新型精馏塔的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及化工技术领域，具体地说，是一种精馏塔。
【背景技术】
[0002]精馏塔是化工、石油化工、生物、制药等生产过程中广泛采用的气液传质设备，可根据各组分挥发度的不同实现物质分离。在实际生产操作中，由于物料可能具有腐蚀性或毒性，或者含氢的介质容易产生氢裂缝，精馏塔塔体上一般都有焊缝，塔体表面也容易存在凹凸不平的部位，这些部位容易造成氢聚集，在应力作用下，会产生裂纹，还可能存在人工操作失误的情况，这些原因都有可能导致精馏塔发生泄漏，物料与空气接触，进而引发爆炸，出现安全事故，伤害人身安全和健康，造成经济损失。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型针对上述现有技术的不足，设计了一种新型的精馏塔。
[0004]本实用新型的新型精馏塔，包括上连接管、下连接管、内罐和外罐，所述内罐位于外罐内，所述内罐和外罐的上下两端都分别设置有上开口和下开口，所述内罐和外罐的上开口都与上连接管内端焊接连接，所述内罐和外罐的下开口都与下连接管内端焊接连接，所述内罐和外罐的管壁之间设置有间隙，所述间隙内填充有惰性气体，所述的间隙内安装有测压装置，所述间隙的宽度为I?2mm。
[0005]优选的是，所述内罐和外罐的上开口都焊接在上连接管内端的同一位置上，所述内罐和外罐的下开口都焊接在下连接管内端的同一位置上。
[0006]本实用新型的有益效果是:新型精馏塔设置两层罐体，间隙中存有惰性气体，可在内罐发生泄漏后，存储泄漏物料，避免物料泄漏到塔外导致爆炸或有毒物质外泄，造成安全事故。间隙内安装的测压装置能够在内罐发生泄漏时检测到罐体之间的压力变化，提示监控人员内罐已经发生泄漏，引导其采取有效措施。内罐和外罐通过焊接连接，保证了罐体内良好的密封性。间隙宽度适中，在形成双层结构的同时，不会大幅度增加精馏塔的体积，也不会大幅度降低精馏塔的容积。内罐和外罐都焊接到对应连接管的同一位置，使焊接连接位置厚度较大，连接强度高，密封性能好。
【附图说明】
[0007]附图1为本新型精馏塔的结构示意图。
【具体实施方式】
[0008]本实用新型的新型精馏塔，如图1所示，包括上连接管1、下连接管2、内罐3和外罐4。
[0009]内罐3位于外罐4内，内罐3和外罐4的上下两端都分别设置有上开口 5和下开口 6，内罐3和外罐4的上开口都与上连接管I内端焊接连接，内罐3和外罐4的下开口 6都与下连接管2内端焊接连接。
[0010]内罐3和外罐4的管壁之间设置有间隙7，间隙7内填充有惰性气体，间隙7内安装有测压装置，测压传感器包括气压传感器，间隙7的宽度为I?2_。
[0011]使用时，物料在精馏塔内进行物质分离，当由于物料特性或者人工操作失误造成内罐3泄漏时，泄漏出的物料进入到间隙7内的惰性气体中，避免物料泄漏到空气中发生爆炸。
[0012]由于物料的进入，间隙7内的压力发生变化，测压装置检测到压力的变化，提示操作人员精馏塔已经发生泄漏，引导其采取有效措施。
【主权项】
1.一种新型精馏塔，其特征在于，包括上连接管(1)、下连接管(2)、内罐(3)和外罐(4)，所述内罐(3)位于外罐⑷内，所述内罐(3)和外罐⑷的上下两端都分别设置有上开口(5)和下开口(6)，所述内罐(3)和外罐(4)的上开口都与上连接管⑴内端焊接连接，所述内罐⑶和外罐⑷的下开口(6)都与下连接管(2)内端焊接连接，所述内罐(3)和外罐⑷的管壁之间设置有间隙(7)，所述间隙(7)内填充有惰性气体，所述的间隙(7)内安装有测压装置，所述间隙(7)的宽度为I?2mm。2.根据权利要求1所述的新型精馏塔，其特征在于，所述内罐(3)和外罐⑷的上开口(5)都焊接在上连接管⑴内端的同一位置上，所述内罐(3)和外罐⑷的下开口(6)都焊接在下连接管(2)内端的同一位置上。
【专利摘要】一种新型精馏塔，包括上连接管、下连接管、内罐和外罐，所述内罐位于外罐内，所述内罐和外罐的上下两端都分别设置有上开口和下开口，所述内罐和外罐的上开口都与上连接管内端焊接连接，所述内罐和外罐的下开口都与下连接管内端焊接连接，所述内罐和外罐的管壁之间设置有间隙，所述间隙内填充有惰性气体，所述的间隙内安装有测压装置，所述间隙的宽度为1～2mm。新型精馏塔设置两层罐体，间隙中存有惰性气体，可在内罐发生泄漏后，存储泄漏物料，避免物料泄漏到塔外导致爆炸或有毒物质外泄，造成安全事故。间隙内安装的测压装置能够在内罐发生泄漏时检测到罐体之间的压力变化，提示监控人员内罐已经发生泄漏，引导其采取有效措施。内罐和外罐通过焊接连接，保证了罐体内良好的密封性。
【IPC分类】B01D3/14
【公开号】CN204637624
【申请号】CN201520308993
【发明人】仇汝臣, 沈体峰, 刘新新, 范宁, 赵治雨, 孙美玲, 王少梅, 任晓晗, 谢腾腾
【申请人】山东豪迈化工技术有限公司
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2015年5月14日