶瓷膜的胶质，恢复其膜通量。更为优选地，所述清洗剂a包括如下组分：h2so42wt％、h2o22wt‰，余量为水。更为优选地，所述清洗剂b包括如下组分：naclo4wt％、十二烷基苯磺酸钠2wt‰、乙二胺四乙酸二钠1wt‰，余量为水。如上所述一种显影液过滤器的清洗方法，包括如下步骤：(1)一次水洗：用清水对过滤器组件进行冲洗，然后将水排空；(2)酸洗：用清洗剂a对过滤器组件进行正向冲洗，然后进行升温浸泡处理，最后进行反向冲洗；(3)二次水洗：将步骤(2)中的清洗剂a排空，然后使用清水对过滤器组件进行冲洗，然后将水排空；(4)碱洗：用清洗剂b对过滤器组件进行正向冲洗，然后进行升温浸泡处理，最后进行反向冲洗；(5)三次水洗：将步骤(4)中的清洗剂b排空，然后使用清水对过滤器组件进行冲洗，然后将水排空。本发明酸洗过程中，可以使胶团杂质收缩，从而胶团杂质与过滤孔的间隙变大，有利于清洗剂a和后续清洗剂b的渗透，对膜微孔进行更充分的冲洗，同时清洗剂a的升温浸泡可以将胶团软化，并提升过氧化氢的氧化作用，将胶团杂质氧化成更小的颗粒，从而避免其硬化并粘附在过滤孔壁上，再加以反向冲洗将大部分收缩氧化后的胶团反冲带出膜微孔。本发明碱洗过程中，陶瓷膜仍残留少量酸洗后的小颗粒的情况下，可以使胶质颗粒发生膨胀，从而提升其与水流的接触面积，提高冲洗效果；此外，在naclo、十二烷基苯磺酸钠和乙二胺四乙酸二钠以及升温浸泡作用下，膨胀后的胶质颗粒不会凝聚成团，加以反冲洗操作，可以轻易地把膨胀疏松后的胶体反冲带出膜微孔，恢复其膜通量。本发明的多次水洗是为了降低杂质和ph值对清洗剂a和清洗剂b的清洗效果的影响。其中，所述过滤器组件为陶瓷膜过滤器及其管道，所述陶瓷膜过滤器的过滤精度为0.1-0.3μm。其中，所述步骤(2)中，正向冲洗和反向冲洗的水压均为0.3-0.5mpa，冲洗时间均为20-40min。其中，所述步骤(4)中，正向冲洗和反向冲洗的水压均为0.3-0.5mpa，冲洗时间均为20-40min。冲洗的水压或时间过低，则冲洗达不到较好的效果，但水压超过0.5mpa或时间超过40min后，对清洗效果的助益不大，只会造成成本的提高。其中，所述步骤(2)中，升温浸泡处理为：将清洗剂a升温至40-60℃，浸泡时间为3-5h。其中，所述步骤(4)中，升温浸泡处理为：将清洗剂b升温至40-60℃，浸泡时间为7-9h。本发明采用浸泡与冲洗的组合方式进行陶瓷膜的净化，浸泡处理相对冲洗的优势在于对膜的损伤能力更低，并且可以提升胶团的氧化程度，使其小颗粒化，并能提高胶质颗粒的膨胀疏松程度，提升其与水流的接触面积，更好地提升净化效果。本发明的有益效果在于：本发明酸洗过程中，可以使胶团杂质收缩，从而胶团杂质与过滤孔的间隙变大，有利于清洗剂a和后续清洗剂b的渗透，对膜微孔进行更充分的冲洗，同时清洗剂a的升温浸泡可以将胶团软化，并提升过氧化氢的氧化作用，将胶团杂质氧化成更小的颗粒，从而避免其硬化并粘附在过滤孔壁上，再加以反向冲洗将大部分收缩氧化后的胶团反冲带出膜微孔。本发明碱洗过程中，陶瓷膜仍残留少量酸洗后的小颗粒的情况下，可以使胶质颗粒发生膨胀，从而提升其与水流的接触面积，提高冲洗效果；此外，在naclo、十二烷基苯磺酸钠和乙二胺四乙酸二钠以及升温浸泡作用下，膨胀后的胶质颗粒不会凝聚成团，加以反冲洗操作，可以轻易地把膨胀疏松后的胶体反冲带出膜微孔，恢复其膜通量。附图说明图1是实施例4中的pcb显影液再生回收系统；附图标记为：1-显影缸、2-收集槽、3-供料泵、4-第一过滤器、5-循环泵、6-第二过滤器、7-清液槽、8-再生液槽、9-定量投加盒。具体实施方式为了便于本领域技术人员的理解，下面结合实施例及附图1对本发明作进一步的说明，实施方式提及的内容并非对本发明的限定。实施例1一种显影液过滤器的清洗药剂，包括清洗剂a和清洗剂b；所述清洗剂a包括如下组分：h2so42wt％、h2o22wt‰，余量为水；所述清洗剂b包括如下组分：naclo4wt％、十二烷基苯磺酸钠2wt‰、乙二胺四乙酸二钠1wt‰，余量为水。如上所述一种显影液过滤器的清洗方法，包括如下步骤：(1)一次水洗：用清水对过滤器组件进行冲洗，然后将水排空；(2)酸洗：用清洗剂a对过滤器组件进行正向冲洗，然后进行升温浸泡处理，最后进行反向冲洗；(3)二次水洗：将步骤(2)中的清洗剂a排空，然后使用清水对过滤器组件进行冲洗，然后将水排空；(4)碱洗：用清洗剂b对过滤器组件进行正向冲洗，然后进行升温浸泡处理，最后进行反向冲洗；(5)三次水洗：将步骤(4)中的清洗剂b排空，然后使用清水对过滤器组件进行冲洗，然后将水排空。其中，所述过滤器组件为陶瓷膜过滤器及其管道，所述陶瓷膜过滤器的过滤精度为0.2μm。其中，所述步骤(2)中，正向冲洗和反向冲洗的水压均为0.4mpa，冲洗时间均为30min。其中，所述步骤(4)中，正向冲洗和反向冲洗的水压均为0.4mpa，冲洗时间均为30min。其中，所述步骤(2)中，升温浸泡处理为：将清洗剂a升温至50℃，浸泡时间为4h。其中，所述步骤(4)中，升温浸泡处理为：将清洗剂b升温至50℃，浸泡时间为8h。实施例2一种显影液过滤器的清洗药剂，包括清洗剂a和清洗剂b；所述清洗剂a包括如下组分：h2so41wt％、h2o23wt‰，余量为水；所述清洗剂b包括如下组分：naclo3wt％、十二烷基苯磺酸钠3wt‰、乙二胺四乙酸二钠1.5wt‰，余量为水。如上所述一种显影液过滤器的清洗方法，包括如下步骤：(1)一次水洗：用清水对过滤器组件进行冲洗，然后将水排空；(2)酸洗：用清洗剂a对过滤器组件进行正向冲洗，然后进行升温浸泡处理，最后进行反向冲洗；(3)二次水洗：将步骤(2)中的清洗剂a排空，然后使用清水对过滤器组件进行冲洗，然后将水排空；(4)碱洗：用清洗剂b对过滤器组件进行正向冲洗，然后进行升温浸泡处理，最后进行反向冲洗；(5)三次水洗：将步骤(4)中的清洗剂b排空，然后使用清水对过滤器组件进行冲洗，然后将水排空。其中，所述过滤器组件为陶瓷膜过滤器及其管道，所述陶瓷膜过滤器的过滤精度为0.1-0.3μm。其中，所述步骤(2)中，正向冲洗和反向冲洗的水压均为0.3mpa，冲洗时间均为40min。其中，所述步骤(4)中，正向冲洗和反向冲洗的水压均为0.3mpa，冲洗时间均为40min。其中，所述步骤(2)中，升温浸泡处理为：将清洗剂a升温至40℃，浸泡时间为5h。其中，所述步骤(4)中，升温浸泡处理为：将清洗剂b升温至40℃，浸泡时间为9h。实施例3一种显影液过滤器的清洗药剂，包括清洗剂a和清洗剂b；所述清洗剂a包括如下组分：h2so43wt％、h2o21wt‰，余量为水；所述清洗剂b包括如下组分：naclo5wt％、十二烷基苯磺酸钠1wt‰、乙二胺四乙酸二钠0.5wt‰，余量为水。如上所述一种显影液过滤器的清洗方法，包括如下步骤：(1)一次水洗：用清水对过滤器组件进行冲洗，然后将水排空；(2)酸洗：用清洗剂a对过滤器组件进行正向冲洗，然后进行升温浸泡处理，最后进行反向冲洗；(3)二次水洗：将步骤(2)中的清洗剂a排空，然后使用清水对过滤器组件进行冲洗，然后将水排空；(4)碱洗：用清洗剂b对过滤器组件进行正向冲洗，然后进行升温浸泡处理，最后进行反向冲洗；(5)三次水洗：将步骤(4)中的清洗剂b排空，然后使用清水对过滤器组件进行冲洗，然后将水排空。其中，所述过滤器组件为陶瓷膜过滤器及其管道，所述陶瓷膜过滤器的过滤精度为0.1μm。其中，所述步骤(2)中，正向冲洗和反向冲洗的水压均为0.5mpa，冲洗时间均为20min。其中，所述步骤(4)中，正向冲洗和反向冲洗的水压均为0.5mpa，冲洗时间均为20min。其中，所述步骤(2)中，升温浸泡处理为：将清洗剂a升温至60℃，浸泡时间为3h。其中，所述步骤(4)中，升温浸泡处理为：将清洗剂b升温至60℃，浸泡时间为7h。对比例1常规酸洗本对比例与实施例1的区别在于：用2wt％的稀盐酸替代实施例1的清洗剂a和清洗剂b。对比例2混合酸洗本对比例与实施例1的区别在于：用清洗剂a替代清洗剂b。对比例3混合酸洗+常规碱洗本对比例与实施例1的区别在于：用1wt％的氢氧化钠溶液替代实施例1的清洗剂b。对比例4混合酸洗+氢氧化钠混合碱洗用0.5wt％的氢氧化钠替代实施例1的清洗剂b中的naclo。对比例5常规酸洗+混合碱洗本对比例与实施例1的区别在于：用2wt％的稀盐酸替代实施例1的清洗剂a。实施例4性能测试如图1所示，一种pcb显影液再生回收系统，按显影液流向依次包括收集槽2、供料泵3、第一过滤器4、循环泵5、第二过滤器6、清液槽7、再生液槽8和定量投加盒9，所述第一过滤器4的过滤精度为0.8-1.2μm，所述第二过滤器6的过滤精度为0.1-0.3μm，所述清液槽7设置有氢氧化钠投加口。其中，所述第一过滤器4为绕线式过滤器，过滤精度为1μm。其中，所述第二过滤器6为陶瓷膜过滤器，过滤精度为0.2μm，单位跨膜压差(mpa)的清水渗透通量为10.52m3/(m2·h)。按上述的pcb显影液再生回收系统运行12h之后，对第二过滤器6分别进行实施例1、对比例1-4的清洗方法进行清洗，计算其清洗后的清水单位跨膜压差(mpa)的清水渗透通量，得出清水渗透通量保持率，其测试结果如下：清洗类型清水渗透通量保持率实施例1混合酸洗+混合碱洗99.13％对比例1常规酸洗42.21％对比例2混合酸洗55.63％对比例3混合酸洗+常规碱洗58.74％对比例4混合酸洗+氢氧化钠混合碱洗62.31％对比例5常规酸洗+混合碱洗53.38％由上表的对比可知，第一次的酸洗起到了关键性作用，因为采用常规酸洗之后的胶质会变硬，即便后续采用混合碱洗后，胶质依然会顽固地粘附在过滤孔内，膜通量恢复效果是相对先混合酸洗都是较差的；而混合酸洗之后采用常规氢氧化钠溶液或氢氧化钠混合碱洗对膜通量的恢复依然是不明显的，因为采用氢氧化钠，收缩后的胶质会重新膨胀并凝聚成团，不能很好地冲洗干净。此外，为了验证常规酸洗是会使造成膜通量假性恢复，本申请将对比例1和对比例2清洗后的陶瓷膜过滤器在清洗步骤(5)三次水洗之前，计算其清水单位跨膜压差(mpa)的清水渗透通量，得出清水渗透通量保持率，其测试结果如下：清洗类型清水渗透通量保持率对比例1常规酸洗47.62％对比例2混合酸洗52.85％由上表可知，常规酸洗的陶瓷膜过滤器在再次水洗之后发生了清水渗透通量下降的情况，而混合酸洗并没有，这证明了常规酸洗是会使造成膜通量假性恢复。上述实施例为本发明较佳的实现方案，除此之外，本发明还可以其它方式实现，在不脱离本发明构思的前提下任何显而易见的替换均在本发明的保护范围之内。当前第1页12