一种硅基微针阵列贴片的制备方法与流程

文档序号:15840998发布日期:2018-11-07 08:26阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开了一种硅基微针阵列贴片的制备方法,所述的制备方法以下步骤:S.1在硅片背面涂敷光刻胶;S.2将硅片进行烘烤;S.3光刻曝光,显影,制备孔阵列;S.4深硅刻蚀,在硅片中形成深孔;S.5在硅片正面通过电子束蒸发覆盖一层铝膜;S.6在硅片正面涂敷光刻胶;S.7将硅片进行烘烤;S.8光刻曝光,显影,制备光刻胶圆柱阵列;S.9浸入铝腐蚀液,去除多余铝膜,漂洗干净;S.10深硅刻蚀,以铝为刻蚀模板,刻蚀硅片得到硅针尖毛坯阵列;S.11去除光刻胶,铝膜;S.12将硅片浸入腐蚀液,得到硅基微针阵列。本发明具有如下有益效果:(1)制备工艺大大简化,加工简单;(2)微孔偏离针尖的正中心,穿刺能力增强;(3)方便后期二次加工。

技术研发人员:张鉴;张雪峰;姚小莉;邓萌萌
受保护的技术使用者:杭州电子科技大学
技术研发日:2018.04.13
技术公布日:2018.11.06
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