一种便于清洗的高粘结粘胶剂的反应釜的制作方法

文档序号:19532539发布日期:2019-12-27 15:32阅读:603来源:国知局
一种便于清洗的高粘结粘胶剂的反应釜的制作方法

本实用新型涉及反应釜的技术领域,更具体地说,它涉及一种便于清洗的高粘结粘胶剂的反应釜。



背景技术:

反应釜是广泛应用于化工、医药、食品等多个重要领域的反应容器,常用来生产各种化学产品。在制备到高粘结性的粘胶剂时,也会用到反应釜。

胶粘剂又称粘合剂,简称胶,是使物体与另一物体紧密连接为一体的非金属媒介材料。

现有的反应釜包括釜体、设置在釜体上电机和与电机输出轴同轴连接的搅拌轴,所述搅拌轴上设置有搅拌桨,所述釜体顶端设置有进料口和开口,所述开口上设置有密封门,所述釜体底部设置有出料口。

工作时,各物料从进料口进入到釜体内,启动电机,电机输出轴带动搅拌轴转动,设置在搅拌轴上的搅拌浆对物料进行搅拌,提高各物料之间的混合程度,从而提高反应进行的效果和效率。

上述中的现有技术方案存在以下缺陷:现有反应釜在使用完后,一般直接在反应釜内通入大量的清水,或在清水内加入专业的清洗反应釜的清洗液。最后启动电机,带动搅拌轴转动,从而带动设置在搅拌轴上的搅拌浆转动,用以清理洗反应釜。应用此法清洗反应釜一般要进过多次的清洗,才可以将反应釜清洗干净,因此需要使用较多的清水,导致水资源的浪费。



技术实现要素:

针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种便于清洗的高粘结粘胶剂的反应釜,通过设置有喷淋管、喷嘴和喷水口,使得原本直接灌进反应釜内的清水通过喷射的形式喷向反应釜的侧壁和搅拌轴,赋予了水流一定的速度,提高水的冲击力,方便了水流将附着在反应釜侧壁和搅拌轴上的杂质冲洗下来,从而减少了清水的使用量,改善了水资源的浪费。

为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:

一种便于清洗的高粘结粘胶剂的反应釜,包括釜体,所述釜体内设置有喷淋管,且所述喷淋管位于釜体的侧壁内且绕其圆周设置,所述喷淋管上设置有喷嘴,所述釜体侧壁上设置有喷水口,所述喷水口上设置有阻挡组件。通过采用上述技术方案,

通过采用上述技术方案,工作时,清水或带有专业反应釜的清洗液的清水通过管道被输送到喷淋管中,被输送到喷淋管中的的清水被赋予有一定的速度,具有一定高强度的冲击力。具有一定流速的水流通过喷嘴和喷水口后,用以将附着在反应釜侧壁和搅拌轴上的杂质冲洗下来,从而减少了清水的使用量,改善了水资源的浪费。

通过设置有阻挡组件,用以阻挡喷水口,防止高粘结粘胶剂在喷水口大量堆积,而导致喷嘴和喷水口被堵塞,影响水流对附着在反应釜侧壁和搅拌轴上的杂质清洗力度。甚至,无法有清水流出,影响设备的使用。

本实用新型进一步设置为:所述阻挡组件包括设置在喷水口的挡板,所述挡板靠近釜体顶部的一端铰接在釜体侧壁上。

通过采用上述技术方案,当在使用时,由于水流具有一定冲击力,会将阻挡在喷水口的挡板冲开,从而方便水流流到反应釜内,对附着在反应釜侧壁和搅拌轴上的杂质进行清洗。

当反应釜清洗完成后,挡板由于不再受到水流的冲击力,挡板再次阻挡在喷水口上,防止高粘结粘胶剂在喷水口大量堆积,而导致喷嘴和喷水口被堵塞,影响水流对附着在反应釜侧壁和搅拌轴上的杂质清洗力度。

本实用新型进一步设置为:所述喷水口侧壁倾斜设置,且所述喷水口倾斜设置的侧壁穿过所述喷淋管。

通过采用上述技术方案,用以对水流进行导向,增加水流的可冲击范围,从而提高对附着在反应釜侧壁和搅拌轴上的杂质清洗力度,减少了清水的使用量,改善了水资源的浪费。

本实用新型进一步设置为:所述喷水口靠近釜体底部的一侧侧壁上设置有磁铁,所述磁铁与所述喷水口侧壁平行设置,且所述挡板采用钢铁制成。

通过采用上述技术方案,进一步提高挡板的固定牢固性,防止由于反应釜在工作时的抖动,而导致高粘结粘胶剂进入喷水口内,使喷嘴和喷水口被堵塞,影响水流对附着在反应釜侧壁和搅拌轴上的杂质清洗力度。

本实用新型进一步设置为:所述挡板靠近底部的一端设置有导流板,所述导流板呈弧形设置,且弧形朝向釜体侧壁设置。

通过采用上述技术方案,由于搅拌轴一直转动,且位于反应釜中间,一般都较易清理。通过设置有导流板,对水流进行导向,使更多的水可以被导向到反应釜的侧壁上,提高反应釜侧壁上的杂质清洗力度,减少了清水的使用量,改善了水资源的浪费。

本实用新型进一步设置为:所述挡板上设置有卡块,所述卡块与所述喷水口相卡接。

通过采用上述技术方案,通过设置有与喷水口卡接的卡块,提高挡板对喷水口的阻挡力度和挡板的固定稳定性,防止高粘结粘胶剂在喷水口大量堆积,而导致喷嘴和喷水口被堵塞,影响水流对附着在反应釜侧壁和搅拌轴上的杂质清洗力度。

本实用新型进一步设置为:所述卡块靠近釜体侧壁的一侧侧壁倾斜设置,且所述卡块倾斜设置的侧壁穿过所述挡板。

通过采用上述技术方案,用以对水流进行导向,使更多的水可以冲击到釜体侧壁上,提高对附着在反应釜侧壁上的杂质清洗力度。

本实用新型进一步设置为:所述挡板靠近釜体顶部的一端设置有倒圆角。

通过采用上述技术方案,防止挡板在转动时,与反应釜侧壁之间发生刚性摩擦,影响挡板和反应釜的使用寿命。同时,提高挡板转动的灵敏性和稳定性,提高设备运行的灵活性。

本实用新型进一步设置为:所述釜体侧壁上还设置有弹性橡胶块,所述弹性橡胶块位于挡板靠近釜体顶部的一侧,且所述弹性橡胶块位于所述挡板顶端的下方。

通过采用上述技术方案,用以对挡板的转动角度进行限定,防止挡板由于水流的冲击力过大,而转过的角度过大,导致无法很好的实现对水流的导向作用,从而降低对附着在反应釜侧壁上的杂质清洗力度。同时,可以对挡板和反应釜侧壁进行阻挡,提高挡板的使用寿命,防止挡板在转动时,与反应釜侧壁之间发生刚性摩擦,影响挡板和反应釜的使用寿命。

与现有技术相比,本实用新型的优点是:

1、通过设置有喷淋管、喷嘴和喷水口,使得原本直接灌进反应釜内的清水通过喷射的形式喷向反应釜的侧壁和搅拌轴,赋予了水流一定的速度,提高水的冲击力,方便了水流将附着在反应釜侧壁和搅拌轴上的杂质冲洗下来,从而减少了清水的使用量,改善了水资源的浪费;

2、通过设置有阻挡组件,用以阻挡喷水口,防止高粘结粘胶剂在喷水口大量堆积,而导致喷嘴和喷水口被堵塞,影响水流对附着在反应釜侧壁和搅拌轴上的杂质清洗力度。甚至,无法有清水流出,影响设备的使用;

3、通过设置有导向板和倾斜设置的喷水口侧壁,用以对水流进行导向,使更多的水可以冲击到釜体侧壁上,提高对附着在反应釜侧壁上的杂质清洗力度。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图;

图2为本实用新型的剖面结构示意图;

图3为图2的a部放大图;

图4为图2的b部放大图;

图5为图3的c部放大图。

附图标记:100、釜体;200、喷淋管;210、喷嘴;220、喷水口;110、出液口;111、第一管道;112、水泵;230、第二管道;300、阻挡组件;310、挡板;320、磁铁;330、导流板;340、卡块;350、弹性橡胶块。

具体实施方式

下面结合附图和实施例,对本实用新型进行详细描述。

参照图1和图2,一种便于清洗的高粘结粘胶剂的反应釜,包括釜体100,釜体100内焊接有喷淋管200,且喷淋管200位于釜体100的侧壁内且绕其圆周设置。

参照图1和图2,在本实施例中,釜体100底部设置有出液口110,出液口110与喷淋管200第一管道111连接,且管道上设置有将釜体100底部的液体抽送到喷淋管200内的水泵112,可以循环利用水资源,降低水资源的浪费。同时,喷淋管200还通过第二管道230连接有清水,方便釜体100内清水的更换和使用,提高工人的可操作性。

参照图2和图3,喷淋管200上设置有喷嘴210,釜体100侧壁上设置有喷水口220,喷嘴210位于喷水口220内,且喷水口220上设置有阻挡组件300。

参照图3和图4,阻挡组件300包括设置在喷水口220的挡板310,挡板310靠近釜体100顶部的一端通过销轴铰接在釜体100侧壁上,且挡板310靠近釜体100顶部的一端设置有倒圆角。同时,釜体100侧壁上还粘贴设置有弹性橡胶块350,弹性橡胶块350位于挡板310靠近釜体100顶部的一侧。

参照图3和图4,喷水口220侧壁倾斜设置,且喷水口220倾斜设置的侧壁穿过喷淋管200,用以对水流进行一定的导向,提高水流的喷洒面积。

参照图3和图4,喷水口220靠近釜体100底部的一侧侧壁上卡接有磁铁320,磁铁320与喷水口220侧壁平行设置,且挡板310采用钢铁制成,用以将挡板310吸附在喷水口220处,提高挡板310的阻隔的效果。

参照图3和图4,挡板310靠近底部的一端焊接有导流板330,导流板330呈弧形设置,且弧形朝向釜体100侧壁设置。

参照图3和图5,挡板310上一体设置有卡块340,卡块340与喷水口220相卡接,且卡块340靠近釜体100侧壁的一侧侧壁倾斜设置,且卡块340倾斜设置的侧壁穿过挡板310。

工作过程:

当反应釜使用完后,要清洗时,清水或带有专业反应釜的清洗液的清水通过第二管道230被输送到喷淋管200中,被输送到喷淋管200中的的清水被赋予有一定的速度,具有一定高强度的冲击力,从而将阻挡在喷水口220处的挡板310冲开,在挡板310的导流作用下,更多的水被冲向反应釜侧壁,将附着在反应釜侧壁和搅拌轴上的杂质冲洗下来,实现对反应釜侧壁的初步清洗。

当在反应釜内聚集有充足的清水后,启动电机,搅拌轴和搅拌桨转动,对反应釜进行完全清理。此时,第二管道230不再输入清水,启动水泵112和第一管道111,进行循环水利用,降低水资源的浪费。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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