一种处理液体的等离子体装置的制作方法

本发明涉及等离子体处理设备技术领域，具体地说是一种处理液体的等离子体装置。

背景技术：

等离子体是不同于固体、液体和气体的物质第四态。等离子体又叫做电浆，是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质。

等离子体由离子、电子以及未电离的中性粒子的集合组成，整体呈中性的物质状态。等离子体可分为两种:高温和低温等离子体，等离子体温度分别用电子温度和离子温度表示，两者相等称为高温等离子体；不相等则称低温等离子体。低温等离子体是在常温下发生的等离子体(虽然电子的温度很高)，低温等离子体可以被用于氧化、变性等表面处理或者在有机物和无机物上进行沉淀涂层处理，低温等离子体广泛运用于多种生产领域。

等离子处理技术是最有效的对表面进行清洗、活化和涂层的处理工艺之一，通过对表面进行物理化学改性，提高表面附着力，可以用于处理各种材料，包括塑料、金属或者玻璃等。现有技术对液体处理的等离子体装置主要包括两种，即水面式处理和鼓泡式处理，水面式处理是水面式直接作业处理，该方法结构简单，容易实现，但处理不均匀，处理量非常微小，不适用大规模处理。鼓泡式处理。鼓泡式处理是在液体中产生气泡，气泡中生成等离子体,但气泡尺寸大，放电间距小，虽然处理均匀性较第一种有较大提高，但提高程度有限。

因此，如何提供一种处理液体的等离子体装置，以实现将液体内的气体微泡化，达到肉眼难以辨别的程度，并实现等离子体放电，提高放电效果和均匀性，从而提高对产品的处理效果，是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。

技术实现要素：

有鉴于此，本申请的目的在于提供一种处理液体的等离子体装置，以实现将液体内的气体微泡化，达到肉眼难以辨别的程度，并实现等离子体放电，提高放电效果和处理的均匀性，从而提高对产品的处理效果。

为了达到上述目的，本申请提供如下技术方案。

一种处理液体的等离子体装置，包括机架、高压装置、转向组件、低压装置；

所述高压装置、转向组件、低压装置均设置在所述机架上，所述高压装置通过所述转向组件与所述低压装置连通。

优选地，所述机架包括底板、顶板、支柱，所述底板与顶板通过所述支柱固定连接；

所述高压装置设置在所述底板上方，所述低压装置设置在所述顶板上方。

优选地，所述高压装置包括高压罐、高压上盖、进液口和进气口，所述高压罐与所述高压上盖通过螺杆、螺母固定连接；所述进液口通过管道与所述高压上盖连通，所述管道上设置有第一控制阀。

优选地，所述高压装置还包括泄压阀、压力表，所述泄压阀通过直通接头与所述高压上盖固定连接；所述压力表固定在所述高压上盖上。

优选地，所述转向组件包括阀座、排液管、手动转向阀；所述阀座下端通过螺钉固定在所述高压装置上方，上端固定在所述顶板上；

所述手动转向阀、排液管均固定在所述阀座上，所述排液管上设有第二控制阀。

优选地，所述低压装置包括低压上盖、低压下盖、低压玻璃管、电极柱；所述低压玻璃管的上端、下端分别通过硅胶垫与所述低压上盖、低压下盖接触；

所述低压上盖与所述低压下盖之间通过拉杆螺柱固定连接。

优选地，所述电极柱设置在所述低压玻璃管内，所述电极柱包括正电极柱和负电极柱，所述正电极柱与所述负电极柱以列/行为单位间隔分布。

优选地，所述负电极柱一端通过第一电极固定板固定在所述低压下盖上，另一端通过第二电极固定板固定。

优选地，所述正电极柱设置在玻璃棒内，所述玻璃棒下端设置在所述第一电极板的上方，上端固定在所述第二电极板上；

所述正电极柱穿过所述低压上盖，固定在所述低压上盖上方的短接板上。

优选地，所述正电极柱上端直径缩小形成有过渡台，所述过渡台上设置有四氟管，所述四氟管穿过所述低压上盖，所述低压上盖上方设置有四氟管压板。

本发明所获得的有益技术效果：

1)本发明主要解决现有技术中液体等离子体处理所存在的处理不均匀、处理量小等缺陷，本发明能够将液体内的气体微泡化，达到肉眼难以辨别的程度，并实现等离子体放电，提高放电效果和处理的均匀性，从而提高对产品的处理效果；

2)本发明借助高压环境，将气体融入液体中，然后再突变为低压环境，气体从液体内以气泡状态析出，且气泡直径非常微小，达到气体与也液体充分接触的目的，有利于提高处理效率和均匀性；

3)本发明通过高压装置、转向组件、低压装置，先将液体由进液口进入高压装置，再由高压作用经转向组件进入低压装置，在低压装置内受正、负电极柱等离子体放电处理，有利于提高等离子体处理的均匀性。

上述说明仅是本申请技术方案的概述，为了能够更清楚了解本申请的技术手段，从而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本申请的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下以本申请的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

根据下文结合附图对本申请具体实施例的详细描述，本领域技术人员将会更加明了本申请的上述及其他目的、优点和特征。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。

图1是本公开一种实施例中处理液体的等离子体装置的结构示意图；

图2是附图1中处理液体的等离子体装置的主视图；

图3是本公开一种实施例中高压装置、低压装置的结构示意图；

图4是本公开一种实施例中低压装置的内部结构示意图一；

图5是本公开一种实施例中低压装置的内部结构示意图二；

图6是本公开一种实施例中电极柱分布的结构示意图一；

图7是本公开一种实施例中电极柱分布的结构示意图二。

在以上附图中：1、机架；101、底板；102、顶板；103、支柱；2、高压装置；201、高压罐；202、高压上盖；203、进液口；204、管道、205、第一控制阀；206、泄压阀；207、直通接头；208、压力表；209、螺杆；3、转向组件；301、阀座；302、排液管；303、第二控制阀；304、手动转向阀；4、低压装置；401、低压上盖；402、低压下盖；403、低压玻璃管；404、正电极柱；405、负电极柱；406、拉杆螺柱；407、第一电极固定板；408、第二电极固定板；409、玻璃棒；410、玻璃棒密封板；411、短接板；412、四氟管；413、四氟管压板。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。在下面的描述中，提供诸如具体的配置和组件的特定细节仅仅是为了帮助全面理解本申请的实施例。因此，本领域技术人员应该清楚，可以对这里描述的实施例进行各种改变和修改而不脱离本申请的范围和精神。另外，为了清楚和简洁，实施例中省略了对已知功能和构造的描述。

应该理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“本实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本申请的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“一个实施例”或“本实施例”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定的特征、结构或特性可以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。

此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或字母。这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身并不指示所讨论各种实施例和/或设置之间的关系。

本文中术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和/或b，可以表示：单独存在a，单独存在b，同时存在a和b三种情况，本文中术语“/和”是描述另一种关联对象关系，表示可以存在两种关系，例如，a/和b，可以表示：单独存在a，单独存在a和b两种情况，另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”关系。

本文中术语“至少一种”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和b的至少一种，可以表示：单独存在a，同时存在a和b，单独存在b这三种情况。

还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含。

实施例1

如附图1和2所示，一种处理液体的等离子体装置，包括机架1、高压装置2、转向组件3、低压装置4。

所述高压装置2、转向组件3、低压装置4均设置在所述机架1上，所述高压装置2通过所述转向组件3与所述低压装置4连通。

所述机架1包括底板101、顶板102、支柱103，所述底板101与顶板102通过所述支柱103固定连接。

所述高压装置2设置在所述底板101上方，所述低压装置4设置在所述顶板102上方。

参见附图2，所述高压装置2包括高压罐201、高压上盖202、进液口203和进气口。

所述高压罐201和高压上盖202上均设置有相对应的螺纹孔，所述高压罐201和高压上盖202分别与螺杆209两端固定，且用螺母进一步锁紧。

优选地，所述高压罐201与所述高压上盖202接触处设置有o型圈，提高高压罐201与高压上盖202的密封性。

所述进液口203通过管道204与所述高压上盖202连通，所述管道204上设置有第一控制阀205，所述第一控制阀205用于控制液体的流量。

所述进气口设置在所述高压罐201上，且位于偏下的位置，所述进气口在所述高压罐201内连接有通气管，所述高压罐201内设置有面包石，所述通气管穿过所述面包石。

所述高压装置2还包括泄压阀206、压力表208，所述泄压阀206通过直通接头207与所述高压上盖202固定连接，所述压力表208固定在所述高压上盖202上。

如附图3所示，所述转向组件3包括阀座301、排液管302、手动转向阀304。

所述阀座301下端通过螺钉固定在所述高压上盖202上，上端固定通过螺钉在所述顶板102上，所述阀座301分别与所述高压装置2、低压装置4连通。

所述手动转向阀304、排液管302均固定在所述阀座301上，所述排液管302上设有第二控制阀303，所述第二控制阀303用于控制液体的流量。

参见附图3所示，所述低压装置4包括低压上盖401、低压下盖402、低压玻璃管403、电极柱。

所述低压玻璃管403的上端、下端分别通过硅胶垫(附图中未标识出)与所述低压上盖401、低压下盖402接触，提高接触处的密封性。

所述低压上盖401与所述低压下盖402之间设置有拉杆螺柱406，所述低压上盖401、低压下盖402、顶板102上均设置有螺纹，所述拉杆螺柱406与所述螺纹相匹配，所述拉杆螺柱406一端通过螺母与所述低压上盖401固定连接，另一端与所述低压下盖402、顶板102固定连接。

如附图4所示，所述电极柱设置在所述低压玻璃管403内，所述电极柱包括正电极柱404和负电极柱405，所述正电极柱404与所述负电极柱405以列/行为单位间隔分布，所述正电极柱404和所述负电极柱405之间形成等离子体放电处理区。

所述负电极柱405一端通过第一电极固定板407固定在所述低压下盖402上，所述低压下盖402上设有与所述负电极柱405对应的柱孔，以使得所述负电极柱405固定稳定，另一端通过第二电极固定板408固定。

优选地，所述低压下盖402上设置有与所述负电极柱405对应的柱孔，以使得所述负电极柱405伸进所述低压下盖402。

如附图5所示，所述正电极柱404设置在玻璃棒409内，所述玻璃棒409下端设置在所述第一电极板的上方，上端固定在所述第二电极板上。

所述玻璃棒409穿过所述第二电极板，所述第二电极板上方设置有玻璃棒密封板410，所述玻璃棒409穿过所述玻璃棒密封板410，所述玻璃棒409与所述第二电极板和玻璃棒密封板410接触处均设置o型圈。

如附图6所示，所述正电极柱404上端在位于所述第二电极板下方的位置直径缩小，形成有过渡台，所述过渡台上设置有四氟管412，所述四氟管412穿过所述低压上盖401，所述低压上盖401上方设置有四氟管压板413。

如附图7所示，所述正电极柱404穿过所述低压上盖401，固定在所述低压上盖401上方的短接板411上，用于实现所述正电极柱404与电源的连接。

上述处理液体的等离子体装置通过高压装置2、转向组件3、低压装置4，先将液体由进液口203进入高压装置2，气体由进气口打入高压装置2，在高压作用，经转向组件3进入低压装置4中的低压玻璃管403内，在低压装置4内受正、负电极柱等离子体放电处理，处理完成后经由转向组件3中的排液管302排出；如此有利于提高等离子体处理的均匀性；借助高压环境，将气体融入液体中，然后再突变为低压环境，气体从液体内以气泡状态析出，且气泡直径非常微小，达到气体与也液体充分接触的目的，有利于提高处理效率和均匀性。

上述处理液体的等离子体装置主要解决现有技术中液体等离子体处理所存在的处理不均匀、处理量小等缺陷，本发明能够将液体内的气体微泡化，达到肉眼难以辨别的程度，并实现等离子体放电，提高放电效果和处理的均匀性，从而提高对产品的处理效果。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，其并非因此限制本发明的保护范围，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，通过常规的替代或者能够实现相同的功能在不脱离本发明的原理和精神的情况下对这些实施例进行变化、修改、替换、整合和参数变更均落入本发明的保护范围内。