一种注射泵的制作方法

文档序号:6210177阅读:259来源:国知局
一种注射泵的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开提供了一种注射泵,该注射泵采用径向磁体和磁阻传感器检测注射泵的注射速度。其原理为:当注射泵的传动装置带动注射器活塞运动时,磁体和磁阻传感器同步直线运动,且磁体转动。处理器根据磁阻传感器检测到的磁体的转动角度,确定磁体在预设时间内的直线位移和速度。由于磁阻传感器为非接触式传感器,因而可避免摩擦力对于磁阻传感器的影响,提高了注射泵注射速度检测精度。
【专利说明】一种注射泵
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及微量注射,更具体的说是涉及一种注射泵。
【背景技术】
[0002]注射泵是一种以注射器为附件的自动注射装置,与传统的手动注射方式相比,具有高精度注射的特点。
[0003]为了保证注射泵的注射精度,需要实时对注射泵的注射速度进行检测并调整,以使注射泵的注射速度达到预设的要求。
[0004]目前的注射泵通常采用电阻式传感器来检测注射泵的注射速度。该电阻式传感器通过滑片与注射泵的传动装置相连,根据线性传感器自身电阻的变化确定注射泵的注射速度,进而对注射泵的注射速度进行调节。由于电阻式传感器为接触式传感器,滑片与电阻是传感器的接触部分经常受到磨损,导致器件失效而产生故障,不能进行精度检测
实用新型内容
[0005]有鉴于此,本实用新型提供一种注射泵,以提高注射泵的注射速度的检测精度。
[0006]为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
[0007]一种注射泵,包括:
[0008]磁体和用于检测所述磁体转动角度的磁阻传感器;
[0009]带动所述磁阻传感器和所述磁体同步直线运动,且带动所述磁体径向转动的传动装置,其中所述传动装置与所述注射泵的注射器活塞相连;
[0010]与所述磁体传感器相连以根据磁体转动角度计算注射泵的注射速度的处理器。
[0011]优选的,所述注射泵还包括:与所述处理器相连的报警器;
[0012]当确定所述注射泵的注射速度超出预设范围时,所述报警器发送报警信号。
[0013]优选的,所述处理器在确定所述注射泵的注射速度超出预设范围时,调节所述传动装置的传动速度,以调节所述注射泵的注射速度。
[0014]优选的,所述传动装置包括:机架、固定在所述机架上的齿条、与所述齿条啮合的齿轮组和带动所述齿轮组转动的电机;
[0015]其中,所述电机通过所述齿轮组带动所述磁体转动。
[0016]优选的,所述齿轮组、所述电机内置壳体内。
[0017]优选的,所述传递装置还包括:用于连接所述磁阻传感器和所述壳体的支架。
[0018]优选的,所述齿轮组包括:与所述电机和所述齿条相连的主动齿轮;
[0019]与所述主动齿轮啮合的从动齿轮;
[0020]其中,所述从动齿轮带动所述磁体转动。
[0021]优选的,所述从动齿轮设置有凹槽;
[0022]所述磁体内置于所述从动齿轮的凹槽内。
[0023]优选的,还包括:与所述处理器相连,显示所述注射泵注射速度的显示器。[0024]优选的,所述磁体为径向磁体。
[0025]经由上述的技术方案可知,与现有技术相比,本实用新型公开提供了一种注射泵,该注射泵采用磁体和磁阻传感器检测注射泵的注射速度。其原理为:当注射泵的传动装置带动注射器活塞运动时,磁体和磁阻传感器同步直线运动,且磁体径向转动。处理器根据磁阻传感器检测到的磁体的转动角度,确定磁体在预设时间内的直线位移和速度。由于磁阻传感器为非接触式传感器,因而可避免摩擦力对于磁阻传感器的影响,提高了注射泵注射速度检测精度。
【专利附图】

【附图说明】
[0026]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。
[0027]图1示出了本实用新型一种注射泵的一个实施例的结构示意图;
[0028]图2示出了本实用新型一种注射泵的一个实施例的机械连接示意图。
【具体实施方式】
[0029]下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
[0030]注射泵是一种通过机械装置推动注射器,以实现高精度,平稳无脉冲注射。与传统的手动注射方式相比,注射泵在很多【技术领域】中,得到了广泛的应用。
[0031]为了进一步提高注射泵的注射精度,参见图1至图2示出了本实用新型一种注射泵的一个实施例的结构示意图和机械连接示意图。在本实施例中,该注射泵根据磁感应原理检测注射泵的注射速度。具体的,该注射泵包括:磁体1、用于检测磁体I的转动角度的磁阻传感器2、传动装置以及处理器3。需要说明的是,该传动装置还与注射泵的注射活塞相连,用于推动注射泵的注射活塞。
[0032]其中,磁体I和磁阻传感器2均与传动装置相连。传动装置带动磁体I和磁阻传感器2同步直线运动。并且,磁体I在进行直线运动的同时,在传动装置的带动下围绕自身的转轴转动。进而,处理器3根据磁阻传感器2检测到的磁体I的转动角度计算注射泵的注射速度。可选的,处理器3中预先存储有磁体I转动角度和直线位移的数量关系。处理器3首先根据磁体I在预设时间内的转动角度计算磁体I在该时间段内的直线位移,进而计算磁体I在该时间段内的速度,即注射泵的注射速度。需要说明的是,在实际应用过程中,该预设时间段越短,检测精度越高。
[0033]由上述的连接关系可知:当注射泵的传动装置推动注射活塞时,与传动装置相连的磁体和磁阻传感器伴随活塞作直线运动。由于磁体在作直线运动的同时围绕转轴转动,因而通过磁阻传感器的磁力线发生变化。该磁阻传感器可根据磁力线的变化确定磁体的转动角度。进而,处理器根据在预设时间内磁体的转动角度,确定磁体的直线位移,并计算磁体的直线运行速度,也就是注射泵的注射速度。需要说明的是,磁体的转动角度与磁体的直线位移相关。也就是说,磁体转动一周时所对应的磁体的直线运行位移为定值。
[0034]可选的,在本实施例中,该装置还包括:与处理器3相连的报警器4。当处理器4确定注射泵当前的注射速度超出了预设的范围时,处理器3向该报警器发送相应的信号,报警器进行报警,从而提醒工作人员,以避免出现操作上的失误。
[0035]该装置还包括:与处理器3相连的显示器5。该显示器5可实时显示注射泵的注射速度和当前的注射量,即注射活塞的位移,以方便本领域的技术人员对注射泵进行操作。
[0036]可选的,该处理器3在确定注射泵的注射速度不在预设范围时,在控制注射泵停止注射,也可调节注射泵的注射速度,使注射泵的注射速度满足要求。在本实施例中,上述两种控制方式均在本实用新型的保护范围内。
[0037]本实用新型中的磁阻传感器为非接触式传感器,与现有技术中采用的电阻式传感器相比,磁阻传感器避免了传统电阻式传感器中滑片与电阻的摩擦,因而不会受到摩擦力的影响,提高了注射速度的检测精度。
[0038]需要说明的是,本实用新型采用磁体与磁阻传感器同步直线运动,且磁体在作直线运动的同时围绕自身的转轴转动的方式检测磁体的转动角度,进而将磁体的转动角度转换为磁体的直线位移。相比与固定磁体或磁阻传感器中的一个器件,检测另一个器件的位置的方式,本实用新型中由于磁体和磁阻传感器直线同步移动,因而不会受到磁体的磁场范围的影响。
[0039]在本实施例中,该传动装置具体采用齿轮传动的方式带动磁体和磁阻传感器运动。
[0040]具体的,该传动装置包括:主动齿轮21、从动齿轮22、齿条23和机架24。其中,齿条23固定在机架24上,主动齿轮21和齿条23啮合相连,当主动齿轮21在齿条23上直线运动时,带动与主动齿轮相连的从动齿轮22转动。需要说明的是,该主动齿轮21与电机(图中未画出)相连,从而实现主动齿轮21在齿条上的直线运动和从动齿轮21的转动。
[0041]可选的,在从动齿轮21上设置有凹槽25,并且磁体I固定在该凹槽25内,磁体I伴随从动齿轮21主动。需要说明的是,在本实施例中,该从动齿轮21、主动齿轮22和电机均设置在一个壳体26内,并且磁阻传感器2固定在该壳体26上,以实现磁体I和磁阻传感器2的同步运动。可选的,该磁阻传感器2可通过支架设置在磁体I的上方,以使磁体的I磁力线贯穿磁阻传感器2。
[0042]本说明书中各个实施例采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
[0043]对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
【权利要求】
1.一种注射泵,其特征在于,包括: 磁体和用于检测所述磁体转动角度的磁阻传感器; 带动所述磁阻传感器和所述磁体同步直线运动,且带动所述磁体径向转动的传动装置,其中所述传动装置与所述注射泵的注射器活塞相连; 与所述磁体传感器相连以根据磁体转动角度计算注射泵的注射速度的处理器。
2.根据权利要求1所述的注射泵,其特征在于,所述注射泵还包括:与所述处理器相连的报警器; 当确定所述注射泵的注射速度超出预设范围时,所述报警器发送报警信号。
3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述处理器在确定所述注射泵的注射速度超出预设范围时,调节所述传动装置的传动速度,以调节所述注射泵的注射速度。
4.根据权利要求1、2或3所述的注射泵,其特征在于,所述传动装置包括:机架、固定在所述机架上的齿条、与所述齿条啮合的齿轮组和带动所述齿轮组转动的电机; 其中,所述电机通过所述齿轮组带动所述磁体转动。
5.根据权利要求4所述的注射泵,其特征在于,所述齿轮组、所述电机内置壳体内。
6.根据权利要求5所述的注射泵,其特征在于,所述传递装置还包括:用于连接所述磁阻传感器和所述壳体的支架。
7.根据权利要求4所述的注射泵,其特征在于,所述齿轮组包括:与所述电机和所述齿条相连的主动齿轮; 与所述主动齿轮啮合的从动齿轮; 其中,所述从动齿轮带动所述磁体转动。
8.根据权利要求7所述的注射泵,其特征在于,所述从动齿轮设置有凹槽; 所述磁体内置于所述从动齿轮的凹槽内。
9.根据权利要求1所述的注射泵,其特征在于,还包括:与所述处理器相连,显示所述注射泵注射速度的显示器。
10.根据权利要求1所述的注射泵,其特征在于,所述磁体为径向磁体。
【文档编号】G01P3/66GK203663179SQ201320825178
【公开日】2014年6月25日 申请日期:2013年12月13日 优先权日:2013年12月13日
【发明者】宫兆涛, 王朕青, 田滨, 周阳, 冷文超 申请人:北京中金硅谷科技有限公司
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