化学合成装置及化学合成装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及化学合成装置及化学合成装置的制造方法。
【背景技术】
[0002]现有技术中，存在作为例如在一边1mm以下的空间内进行化学反应的装置的微反应器。作为一种简单的装置，是在板上按T型刻有细小的槽并盖着盖，与管连接的装置。这种微反应器中，为了进行高效率的化学反应，例如，如专利文献1所述，提出了具备加热合流流路内的电热器的微反应器。
[0003]然而，在上述这种的微反应器中，由电热器很难均匀加热合流流路内的流体，并且难以控制合流流路内的流体的温度。因此，存在不能够充分地提高合流流路内的化学反应的效率的问题。
[0004]在先技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本专利特开2006-346653号公报
【发明内容】
[0007]本发明鉴于上述问题点而完成，能够提供一种容易控制流路内的流体的温度的化学合成装置、以及这种化学合成装置的制造方法。
[0008]涉及本发明的一种化学合成装置，其特征在于，具备:形成用于多个流体进行化学合成的第一流路和与上述第一流路不同的第二流路的基板，用于控制在上述第一流路内流动的流体的温度的介质在上述第二流路内流动。
[0009]根据该结构，基板形成有与第一流路不同的第二流路，第二流路内流动着用于控制在第一流路内流动的流体的温度的介质。因此，例如，通过沿着第一流路配置第二流路，能够通过介质控制第一流路内的流体的温度。因此，根据该结构，能够容易地控制流路内流体的温度。
[0010]在上述一种化学合成装置中优选，上述第一流路包括:多个导入流路部，分别导入上述多个流体；以及，合成流路部，由于上述多个流体进行合成，上述第二流路包括:第一控制流路部，用于控制在上述合成流路部内流动的流体的温度。
[0011]根据该结构，能够形成可以促进第一流路内的化学合成反应的构造。
[0012]在上述一种化学合成装置中，上述第一控制流路部优选具有:温度维持部，将流动在上述合成流路部内、被化学合成后的流体的温度维持在规定温度。
[0013]根据该结构，能够形成即使在第一流路内被化学合成的流体例如为由于温度降低而分解的流体，通过维持在规定温度，也可以抑制化学合成的流体分解的构造。
[0014]在上述一种化学合成装置中，上述第二流路优选包括:第二控制流路部，用于控制流动在上述导入流路部内的流体的温度。
[0015]根据该结构，能够形成可以将流入合成流路部的流体的温度调节为适合化学合成反应的温度的构造。
[0016]在上述一种化学合成装置中，上述第二流路的宽度优选比上述第一流路的宽度大。
[0017]根据该结构，能够形成即使流体从第一流路漏出，通过第二流路也容易回收漏出的流体的构造。
[0018]上述介质优选相对于流动在上述第一流路内的流体不活泼。
[0019]根据该结构，例如，即使流体从第一流路内漏出并与介质接触时，也可以抑制第一流路内的流体与介质反应的构造。
[0020]上述第二流路优选为沿着上述第一流路的至少一部分而设置。
[0021]根据该结构，能够形成通过第二流路容易地控制第一流路内的流体的温度的构造。
[0022]涉及本发明的一种化学合成装置的制造方法，是具有用于多个流体进行化学合成的第一流路的化学合成装置的制造方法，其特征在于，具有在基板上形成侧壁层的工序，在上述侧壁层设有第一贯通孔和第二贯通孔，上述第一贯通孔形成上述第一流路的一部分，上述第二贯通孔形成与上述第一流路不同的第二流路的一部分，用于控制在上述第一流路内流动的流体的温度的介质在上述第二流路内流动。
[0023]根据该方法，能够制造容易控制流路内流体的温度的化学合成装置。
【附图说明】
[0024]图1是示出第一实施方式的化学合成装置的俯视图。
[0025]图2是示出第一实施方式的化学合成装置的图、是图1中的I1-1I剖视图。
[0026]图3是示出第一实施方式的化学合成装置的图、图1中的II1-1II剖视图。
[0027]图4是示出第一实施方式的化学合成装置的制造方法的步骤的流程图。
[0028]图5的㈧?图5的⑶是示出第一实施方式的化学合成装置的制造方法的步骤的剖视图。
[0029]图6是示出第二实施方式的化学合成装置的俯视图。
[0030]图7是示出变形例1的化学合成装置的俯视图。
[0031]图8的(a)和图8的(b)是图7中的IV-1V剖视图。
[0032]图9是示出变形例2的化学合成装置的俯视图。
[0033]符号说明
[0034]10、110化学合成装置;11、111基板;13侧壁层;23合成流路部;50a、51a、52b、153a控制流路部；15流路用贯通孔(第一贯通孔)；16a、16b流路用贯通孔(第二贯通孔)；20、120合成用流路(第一流路)；21第一导入流路部(导入流路部)；22第二导入流路部(导入流路部);40a、40b、41a、41b、42a、42b、142a、142b、143a、143b、144a、144b、145a、145b温度控制用流路(第二流路)；50a、50b、51a、51b、154a、154b控制流路部(第二控制流路部)；52a、52b、152a、152b、155a、155b控制流路部(第一控制流路部);153a、153b控制流路部(第一控制流路部、温度维持部)；123第一合成流路部(合成流路部)；124第三导入流路部(导入流路部)；125第二合成流路部(合成流路部)；C1温度控制介质(介质)；Dla、Dlb、D2a、D2b、D2d试剂(流体);Dlc、D2e生成物(流体)；D2c中间生成物(流体)；ffl宽度(第一流路的宽度);W2、W3宽度(第二流路的宽度);1052a、1052b、1053a、1053b温度控制流路部；1060a介质注入装置；1060b、1101a、1101b、1102介质取出装置。
【具体实施方式】
[0035]下面，参考附图对涉及本发明的实施方式的化学合成装置进行说明。另外，本发明的范围不限定于以下的实施方式，在本发明的技术思想的范围内可以进行任意变形。另外，在下面的附图中，为了容易理解各结构，存在实际的构造与各构造的比例或数量等不同的情况。
[0036]另外，在本说明书中，“上游侧”及“下游侧”是相对于流路内的流动而言的。
[0037]另外，在本说明书中，“流动方向”的意思是流路内主要流动的方向。
[0038]第一实施方式
[0039]化学合成装置
[0040]图1至图3是示出本实施方式的化学合成装置10的图。图1是俯视图。图2是图1中的I1-1I剖视图。图3是图1中的II1-1II剖视图。
[0041]另外，在下面的说明中设定XYZ坐标系，参考该XYZ坐标系并对各结构的位置关系进行说明。此时，将基板11(参考图1)的法线方向设为Z轴方向，将基板11的宽度方向、gp、图1中上下方向设为Y轴方向，将基板11的长度方向、即、图1中左右方向设为X轴方向。
[0042]本实施方式的化学合成装置10，如图1所示，具备:基板11、试剂注入装置30、试剂注入装置31、生成物取出装置32、多个介质注入装置60a、以及多个介质取出装置60b。
[0043]基板
[0044]基板11的形状不特别限定，例如，在本实施方式中，俯视观察(XY面观察)中为矩形。在基板11的内部，如图1及图2所示，形成有合成用流路(第一流路)20、温度控制用流路(第二流路)40a、温度控制用流路(第二流路)40b、温度控制用流路(第二流路)41a、温度控制用流路(第二流路)41b、温度控制用流路(第二流路)42a、以及温度控制用流路(第二流路)42b。换言之，在基板11形成有合成用流路20、以及与合成用流路20不同的温度控制用流路40a?42b。关于合成用流路20及温度控制用流路40a?42b，在后面段落进行详细地描述。
[0045]如图2所示，第一基板12、侧壁层13、第一保护膜70、第二保护膜71、第二基板14以该顺序层叠而构成基板11。
[0046]第一基板12例如是玻璃基板。第一基板12的合成用流路20侧(+Z侧)的上表面12a设有侧壁层13。
[0047]如图3所示，在侧壁层13