一种带有分布器的氧化反应釜的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及化工生产技术领域，具体地说，尤其涉及一种带有分布器的氧化反应爸。
【背景技术】
[0002]在化工生产中，常会采用一锅法合成所需物质，一锅法虽然装置简单、操作简便，但也存在一定的问题。一些氧化剂难以与所需被氧化的物质接触，接触面积小，因此采用一锅法合成此类反应常会造成反应不彻底，且耗费大量的时间，合成周期长。
【发明内容】
[0003]为了解决上述问题，本实用新型公开了一种带有分布器的氧化反应釜，在反应釜釜体上方设置高位槽，氧化剂可以从高位槽中流出并经分布器均匀发散的与被氧化的物质接触，增加了接触面积，同时能够反复循环的被氧化，反应彻底。
[0004]本实用新型是通过以下技术方案实现的:
[0005]—种带有分布器的氧化反应爸，包括高位槽1、反应爸爸体5、分布器6，所述高位槽I下端连接有管道甲3，所述管道甲3的另一端与所述分布器6连接，所述分布器6位于所述反应爸爸体5内部。
[0006]优选的，所述反应釜釜体5底部设有管道乙10，所述管道乙10的另一端设置在所述反应IlIl体5的上端。
[0007]优选的，所述管道乙10上设有阀门乙8、栗9。
[0008]优选的，所述分布器6为圈体，所述分布器6表面均勾分布有若干孔7。
[0009]优选的，所述管道甲3及所述分布器6外侧均设有保护套4。
[0010]优选的，所述管道甲3上设有阀门甲2。
[0011]优选的，所述高位槽I位于所述反应釜釜体5的上方。
[0012]与现有技术相比，本实用新型的有益效果是:
[0013]本实用新型结构新颖，反应釜釜体上方设有高位槽，釜体内设有分布器，高位槽通过管道与分布器连接，高位槽内的氧化剂能够流下并经分布器上均匀分散的孔发散性地与釜体内需被氧化的物质充分接触，增加了接触面积；釜体下端连接有栗和管道，能够将釜体内液体循环抽至釜体内进行充分的氧化反应，反应完全；本实用新型适用于各种难以接触进行的反应，增加了物质之间的接触时间及面积，适用范围广。
【附图说明】
[0014]图1是本实用新型的结构示意图。
[0015]图1中:1、高位槽；2、阀门甲；3、管道甲；4、保护套；5、反应釜釜体；6、分布器；7、孔；8、阀门乙；9、栗；10、管道乙。
【具体实施方式】
[0016]下面结合附图对本实用新型进一步说明:
[0017]一种带有分布器的氧化反应釜，包括高位槽1、反应釜釜体5、分布器6，所述高位槽I下端连接有管道甲3，所述管道甲3的另一端与所述分布器6连接，所述分布器6位于所述反应爸爸体5内部。
[0018]所述反应釜釜体5底部设有管道乙10，所述管道乙10的另一端设置在所述反应釜爸体5的上端。
[0019]所述管道乙10上设有阀门乙8、栗9。
[0020]所述分布器6为圈体，所述分布器6表面均勾分布有若干孔7。
[0021]所述管道甲3及所述分布器6外侧均设有保护套4。
[0022]所述管道甲3上设有阀门甲2。
[0023]所述高位槽I位于所述反应釜釜体5的上方。
[0024]如图1所示，一种带有分布器的氧化反应釜，包括高位槽1、反应釜釜体5、分布器6，高位槽I设置在反应釜釜体5的上方，分布器6设置在反应釜釜体5内部，高位槽I下端连接有管道甲3，管道甲3的另一端与分布器6连通，管道甲3上安装有阀门甲2 ;反应釜釜体5底部设置有管道乙10，管道10的另一端与反应釜釜体5的顶端连通，管道乙10上安装有阀门乙8和栗9 ;分布器6为圈体，圈体分布器6的表面均勾分散有若干孔7，分布器6和管道3外侧均设有保护套4 ;为了防止氧化剂与含铁材质反应，所以分布器6和管道3均采用塑料材质制成，保护套4的材质为不锈钢，起到加强固定的作用，保护套4保护分布器6的那部分不锈钢钢体在与孔7相应的的位置也开设有孔，不会阻碍氧化剂的流出。
[0025]使用时，打开阀门甲2，高位槽I中的氧化剂经管道甲3流向分布器6，最后经分布器6上若干的孔7均匀分散的流出，与反应釜釜体5内需氧化的物质充分的接触反应；打开阀门乙8，反应釜釜体5内的液体可以通过栗9被抽至管道乙10中，最终又流到反应釜釜体5中，如此，可以反复循环的与氧化剂接触，增加了接触面积，保证反应的充分进行。
[0026]本实用新型结构新颖，反应釜釜体上方设有高位槽，釜体内设有分布器，高位槽通过管道与分布器连接，高位槽内的氧化剂能够流下并经分布器上均匀分散的孔发散性地与釜体内需被氧化的物质充分接触，增加了接触面积；釜体下端连接有栗和管道，能够将釜体内液体循环抽至釜体内进行充分的氧化反应，反应完全；本实用新型适用于各种难以接触进行的反应，增加了物质之间的接触时间及面积，适用范围广。
[0027]综上所述，仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用来限定本实用新型实施的范围，凡依本实用新型权利要求范围所述的形状、构造、特征及精神所为的均等变化与修饰，均应包括于本实用新型的权利要求范围内。
【主权项】
1.一种带有分布器的氧化反应釜，其特征在于:包括高位槽(I)、反应釜釜体(5)、分布器(6)，所述高位槽(I)下端连接有管道甲(3)，所述管道甲(3)的另一端与所述分布器(6)连接，所述分布器(6)位于所述反应釜釜体(5)内部。2.根据权利要求1所述的一种带有分布器的氧化反应釜，其特征在于:所述反应釜釜体(5)底部设有管道乙(10)，所述管道乙(10)的另一端设置在所述反应釜釜体(5)的上端。3.根据权利要求2所述的一种带有分布器的氧化反应釜，其特征在于:所述管道乙(10)上设有阀门乙(8)、栗(9)04.根据权利要求1所述的一种带有分布器的氧化反应釜，其特征在于:所述分布器(6)为圈体，所述分布器(6)表面均勾分布有若干孔(7)。5.根据权利要求1所述的一种带有分布器的氧化反应釜，其特征在于:所述管道甲(3)及所述分布器(6)外侧均设有保护套(4)。6.根据权利要求1所述的一种带有分布器的氧化反应釜，其特征在于:所述管道甲(3)上设有阀门甲(2)。7.根据权利要求1所述的一种带有分布器的氧化反应釜，其特征在于:所述高位槽(I)位于所述反应釜釜体(5)的上方。
【专利摘要】本实用新型公开了一种带有分布器的氧化反应釜，属于化工生产技术领域。包括高位槽、反应釜釜体、分布器，所述高位槽下端连接有管道甲，所述管道甲的另一端与所述分布器连接，所述分布器位于所述反应釜釜体内部。本实用新型结构新颖，反应釜釜体上方设有高位槽，釜体内设有分布器，高位槽通过管道与分布器连接，高位槽内的氧化剂能够流下并经分布器上均匀分散的孔发散性地与釜体内需被氧化的物质充分接触，增加了接触面积；釜体下端连接有泵和管道，能够将釜体内液体循环抽至釜体内进行充分的氧化反应，反应完全；本实用新型适用于各种难以接触进行的反应，增加了物质之间的接触时间及面积，适用范围广。
【IPC分类】B01J19/00, B01J4/00
【公开号】CN205164698
【申请号】CN201520836920
【发明人】秦正琦, 吕桂栋, 秦国儒, 曹德富, 秦国岭, 孙有蓉, 刘正节
【申请人】高邮市助剂厂
【公开日】2016年4月20日
【申请日】2015年10月17日