真空阀填料密封结构的制作方法

文档序号:5696778阅读:316来源:国知局
真空阀填料密封结构的制作方法
【专利摘要】本发明属于带有填料函的阀门【技术领域】,真空阀填料密封结构,包括封闭阀盖填料腔上端口的填料压盖,所述填料压盖的内壁开有密封凹槽,该密封凹槽内安装有O型密封圈;填料腔的底部设置有底垫,填料压盖与底垫之间依次设置有第一衬垫、第一V形填料第二衬垫、隔环、第三衬垫、第二V形填料和第四衬垫,第一V形填料和第二V形填料的V角开口方向相反,隔环处设置填充有密封剂。本发明气密性较好、不限制对填料函装入方式。
【专利说明】真空阀填料密封结构

【技术领域】
[0001 ] 本发明属于带有填料函的阀门【技术领域】。

【背景技术】
[0002]阀门是流体输送系统中的控制部件,具有截止、调节、导流、防止逆流、稳压、分流或溢流泄压等功能。阀门一般包括阀座、阀盖、阀芯和阀杆,阀座和阀盖连接形成容纳阀芯的腔室,阀杆外端接动力机构,阀杆内端贯穿阀盖与阀芯连接,阀杆带动阀芯上下移动使得阀门逐渐打开和关闭。阀杆为了不使阀体内的介质外泄,处于运动状态中的阀杆需要与阀盖进行动密封。阀杆的密封通常采用填料函的形式,填料函内部放置填料。
[0003]现有的填料函通常为压盖式,包括填料压盖、活节螺栓、填料垫,填料压盖与阀盖通过活节螺栓连接,但是真空阀对密封性的要求比普通阀门要求更高,现有的填料函采用单个V形填料的径向膨胀实现对阀杆的压紧,其缺点在于:填料函装入阀盖时通常都是由上至下装入,这时V形填料的V交开口方向如果与装入方向相同,V角没有完全张开,V形填料在轴向上出现间隙,影响真空阀填料密封结构的密封性能,而实际上很多工人在操作时都会装错方向。另外,现有的填料材料均为固态,如石棉、石墨等,尤其是石棉或其他的编织填料总会出现微小的界面间隙,很有可能导致逸散性泄露,最终影响真空阀的真空度。


【发明内容】

[0004]本发明意在提供一种气密性较好、不限制对填料函装入方式的真空阀填料密封结构。
[0005]本方案中的真空阀填料密封结构,包括封闭阀盖填料腔上端口的填料压盖,所述填料压盖的内壁开有密封凹槽,该密封凹槽内安装有0型密封圈;填料腔的底部设置有底垫,填料压盖与底垫之间依次设置有第一衬垫、第一 V形填料第二衬垫、隔环、第三衬垫、第二 V形填料和第四衬垫,第一 V形填料和第二 V形填料的V角开口方向相反,隔环处设置填充有密封剂。
[0006]本发明的有益效果:在填料压盖的内壁上设置了 0型密封圈,在阀杆和填料压盖之间起到了良好的密封左右,防止阀杆在运动过程中将介质带到填料压盖处并发生泄露;第一 V形填料和第二 V形填料的V角开口方向相反,所以不管填料函从阀杆的任一端装入填料腔中,都能保证至少有一个V形填料的V角完全张开,不会出现轴向间隙,工人装入填料时不会出错;另外,V形填料具有一定的弹性,可以在径向上压紧阀杆,使得阀杆在运动过程中能够良好的动密封。另外,在隔环处设置填充有密封剂,提高了填料结构气密性。
[0007]进一步地,所述第一 V形填料的V角朝上、第二 V形填料的V角朝下,避免了工人因为装错V形填料方向而导致的V角无法张开出现轴向间隙。
[0008]进一步地,所述第一 V形填料和第二 V形填料均为四氟填料,四氟填料具有良好的抗腐蚀性,可以防止因为腐蚀而导致填料密封出现逸散性泄露的情况;
进一步地,所述密封剂为聚硫密封剂,具有良好的气密性和防水性。

【专利附图】

【附图说明】
[0009]图1为本发明真空阀填料密封结构实施例的结构示意图。

【具体实施方式】
[0010]下面通过【具体实施方式】对本发明作进一步详细的说明:
说明书附图中的附图标记包括:1-填料压盖、2-0型密封圈、3-第一衬垫、4-第一 V形四氟填料、5-第二衬垫、6-隔环、7-第二衬垫、8-第二 V形四氟填料、9-第四衬垫、10-底垫、11-阀杆。
[0011]实施例基本如附图所示:真空阀填料密封结构,位于阀盖的填料腔内,阀杆11轴向贯穿该填料腔。本实施例中的真空阀填料密封结构,包括填料压盖1,填料压盖1位于填料腔的上端口并将该上端口封闭,填料压盖1只留下供阀杆11运动的阀杆孔,填料压盖1的阀杆孔内壁开有密封的凹槽,该凹槽内装入ο型密封圈2。
[0012]填料腔的底部安装有底垫10,填料压盖1与底垫10之间依次设置有第一衬垫3、第一 V形四氟填料4、第二衬垫5、隔环6、第三衬垫7、第二 V形四氟填料8和第四衬垫9,第一 V形四氟填料4的V角朝上、第二 V形四氟填料8的V角朝下。隔环6位于第二衬垫5和第三衬垫7之间,使得填料压盖1的轴向压力均匀地分步在填料上防止因为填料部分过长,填料压盖1的压力使得填料部分发生弯曲。隔环6位于第二衬垫5和第三衬垫7之间,填充注入聚硫密封剂,可以提高填料部分的气密性。
[0013]以上所述的仅是本发明的实施例,方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述。应当指出,对于本领域的技术人员来说,在不脱离本发明结构的前提下,还可以作出若干变形和改进,这些也应该视为本发明的保护范围,这些都不会影响本发明实施的效果和专利的实用性。本申请要求的保护范围应当以其权利要求的内容为准,说明书中的【具体实施方式】等记载可以用于解释权利要求的内容。
【权利要求】
1.真空阀填料密封结构,包括封闭阀盖填料腔上端口的填料压盖,其特征在于,所述填料压盖的内壁开有密封凹槽,该密封凹槽内安装有O型密封圈;填料腔的底部设置有底垫,填料压盖与底垫之间依次设置有第一衬垫、第一 V形填料第二衬垫、隔环、第三衬垫、第二 V形填料和第四衬垫,第一 V形填料和第二 V形填料的V角开口方向相反,隔环处设置填充有密封剂。
2.根据权利要求1所述的真空阀填料密封结构,其特征在于:所述第一V形填料的V角朝上、第二 V形填料的V角朝下。
3.根据权利要求2所述的真空阀填料密封结构,其特征在于:所述第一V形填料和第二 V形填料均为四氟填料。
4.根据权利要求2所述的真空阀填料密封结构,其特征在于:所述密封剂为聚硫密封剂。
【文档编号】F16J15/16GK104329463SQ201410595550
【公开日】2015年2月4日 申请日期:2014年10月30日 优先权日:2014年10月30日
【发明者】李立光 申请人:重庆山能仪表有限公司
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