压力传感器的制备方法与流程

文档序号:12052977阅读:来源:国知局
技术总结
本发明揭示一种压力传感器的制备方法,包括:提供半导体基板,半导体基板包括互连电路和底部接触电极,半导体基板表面具有覆盖互连结构的上层金属层的层间介质层;形成牺牲层,牺牲层覆盖底部接触电极及部分层间介质层;形成压力感应层,压力感应层覆盖牺牲层以及剩余的层间介质层;刻蚀压力感应层以及层间介质层,暴露至少部分上层金属层,且暴露至少部分压力感应层的底壁;形成连接结构,连接结构覆盖暴露的上层金属层以及暴露的压力感应层的底壁。本发明中,通过连接结构实现压力感应层与上层金属层之间的电性连接,并且,压力感应层与连接结构、上层金属层之间均不会形成合金,提高了压力传感器的阻值均匀性。

技术研发人员:刘孟彬;毛剑宏;杨天伦
受保护的技术使用者:上海丽恒光微电子科技有限公司
文档号码:201510770504
技术研发日:2015.11.12
技术公布日:2017.05.24

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