金属表面电沉积制备硅烷膜的方法与流程

技术特征：
1.一种金属表面电沉积制备硅烷膜的方法，其特征是：(1)配制硅烷预水解溶液：首先向烧杯中加入200mL的去离子水，再加入50mL的甲醇，置于磁力搅拌器上搅拌均匀，再加入30mL的硅烷偶联剂γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷，搅拌均匀；滴加冰醋酸调节溶液pH值至3.5，采用超声20min充分混匀后置于25℃恒温水浴锅中，预水解24小时，然后加入9.24gH2O2得到硅烷预水解溶液；(2)将硅烷预水解溶液至于高压釜内，6061铝合金作为工作电极，铂片作为对电极，Ag/AgCl电极作为参比电极；(3)通入浓度≥99％的工业氧气控制高压釜内压强：常压、2MPa、5MPa、10MPa、20MPa，对工作电极施加阴极电位：-0.6V，电沉积时间：300s；取出，用高压氮气去除表面多余硅烷预水解溶液，然后置于100℃的干燥箱中加热固化20min。