一种具有过滤回流装置的电镀工位的制作方法

本实用新型涉及电镀生产技术领域,特别涉及一种具有过滤回流装置的电镀工位。

背景技术：

珍珠镍也称沙镍、锻面镍与麻面镍、雾镍，该工艺是近几年才发展起来的。由于该工艺电镀出来的产品无反光，强光直射时产生漫反射，手感润滑舒适，得到广泛的使用。珍珠镍镀层的原理是，在电镀液(如硫酸盐镀镍液)中加入一种或两种非离子型表面活性剂组成珍珠镍镀液，由增水基碳链或基环(简称R键)、亲水基醚键(-O-)和聚氧乙烯键(CH2CH2O)三种基团组成，因它们有一共同特点是：这些物质具有反常的不溶解性能，随温度升高，它们的溶解度反而降低，在溶液温度升高时，与水有缔合作用的醚键会脱钩，便会析出使溶液浑浊，我们把能使溶液变浑浊时的温度临界值称为浊点。当镀液在浊点温度以上时，镍离子在镀件放电沉积，珍珠镍镀液中析出一个个乳滴并吸附于镀件表面，当它们直径在5～30㎜时，导致镀件吸咐有乳滴处导致电离中断而无镍沉积，当镀件脱离渡槽后，镀件的镀层上就会有微小凹坑，如此反复，便形成了凹凸不平的珍珠镍层。

但是珍珠镍镀液极易老化，在电镀的过程中珍珠镍镀液中的乳滴粒径会逐渐增大，同时乳滴粒径也不相同也，使得珍珠镍镀层形成的凹坑大小不一，直接影响珍珠镍镀层的质量以及珍珠镍镀层的一致性，所以现有的电镀线，在电镀几小时后就需要更换珍珠镍镀液，使得珍珠镍镀液的使用寿命较短，同时也影响了电镀的生产效率。

技术实现要素：

本实用新型解决的技术问题是针对上述现有技术中存在的缺陷,提供一种具有过滤回流装置的电镀工位，以解决上述背景技术中提出的问题。

为解决上述技术问题,本实用新型采取的技术方案如下:一种具有过滤回流装置的电镀工位,所述电镀工位上设置有电镀槽和过滤回流装置，所述过滤回流装置包括溢流槽、收集槽、缓冲筒、过滤筒以及水泵，所述溢流槽设置在电镀槽的内壁，所述电镀槽内的珍珠镍电镀液通过溢流板进入溢流槽内，所述收集槽设置在电镀槽外壁，所述电镀槽侧壁开制有连通溢流槽和收集槽的收集口，所述收集槽槽底设置有通向缓冲筒的收集管，所述水泵的出水口设置有通向电镀槽槽底的回流管，所述过滤筒的上下两端设置有两个分别通向缓冲筒和水泵进水口的连接管；所述电镀槽内设置有两个相互平行的导电板，所述导电板上吊设有多个向下伸入到电镀槽内珍珠镍电镀液的电极板，所述电极板下端套设有料袋，所述电镀槽的内壁设置有支撑导电板的支架。

作为对上述技术方案的进一步阐述：

在上述技术方案中,所述电镀槽在与过滤回流装置相对的另一侧设置有挂料机，所述挂料机包括从上到下依次设置的上导轨、牵引架、提升梁、下导轨，所述上导轨和下导轨之间形成供牵引架水平移动的轨道，所述下导轨在电镀工位上设置有第一接电块；所述牵引架往电镀槽方向水平延伸有挂臂，所述挂臂的一端在电镀槽正上方设置有悬挂挂具的旋转头，所述挂臂的另一端设置有在电镀工位与第一接电块接触的第二接电块，所述第二接电块与旋转头电连接；所述挂臂在第二接电块外侧设置有与提升梁连接的滑座，所述提升梁驱动挂臂沿牵引架上下移动。

在上述技术方案中,所述旋转头包括从上到下依次连接的转轴、连接杆和连接座，所述挂臂上设置有旋转电机，所述转轴与旋转电机的驱动端连接；所述连接座上开制有与挂具连接的卡槽。

在上述技术方案中,所述两个导电板相互串联。

在上述技术方案中,所述电极板的上端设置有与导电板连接的倒钩，所述倒钩外侧设置有把手。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：本实用新型结构合理，通过溢流板将电镀槽上层的珍珠镍电镀液溢流到溢流槽中，进行过滤筒过滤再回流到电镀槽中，将珍珠镍电镀液内已经老化(粒径较大)的乳滴过滤掉，保证珍珠镍电镀液内的乳滴粒径维持在较小的范围，延长珍珠镍电镀液的使用寿命，提高珍珠镍镀层的一致性，提高电镀的效率；通过缓冲筒进行缓冲，保证过滤筒以恒定的水量进行过滤，同时缓冲筒还可以使颗粒加大的杂质沉降在缓冲筒底，提高过滤的效果。

附图说明

图1是本实用新型立体结构示意图。

图中：1、电镀槽；2、溢流槽；21、溢流板；3、收集槽；31、收集口；41、收集管；42、缓冲筒；43、过滤筒；44、水泵；45、回流管；51、上导轨；52、下导轨；53、牵引架；54、提升梁；55、第一接电块；6、挂臂；61、挂钩；611、卡槽；62、滑座；63、旋转电机；64、第二接电块；71、导电板；72、电极板；73、把手；74、支架；75、料袋。

具体实施方式

下面结合附图1对本实用新型作进一步详细的说明。

通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本申请,而不能理解为对本申请的限制。在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中,“若干个”、“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。在本申请中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接；可以是机械连接,也可以是电连接；可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。在本申请中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

如图1所示，一种具有过滤回流装置的电镀工位,电镀工位上设置有电镀槽1和过滤回流装置，过滤回流装置包括溢流槽2、收集槽3、缓冲筒42、过滤筒43以及水泵44，溢流槽2设置在电镀槽1的内壁，电镀槽1内的珍珠镍电镀液通过溢流板21进入溢流槽2内，收集槽3设置在电镀槽1外壁，电镀槽1侧壁开制有连通溢流槽2和收集槽3的收集口31，收集槽3槽底设置有通向缓冲筒42的收集管41，水泵44的出水口设置有通向电镀槽1槽底的回流管45，过滤筒43的上下两端设置有两个分别通向缓冲筒42和水泵44进水口的连接管；电镀槽1内设置有两个相互平行的导电板71，导电板71上吊设有多个向下伸入到电镀槽1内珍珠镍电镀液的电极板72，电极板72下端套设有料袋75，电镀槽1的内壁设置有支撑导电板71的支架74。

电镀槽1在与过滤回流装置相对的另一侧设置有挂料机，挂料机包括从上到下依次设置的上导轨51、牵引架53、提升梁54、下导轨52，上导轨51和下导轨52之间形成供牵引架53水平移动的轨道，下导轨52在电镀工位上设置有第一接电块55；牵引架53往电镀槽1方向水平延伸有挂臂6，挂臂6的一端在电镀槽1正上方设置有悬挂挂具的旋转头，挂臂6的另一端设置有在电镀工位与第一接电块55接触的第二接电块64，第二接电块64与旋转头电连接；挂臂6在第二接电块64外侧设置有与提升梁54连接的滑座62，提升梁54驱动挂臂6沿牵引架53上下移动。

旋转头包括从上到下依次连接的转轴、连接杆和连接座61，挂臂6上设置有旋转电机63，转轴与旋转电机63的驱动端连接；连接座61上开制有与挂具连接的卡槽611。

两个导电板71相互串联。电极板72的上端设置有与导电板71连接的倒钩，倒钩外侧设置有把手73，方便将电解板拿起来进行更换珍珠镍料袋75。

提升梁54带动挂臂6将镀件浸入电镀槽1中，同时第一接电块55与第二接电块64接触通电，使得电镀槽1内的挂具以及镀件作为阴极，电极板72作为阳极，使得镀件在电镀槽1内镀上珍珠镍。在电镀的过程中电镀槽1上层的珍珠镍电镀液通过溢流板21溢流到溢流槽2中，经过收集口31聚集到收集槽3中，通过收集管41流入缓冲筒42，过滤筒43在水泵44的作用下吸取缓冲筒42内的珍珠镍电镀液并进行过滤，过滤后的珍珠镍电镀液通过水泵44和回流管45泵送回电镀槽1中，起到过滤回流的作用，保证珍珠镍电镀液内的乳滴粒径维持在较小的范围，延长珍珠镍电镀液的使用寿命；因过滤筒43过滤的速率需要恒定，而镀件在升起和浸入电镀槽1时溢流的水量相差较大，通过缓冲筒42进行缓冲，使得过滤筒43可以以和恒定的水量进行过滤，同时缓冲筒42还可以使粒径较大的乳滴杂质沉降在缓冲筒42底，提高过滤的效果。

以上并非对本实用新型的技术范围作任何限制，凡依据本实用新型技术实质对以上的实施例所作的任何修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型的技术方案的范围内。