剂诸如1-十二碳締作为金属前躯体的溶剂的使用，可W增加 随后的低聚反应（例如，形成1-己締、1-辛締等）的选择性，与在金属前躯体溶液中使用 乙基苯作为溶剂相比，在金属前躯体溶液中使用1-十二碳締作为溶剂增加低聚物（例如， 1-己締）的产率多达1%。此外，如果金属前躯体溶液在大约20°C下具有小于大约300厘 拖的粘度，促进在特定位置内操作和累送溶液。在某些实施方式中，通过稀释铭前躯体直到 按重量计溶液中铭浓度在大约5%和大约10%之间；可选地在溶液中在大约5. 5%和大约 9%之间；可选地在大约6%和大约8%之间；或者可选地在溶液中在大约6. 30wt%和大约 7.25wt%之间，可W得到铭前躯体（例如，糊状物）需要的粘度（任何上述那些）。稀释之 后，金属或铭前躯体溶液可W被装载入待被移动到另一位置进行使用的运输容器16。如本 文所述的，在化工厂环境中，较高闪点的溶剂可W比较容易操作。一般地，35°C或者更高的 闪点可能是有益的。在一些实施方式中，締属稀释剂的闪点是本文任何上述的那些。通过 使用具有大约47°C闪点的1-癸締、具有大约77°C闪点的1-十二碳締、或者其他a締控或 者a締控的混合物可W达到运样的闪点。
[00对催化剂系统
[0056] 在一些实施方式中，金属前躯体-稀释剂组合物（例如，溶液）可W与其他化合物 反应和/或混合（图2中的框46)形成低聚催化剂组合物或者组分。例如，通过组合金属前 躯体溶液与烷基金属和含氮化合物诸如化咯等可W形成催化剂组合物或者组分。典型地， 可WW不同的顺序或者在可选的条件下接触催化剂系统组分W制备催化剂系统组合物。例 如，金属前躯体溶可W首先与氮的化合物接触或者基本上同时与烷基金属接触。可W在反 应器中进行前躯体组分的交替接触。
[0057] 可W在不饱和控溶剂中进行催化剂系统制备，包括接触氮的化合物、烷基金属和 金属前躯体溶液。在一个实施方式中，控溶剂可W是任何締控或者芳香族控溶剂。一般地， 可W在不饱和控中进行催化剂制备。不饱和控可W是任何芳香族的或者不饱和的脂肪族控 并且每个分子可W具有任何数量的碳原子。不饱和控每个分子可W包括少于大约70个碳 原子或者每个分子少于大约20个碳原子。基于工业可用性和使用的容易程度，进行不饱和 控的选择。可W被用作溶剂的脂肪族控化合物包括乙締、1-己締、1，3-下二締、及其混合物 等。在实施方式中可W使用的不饱和脂肪族控化合物是1-己締。如果1-己締是待被形成 的目标低聚物，那么运可W减少随后的纯化步骤的需要。可W被用作催化剂系统的溶剂的 芳香族控可W包括但不限于Ce至C5。芳香族化合物；可选地，Ce至C3。芳香族化合物；可选 地，Ce至CIS芳香族化合物；或者可选地，Ce至C1。芳香族化合物。示例性的芳香族控包括但 不限于甲苯、苯、乙基苯、二甲苯（邻位、间位、对位、或其任何组合）、1，3, 5-=甲基苯、六甲 基苯、及其混合物。芳香族控溶剂可W改进催化剂系统稳定性并且帮助产生活性和选择性 的催化剂系统，如在本文进一步讨论的。在一个实施方式中，不饱和控可W是甲苯；可选地， 是乙基苯。
[0058] 可W被用于制备低聚催化剂系统的芳香族化合物的量基于反应器中溶剂的量可 W上至大约15重量百分比、在大约0.OOl和大约10重量百分比之间、或者在大约0.Ol和 大约5重量百分比之间。过量的芳香族化合物可W抑制催化剂系统活性并且不足的芳香族 化合物可能不能稳定催化剂系统。一般地，催化剂系统中每摩尔活性金属前躯体（例如，铭 化合物）的芳香族化合物的摩尔数可W上至大约6, 000摩尔、约10和约3, 000摩尔之间或 约20至1，000摩尔之间的催化剂系统中每摩尔活性金属前躯体（例如铭）的芳香族化合 物。。
[0059] 芳香族化合物和催化剂系统的接触可W在热存在下、足W稳定催化剂系统的任何 条件下发生。一般而言，接触的溫度可W在约-50°C和大约70°C之间、大约10°C和大约70°C 之间、或者大约5°C和30°C之间。一般而言，接触时间可W是小于约5小时，在约0.Ol秒和 约4小时之间，或在约0. 1秒和3小时之间。较长的接触时间可能不提高催化剂系统的稳定 性，而较短的接触时间可能不足W允许完成芳香族化合物和催化剂系统的接触，因此不足W稳定催化剂系统。可W使用允许芳香族化合物和催化剂系统进行完全接触的任何压力。 一般而言，可W使用能够维持芳香族化合物和催化剂系统为液体形式的任何压力。接触可 W在干燥、惰性气氛下进行，W使改变催化剂组系统最小化。同样，然而，除上述的讨论外， 金属前躯体和低聚催化剂系统的其他可应用实例，W及它们的示例性制备参见所附的美国 专利号6, 133, 495和所附的美国专利号7, 384,886,运两篇均出于所有目的通过引用W其 整体并入本文。 W60] 用于催化剂系统制备的溫度可W在大约-78°C和200°C之间，大约O°C和50°C之 间，或者大约5°C和大约40°C之间。溫度可W被控制W减少颗粒形成并增加催化剂系统的 活性和生产率。一般而言，催化剂系统的制备在惰性气氛如氮气或氣气下进行，W减少存在 的水蒸气和氧的量。由于成本和可得性的原因，通常使用氮气。
[0061] 可W用于形成催化剂系统的含氮化合物包括胺、酷胺、二酷亚胺、腊和化咯。例如， 可W用于形成催化剂系统的胺可W包括但不限于Cs至C2。胺；可选地，C3至CJ安；或可选 地，Cs至Cl。胺。可应用的胺可W是伯胺或仲胺。在一个实施方式中，有用的胺可W包括一 控基胺；或者可选地，二控基胺。一控基胺或二控基胺的每个控基可W独立地选自Cl至C1。 烷基、C日-Cl。环烷基、Cg-Ci。芳基；或者C7-C1。芳烷基；可选地,Cl至Cl。烷基；C日-Cl。环烷基；可 选地，Ce-Ci。芳基；或者可选地，C7-Ci。芳烷基。可应用于一控基胺或二控基胺的烷基包括甲 基、乙基、丙基、下基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基或癸基；可选地，甲基、乙基、丙基、下基、 戊基；可选地，甲基、乙基、正丙基、异丙基、正下基、异下基、仲下基、叔下基、戊基或新戊基； 可选地，甲基；可选地，乙基；可选地，正丙基；可选地，异丙基；可选地，正下基；可选地，异 下基；可选地，仲下基；可选地，叔下基；可选地，戊基；或者可选地，新戊基。可应用于一控 基胺或二控基胺的环烷基包括环戊基或环己基；可选地，环戊基；或者可选地，环己基。可 应用于一控基胺或二控基胺的芳基包括苯基、甲苯基或二甲苯基，可选地，苯基；可选地，甲 苯基，可选地，二甲苯基。可应用于一控基胺或二控基胺的芳烷基包括苄基。示例性的非限 定性的伯胺包括但不限于乙胺、异丙胺、环己胺、节胺、苯胺和糞胺。示例性的非限定的仲胺 包括但不限于二乙胺、二异丙基胺、二环己基胺、二苄基胺、二甲基甲娃烷基）胺、吗嘟、 咪挫、二氨吗I噪、吗I噪等。可用于形成催化剂系统的酷胺包括C。至C2。八2至Cl。的酷胺。酷 胺的金属原子可W是裡、钢、或者钟；可选地，裡；可选地，钢；或者可选地，钟。酷胺的酷胺 部分可W是本文公开的任何伯胺或者仲胺。示例性的酷胺包括但不限于氨基化裡、乙氨基 化钢、二乙氨基化巧、二异丙氨基化裡、节氨基化钟、二甲基甲娃烷基）氨基化钢和吗I噪 化裡（lithium indolide)。
[0062] 可W被用作含氮化合物的含化咯化合物可W是任何含化咯化合物，或者化咯化物 (pyrrolide)，其与铭源反应形成铭化咯络合物。。如本公开所用的，术语"含化咯化合物"指 的是化咯（CgHgN)、化咯的衍生物、取代的化咯化物、W及金属化咯络合物。"化咯化物"被定 义为包括五元含氮杂环化咯的任何化合物。广义地讲，含化咯化合物可W是化咯或含有化 咯基团或配体的任何杂配化eteroleptic)或均配化omoleptic)金属络合物或盐。
[0063] 一般地，含化咯化合物可W是Ca至C2。化咯；或者可选地C4至C1。化咯。在一个实 施方式中，含化咯化合物（也称作"化咯"）可W是取代的化咯。在一些实施方式中，化咯可 W是2-取代化咯；可选地，3-取代化咯；可选地，2, 3-二取代化咯；可选地，2, 4-二取代化 咯；可选地，2, 5-二取代化咯；可选地，2, 3, 4-S取代化咯；可选地，2, 3, 5-S取代化咯；或 者可选地，2, 3, 4, 5-四取代化咯。一般地，任何多取代的化咯的取代基可W是相同的或者不 同的。在一些实施方式中，在2和5位具有取代基的任何化咯的2和5取代基可W是相同 的或者不同的。
[0064] 本文描述的任何取代的化咯的每一个取代基可W独立地选自面根、Cl至Cie有机 基或者Cl至Cie控基；可选地C1至Cie有机基；或者可选地C1至Cie控基。在一个实施方式 中，本文描述的任何取代的化咯的每一个取代基可W独立地选自面根、Cl至C12有机基或者 Cl至C12控基；可选地Cl至C12有机基；或者可选地Cl至C12控基。在一些实施方式中，本文 描述的任何取代的化咯的每一个取代基可W独立地选自面根、Cl至CS有机基或者C1至C8 控基；可选地Cl至CS有机基；或者可选地C1至CS控基。在其他实施方式中，本文描述的任 何取代的化咯的每一个取代基可W独立地选自Cl至Cie烷基、Ce至Cie芳基、或者C7至Cie 烧芳基；可选地Cl至Cie烷基；可选地Ce至Cie芳基；或者可选地C7至Cie烧芳基。在进一 步实施方式中，本文描述的任何取代的化咯的每一个取代基可W独立地选自Cl至C12烷基、 〔6至C12芳基、或者C產C12烧芳基巧选地C產C12烷基巧选地C适C。芳基；或者可选 地C,至C12烧芳基。在仍另一实施方式中，本文描述的任何取代的化咯的每一个取代基可 W独立地选自Cl至Cs烷基。在一个实施方式中，取代的化咯的任何取代基可W是面根。 阳〇化]在一个实施方式中，面根取代基可W是氣根、氯根、漠根、舰根；可选地是氣 根；可选地是氯根；可选地是漠根；或者可选地是舰根。在一个实施方式中，有机基 可W是具有式-C(O)Rla的酷基一-其中Rla是控基、具有式-C做ORZa的氨簇基幾基 Oiy化Ocarb(Mycarbonyl)--其中沪是控基、具有式-C(0)NH2的氨基甲酯基、具有 式-C做NR3BH的N-氨氨基甲酯基（N-hy化ocarbamoyU--其中R3。是控基、或者具有 式-C(0)NR33R4a的N，N-二控基氨基甲酯基一一其中RSa和RAa独立地是控基；可选地具有 式-C(0)Rla的酷基，其中RIa是控基；可选地具有式-C(0)ORZa的氨簇基幾基，其中RZa是控 基；可选地具有式-C(O)NHz的氨基甲酯基；可选地具有式-C(O)NR2SH的N-氨氨基甲酯基， 其中RSa是控基；或者可选地具有式-C(O)NRSaRAa的N，N-二控基氨基甲酯基，其中RSa和RAa 独立地是控基。一般地，酷基、氨簇基幾基、N-氨氨基甲酯基、或者N，N-二控基氨基甲酯基 的Rla、沪、RSa或者R4B可W独立地无限制地选自可W是化咯的取代基的相同的控基。
[0066] 可W被用作本文描述的任何取代的化咯的取代基或者用作酷基、氨簇基幾基、 N-氨氨基甲酯基、或者N，N-二控基氨基甲酯基的Rla、护3、RSa或者RAa的每一个烷基可W独 立地选自甲基、乙基、丙基、下基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、或者十二烧 基巧选地，甲基、乙基、丙基、下基、戊基、己基、庚基、或者辛基。在一个实施方式中，可W 被用作本文描述的任何取代的化咯的取代基或者用作酷基、氨簇基幾基、N-氨氨基甲酯基、 或者N，N-二控基氨基甲酯基的Rla、沪、沪或者RAa的每一个烷基可W独立地选自甲基、乙 基、正丙基、异丙基、正下基、异下基、仲下基、叔下基、戊基、或者新戊基；可选甲基；可选地 乙基；可选地正丙基；可选地异丙基；可选地正下基；可选地异下基；可选地仲下基；可选 地叔下基；可选地戊基；或者可选地新戊基。可W被用作本文描述的任何取代的化咯的取 代基或者用作酷基、氨簇基幾基、N-氨氨基甲酯基、或者N，N-二控基氨基甲酯基的Ria、护3、 RSa或者RAa的每一个芳基可W独立地选自苯基、甲苯基、或者二甲苯基；可选地甲苯基；或 者可选地二甲苯基。可W被用作本文描述的任何取代的化咯的取代基或者用作酷基、氨簇 基幾基、N-氨氨基甲酯基、或者N，N-二控基氨基甲酯基的Rla、R2a、RSa或者RAa的每一个烧 芳基可W是苄基。
[0067] 可被用作低聚催化剂系统中的氮的化合物的示例性的含化咯化合物包括但不限 于化咯-2-簇酸、2-乙酷基化咯、化咯-2-甲醒、四氨吗I噪、2, 5-二甲基化咯、2, 4-二甲 基-3-乙基化咯、3-乙酷基-2, 4-二甲基化咯、乙基-2, 4-二甲基-5-(乙氧基幾基）-3-化 咯-丙酸醋、乙基-3, 5-二甲基-2-化咯簇酸醋、化咯、2, 5-二甲基化咯、2, 5-二乙基化咯、 3, 4-二甲基化咯、3, 4-二氯化咯、2, 3, 4, 5-四氯化咯、2-乙酷基化咯、化挫、化咯烧和二化 咯并甲烧W及其混合物等。在一个实施方式中，含化咯化物可W是2, 5-二甲基化咯；或者 可选地2, 5-二乙基化咯。含化咯化合物的选择可W基于成本、可得性和活性进行。例如，化 咯或2, 5-二甲基化咯或者可选地2, 5-二乙基化咯可W被用作氮的化合物，因为运些化合 物可W比本文列举的其它氮的化合物具有更高的可得性或提供更高的活性。在2009年10 月30日与本申请同时提交的题目为低聚催化剂系统和低聚締控的方法（OLIGOMERIZATION CATALYSTSYSTEMANDPROCESSFOROLIGOMERIZINGOLEFIN巧的美国专利申请序列号_ (代理人卷好211073US01)中描述运些化咯中的某些，该申请W其整体通过引用并入本文。
[0068] 烷基金属可W是任何杂配或者均配的烷基金属化合物。烷基金属的金属可W包括 1、2、11、12、13或者14族金属；或者可选地13或者14族金属；或者可选地13族金属。在一 些实施方式中，烷基金属可W包括烷基裡、烷基钢、烷基儀、烷基棚、烷基锋、或者烷基侣。示 例性的烷基金属包括但不限于正下基裡、仲下基裡、叔下基裡、二乙基儀或者二乙基锋。在 一个实施方式中，烷基金属可W是烷基侣。
[0069] 在一方面，烷基金属可W是烷基金属面化物。烷基金属面化物在本文被描述并且 可W被用作低聚催化剂系统的烷基金属组分。烷基金属面化物的面化物部分可W是氯化 物；可选地是漠化物；或者可选地是舰化物。
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