一种水膜碱液法气体除尘脱硫装置以及除尘脱硫方法

文档序号:9774429阅读:867来源:国知局
一种水膜碱液法气体除尘脱硫装置以及除尘脱硫方法
【技术领域】
[0001] 本发明属于工业废气净化装置领域,具体涉及一种水膜碱液法气体除尘脱硫装置 以及除尘脱硫方法。
【背景技术】
[0002] 近年来,在我国由于二氧化硫排放所导致的酸雨污染危害面积达国土面积的 30%,给国家带来直接经济损失每年高达200多亿元,已成为制约社会经济发展的重要因素 之一。
[0003] 在借鉴国外污染控制经验的同时,结合我国国情,政府已把酸雨和二氧化硫污染 防治工作纳入国民经济和社会发展计划,并采取了相应措施,根据燃料的生命周期进行全 过程控制,其中包括调整能源结构、优化能源质量、提高能源利用效率、重点治理火电厂的 二氧化硫污染、研究开发治理技术和设备、实施排污许可证制度、进行排污交易试点等多个 方面。
[0004] 现有治理技术 1、湿法烟气脱硫技术 湿法烟气脱硫技术,己有十年的商业应用历史,具有技术成熟、工艺简单、运行稳定和 脱硫效率高等优点,但也存在脱硫产物的处理比较麻烦,烟温降低不利于扩散,传统湿法的 工艺较复杂,占地面积大,基建投资大(约占电厂总投资的1/5),运行费用高(约占电厂总运 行费用的8~18%),耗水量大,生成的副产物(如石膏)因受使用的限制易造成二次污染,脱 硫后烟气温度低,需再热方可排烟等缺点,湿法烟气脱硫技术的代表工艺是石灰石/石灰湿 法烟气脱硫工艺,该工艺根据脱硫产物是否回收利用可以分为石膏法和抛弃法,目前,对一 些大型脱硫装置比如电厂石灰石/石灰湿法烟气脱硫多数采用可回收利用的石膏法,即石 灰石/石灰一石膏法,该技术具有技术成熟、脱硫效率高等优点,是目前国际上烟气脱硫的 主要方法。湿法烟气脱硫技术。
[0005] 2、半干法脱硫技术 半干法烟气脱硫技术是介于湿法和干法之间的一种脱硫方法,是利用烟气的显热蒸发 石灰浆液中的水分,同时在干燥过程中,石灰与烟气中的二氧化硫反应生成亚硫酸钙等,并 使最终产物成为干粉状,半干法脱硫反应是在气、液、固三相中进行,其典型工艺为喷雾干 燥法(DSA)即雾化的石灰浆液在喷雾干燥塔中与热烟气接触,反应生成副产物硫酸钙,其中 的水分被热烟气蒸发,最终成为干粉状,同飞灰一起被除尘器收集,该工艺主要由生石灰接 收贮存系统,浆液制备供应系统,吸收反应系统,灰渣处理和再循环系统,监控系统组成,其 主要特点:系统简单、占地面积小、投资费用低,以石灰作吸收剂且品质要求高,价格高,脱 硫产物呈干态,无废水排放,但产物综合利用受限制,下游除尘设备受一定影响等。
[0006] 3、干法脱硫技术 干法脱硫反应在无液相介入的完全干燥状态下进行,反应产物亦为干粉状,其主要优 点为:过程耗水量少,一般不会造成二次污染,脱硫后烟气温度高,可自行排烟,硫便于回收 等,但由于气固相反应速率较低,致使脱硫过程空速低,设备庞大,脱硫率常不及湿法,近年 来,对干法脱硫技术的研究呈上升趋势,出现了不少新技术,主要有电子辐射及脉冲放电等 离子体工艺,催化氧化法和炭基材料法等。

【发明内容】

[0007] 为了解决上述技术问题,本发明提供一种水膜碱液法气体除尘脱硫装置,包括进 气管1,水膜除尘罐2,水雾布撒装置3,排水管4,脱硫室5,排气管6,智能控制器7,水位传感 器8;所述水膜除尘罐2的一侧上部设有进气管1和水雾布撒装置3,水膜除尘罐2的另一侧设 有排水管4和脱硫室5,所述脱硫室5顶部设有排气管6,所述智能控制器7位于脱硫室5的前 端;所述水位传感器8位于水膜除尘罐2的顶部,水位传感器8与智能控制器7导线连接。
[0008] 进一步的,所述水膜除尘罐2包括:气体加湿室2-1,水膜除尘室2-2,导气环2-3,粉 尘浓度探测器2-4;所述气体加湿室2-1位于水膜除尘罐2-侧上部,气体加湿室2-1为长方 体中空室,气体加湿室2-1与水膜除尘室2-2侧壁一端垂直相切,气体加湿室2-1与水膜除尘 室2-2相切部位内部相互贯通边缘无缝焊接;所述水膜除尘室2-2为水平布置的截面为上端 圆形下端梯形的柱状中空结构,水膜除尘室2-2-侧与气体加湿室2-1贯通,水膜除尘室2-2 另一侧与脱硫室5连通;所述导气环2-3为圆弧形高分子材料板,导气环2-3的外圆弧直径与 水膜除尘室2-2截面内侧直径相同,导气环2-3外圆弧面与水膜除尘室2-2内壁垂直无缝焊 接,导气环2-3内圆弧直径比外圆弧直径小15cm~25cm,导气环2-3均匀的分布在水膜除尘 室2-2内壁上,导气环2-3的数量不少于5个,粉尘浓度探测器2-4位于气体加湿室2-1的上 端,粉尘浓度探测器2-4与智能控制器7导线连接。
[0009] 进一步的,所述水雾布撒装置3包括:进水干管3-1,进水支管3-2,矩形管3-3,雾化 喷头3-4,电磁阀3-5,水栗3-6;其中所述进水干管3-1为水平放置的圆柱形直管,进水干管 3-1从水膜除尘室2-2-侧垂直伸入水膜除尘室2-2;所述进水支管3-2为连接进水干管3-1 和矩形管3-3的一段软管,进水支管3-2两端分别与进水干管3-1和矩形管3-3贯通相连;所 述矩形管3-3为水平布置的矩形管道,矩形管3-3位于气体加湿室2-1内部,矩形管3-3数量 不少于两层,矩形管3-3在气体加湿室2-1内部按竖直方向均匀布置,矩形管3-3每层之间等 距排列,相邻二层矩形管3-3的间距为15cm~25cm;矩形管3-3的上部设有雾化喷头3-4,雾 化喷头3-4的数量不少于10个,雾化喷头3-4在管壁上等距均匀分布,雾化喷头3-4在矩形管 3-3上一字排列,相邻二个雾化喷头3-4之间的距离为5cm~25cm;雾化喷头3-4的表面密布 微孔,微孔的直径为5nm~25nm,雾化喷头3-4的材质为铜猛合金材质;所述进水干管3-1设 有雾化喷头3-4,雾化喷头3-4竖直向上贯通焊接在管壁上部,雾化喷头3-4的数量不少于20 个,雾化喷头3-4在管壁上等距均匀分布,雾化喷头3-4在进水干管3-1上一字排列,相邻二 个雾化喷头3-4之间的距离为5cm~25cm;雾化喷头3-4的表面密布微孔,微孔的直径为 5.5nm~25.5nm,雾化喷头3-4的材质为铜猛合金材质;所述电磁阀3-5位于进水干管3-1的 一端,并与进水干管3-1串联,电磁阀3-5与智能控制器7导线连接;所述水栗3-6位于进水干 管3-1的一端,并与进水干管3-1连通,水栗3-6与智能控制器7导线连接。
[0010] 进一步的,所述脱硫室5包括:进气槽5-1,排气孔5-2,二氧化硫触媒分解板5-3,二 氧化硫浓度仪5-4,抽风机5-5;其中进气槽5-1包括竖直段和水平段,所述进气槽5-1竖直段 为竖直通道,且底部与进气槽5-1水平段贯通,进气槽5-1竖直段上端与水膜除尘罐2-侧的 矩形开口贯通,进气槽5-1水平段底部与脱硫室5底部的距离为2cm~5cm;进气槽5-1水平段 上部设有排气孔5-2,所述排气孔5-2为上端圆锥型下端圆柱形的细管,排气孔5-2下端与进 气槽5-1水平段垂直贯通,排气孔5-2均匀分布在进气槽5-1水平段上,排气孔5-2数量不少 于100个,排气孔5-2行间距为2cm~5cm,排气孔5-2列间距为2cm~5cm,排气孔5-2的直径为 15nm~35nm,排气孔5-2的材质为铜猛合金材质;所述二氧化硫触媒分解板5-3为水平交错 布置的薄板,相邻的两层二氧化硫触媒分解板5-3-块无缝焊接在脱硫室5的前侧内壁上, 另一块则无缝焊接在脱硫室5的后侧内壁上,二氧化硫触媒分解板5-3的宽度比脱硫室5宽 度小20cm~30cm,相邻的二氧化硫触媒分解板5-3垂直间距为IOcm~15cm,二氧化硫触媒分 解板5-3的数量为3~13块;二氧化硫触媒分解板5-3上部设有二氧化硫浓度仪5-4,并固定 在脱硫室5上部,二氧化硫浓度仪5-4与智能控制器7导线连接;脱硫室5上部还设有抽风机 5-5,抽风机5-5与智能控制器7导线连接。
[0011]进一步的,所述二氧化硫触媒分解板5-3由高分子材料压模成型,二氧化硫触媒分 解板5-3包括二氧化硫触媒球5-3-1,触媒球间隙5-3-2,媒解饱和传感器5-3-3;二氧化硫触 媒球5-3-1的直径为Ilnm~51nm,触媒球间隙5-3-2最大距离为151nm,二氧化硫触媒球5-3-1的数量51~510万个;所述媒解饱和传感器5-3-3位于二氧化硫触媒球5-3-1中部,媒解饱 和传感器5-3-3与智能控制器7导线连接;二氧化硫触媒分解板5-3的组成成分和制造过程 如下: 一、 二氧化硫触媒分解板5-3组成成分: 按重量份数计,异戊酸甲酯2~8份,丙烯酸甲酯5~25份,硫氰酸甲酯2~5份,苯甲酸乙 酯10~25份,硬脂酸甲酯10~20份,纳米级草酸钯80~120份,浓度为6ppm~15ppm的正丁酸 甲酯40~80份,三氯醋酸15~30份,丁二酸二甲酯5~15份,交联剂15~25份,硫酸二甲酯4 ~8份,乙二醇二甲醚15~30份,亚硫酸二甲酯5~35份; 所述交联剂为2-4-6-三硝基苯甲酸; 所述纳米级草酸钯的粒径为50nm~75nm; 二、 二氧化硫触媒分解板5-3的制造过程,包含以下步骤: 第1步、在反应釜中加入电导率为0.001yS/cm~0.05yS/cm的超纯水1500~2500份,启 动反应釜内搅拌器,转速为30rpm~80rpm,启动加热栗,使反应釜内温度上升至160°C~190 °C;依次加入异戊酸甲酯、丙烯酸甲酯、硫氰酸甲酯,搅拌至完全溶解,调节pH值为6.0~ 8.5,将搅拌器转速调至150rpm~180rpm,温度为140°C~150°C,酯化反应Ih~IOh;第2步、 取苯甲酸乙酯、硬脂酸甲酯粉碎,粉末粒径为100~550目;加入纳米级草酸钯混合均匀,平 铺于托盘内,平铺厚度为15mm~30mm,采用剂量为1.2kGy~2.2kGy、能量为I.O
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