一种新型薄膜夹持装置的制作方法

本发明涉及电化学沉积技术领域，尤其涉及一种新型薄膜夹持装置。

背景技术：

电化学沉积就是利用电化学方法，电解液离子在阴阳两极发生氧化还原反应，在阴极表面发生的是还原反应，通过选择性调节电沉积参数(电极电位、电流密度、电沉积溶液ph值等)，使电解液阳离子在阴极表面被还原而析出所需镀层物质的一种方法。在电化学沉积过程中，样品直接夹在电极夹上，竖直放入电解液中。由于样品竖直放置，柔性薄膜在水的作用力下，会微微浮起并发生弯曲现象，导致制备的材料沉积不均匀；现有的薄膜夹持装置使用并不方便，它是由2个铁片组成，这2个铁片通过螺丝进行配合，需要先将薄膜夹在2铁片中间，再由四角的四个螺丝旋紧固定薄膜，还要将电极夹固定夹在夹持装置上，才可进行电化学沉积实验；因此，有必要寻求一种的新的薄膜夹持装置，使其能够更加方便的固定薄膜，提高实验效率。

技术实现要素：

为解决上述问题，本发明公开了一种新型薄膜夹持装置，有效解决了电化学沉积实验中出现的薄膜弯曲和漂浮造成的沉积不均匀的现象。

为了达到以上目的，本发明提供如下技术方案：

一种新型薄膜夹持装置，其特征在于：包括两上下对称设置的上铁片和下铁片，所述上铁片和下铁片为相同的矩形铁片，且中部均开有相同的矩形孔，所述上铁片的下端与下铁片的下端转动连接，上铁片底面的四个顶角处分别设有磁铁，下铁片顶面的四个顶角处分别设有与磁铁位置相对应的凹槽，且凹槽与磁铁的外形相适配，所述上铁片与下铁片之间夹持有薄膜，下铁片的上端中部连接有金属电极柱，所述金属电极柱的外侧套设有塑料外壳。

进一步的，所述磁铁通过强力胶与上铁片底面连接。

进一步的，所述强力胶为hy-金属胶水。

进一步的，所述上铁片的下端均布有上穿孔。

进一步的，所述下铁片的下端均布有与上穿孔位置相对应且数量相同的下穿孔。

进一步的，所述上穿孔与下穿孔相同，且两位置相对应的上穿孔和下穿孔通过套环连接。

进一步的，所述矩形孔的大小为20mm*10mm。

进一步的，所述上铁片的顶面右部设有把手。

与现有技术相比，本发明的有益效果在于：不仅能够方便的固定薄膜，提高实验效率，还能有效解决电化学沉积实验中出现的薄膜弯曲和漂浮造成的沉积不均匀的现象。

附图说明

图1为本发明一种新型薄膜夹持装置的结构示意图。

图2为本发明一种新型薄膜夹持装置未安装套环的结构示意图。

图3为本发明一种新型薄膜夹持装置的主视图。

图4为图3的俯视图。

图5为本发明一种新型薄膜夹持装置中上下铁片的结构示意图。

附图标记列表：

1-上铁片，2-下铁片，3-矩形孔，4-磁铁，5-凹槽，6-薄膜，7-金属电极柱，8-塑料外壳，9-上穿孔，10-下穿孔，11-套环，12-把手。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式，进一步阐明本发明，应理解下述具体实施方式仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。

如图所示，一种新型薄膜夹持装置，包括两上下对称设置的上铁片1和下铁片2，上铁片1和下铁片2为相同的矩形铁片，且中部均开有相同的矩形孔3，上铁片1的下端与下铁片2的下端转动连接，上铁片1底面的四个顶角处分别设有磁铁4，下铁片2顶面的四个顶角处分别设有与磁铁4位置相对应的凹槽5，且凹槽5与磁铁4的外形相适配，上铁片1与下铁片2之间夹持有薄膜6，下铁片2的上端中部连接有金属电极柱7，金属电极柱7的外侧套设有塑料外壳8。

在本实施例中，磁铁4通过强力胶与上铁片1底面连接，其中强力胶为hy-303金属胶水。

在本实施例中，上铁片1的下端均布有上穿孔9，下铁片2的下端均布有与上穿孔9位置相对应且数量相同的下穿孔10，上穿孔9与下穿孔10相同，且两位置相对应的上穿孔9和下穿孔10通过套环11连接。

在本实施例中，矩形孔的大小为20mm*10mm。

在本实施例中，上铁片1的顶面右部设有把手12。

本发明利用磁铁4的吸合作用夹取薄膜，下铁片2与金属电极柱7焊接而成，金属电极柱7外包裹有塑料外壳3，两者组合充当电极夹，并可直接将金属电极柱7充当工作电极，进行电化学沉积。本发明在使用时，首先将需要沉积的薄膜6放在下铁片2的中央，随后将上铁片1合上，通过铁片4将上铁片1和下铁片2紧密吸附，从而稳定固定薄膜，矩形孔3部分即为薄膜6的沉积部分，将夹有薄膜6的夹持装置竖直放入电解液中，将参比电极和对电极安装完成，在相应电极上连接对应的电化学工作站的连接线，即可进行电化学沉积实验。

本发明方案所公开的技术手段不仅限于上述实施方式所公开的技术手段，还包括由以上技术特征任意组合所组成的技术方案。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。