1.一种基板局部的自动分析装置，包括：
泵，供给分析液；局部分析用喷嘴，将从所述泵供给的分析液喷出至基板表面的既定区域，使既定区域内的分析对象物移至分析液，并采收所述分析液而借此回收分析对象物；雾化器，借由负压来吸引所述局部分析用喷嘴内的包含分析对象物的分析液；以及感应耦合等离子质谱分析装置，对于从所述雾化器所输送液体的分析液中包含的分析对象物进行分析；其中，
所述局部分析用喷嘴具有：分析液供给构件，将分析液喷出至基板上；分析液排出构件，从基板上将包含分析对象物的分析液采收至局部分析用喷嘴内并往雾化器输送液体；以及排气构件，以局部分析用喷嘴内作为排气路径；
所述自动分析装置并具有：
自动输送液体构件，将被引入至局部分析用喷嘴的包含分析对象物的分析液，自动地输送液体至感应耦合等离子质谱分析装置；
流量调整构件，调整从泵供给至局部分析用喷嘴的分析液的流量、与从局部分析用喷嘴输送液体至雾化器的分析液的流量；
自动控制构件，同时进行局部分析用喷嘴所进行的分析液的采收与借由感应耦合等离子质谱分析装置的分析对象物的分析，而连续地自动分析基板的相邻接的多个既定区域。
2.根据权利要求1所述的自动分析装置，其中，局部分析用喷嘴中，将分析液供给至基板的端部的喷嘴形状为筒状，并于所述筒状的端部具有可沿着筒状部的内壁来保持分析液的内部空间。
3.一种自动分析方法，使用根据权利要求1或2所述的自动分析装置自动地分析基板表面局部，所述自动分析方法包括：
局部分析步骤，将从所述泵被供给至局部分析用喷嘴的分析液，从所述局部分析用喷嘴的分析液供给构件喷出至基板表面的既定区域后，从分析液排出构件将包含分析对象物的分析液从基板上采收至局部分析用喷嘴内，并将基板上的既定区域内所包含的分析对象物回收至局部分析用喷嘴内；以及
分析对象物的分析步骤，借由负压将包含分析对象物的分析液从局部分析用喷嘴内吸引至雾化器，并输送液体至感应耦合等离子质谱分析装置，而自动地分析包含于分析液中的分析对象物；其中，
一边借由排气构件对局部分析用喷嘴内进行排气并一边进行局部分析步骤，
借由所述流量调整构件，将从泵供给至局部分析用喷嘴的分析液的流量，设为与从局部分析用喷嘴输送液体至雾化器的分析液的流量为同量以上。