一种磁瓦密度快速检测设备的制作方法

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一种磁瓦密度快速检测设备的制作方法

本实用新型涉及密度检测装置,更具体地说,它涉及一种磁瓦密度快速检测设备。



背景技术:

工厂生产中,磁瓦呈弧形且有倒角,磁瓦的外形往往是不规则性的,而磁瓦需要保证其质量的话,需要多次查验是否合格,查验的过程中,需要检测其密度十分困难。

针对上述问题,专利公告号为CN204463605U的中国专利,提出了一种阿基米德原理四重检验演示仪,包括演示仪支架、F浮检验系统、G排检验系统、量筒检验系统、天平检验系统五部分,它通过三重数字计量显示和天平的称量四个环节来证明阿基米德原理的科学性。

上述专利适合实验室和学校进行使用,本身检测效率低,由于工厂中磁瓦是流水线生产,需要检测的产品众多,因而工厂中需要一个操作简单,使用便捷,检测速度快的密度检测设备,以此检验和保障磁瓦的最终产品质量。



技术实现要素:

针对检测效率低的问题,本实用新型目的在于提出一种简单实用的磁瓦密度快速检测设备,具体方案如下:

一种磁瓦密度快速检测设备,包括重力检测台以及用于为待检测磁瓦提供浮力的浮力装置,所述重力检测台的测重端面上设置有用于将待检测磁瓦置于空气中或置于浮力装置中的存放装置,所述重力检测台连接有数据处理器,所述重力检测台检测待检测磁瓦位于浮力装置中或空气中的质量并输出检测数据至所述数据处理器进行数据处理;

所述存放装置包括置于所述重力检测台测重端面上的支撑座,所述支撑座上下滑移设置有安置架,所述安置架位于所述浮力装置的上方,所述支撑座上设置有用于调节并限定所述安置架位置的调节组件。

通过上述技术方案,浮力装置内注入液体,提前测得安置架在空气中时重力检测台的数据,记录为m1,以及安置架在液体中时重力检测台的数据,记录为m2,将待检测磁瓦放置在安置架上,当检测待检测磁瓦在空气中时,重力检测台检测整体的重量,数据处理器记录数据为m3,当检测待检测磁瓦在液体中时,重力检测台再次检测整体的重量,数据处理器记录数据为m4,根据公式ρ=m/v(m3-m1)/(m2+m3-m1-m4),后台进行运算,由于通常注入液体为水,ρ为1g/cm3,数据处理器显示最终的密度ρ=(m3-m1)/(m2+m3-m1-m4)。先行对安置架检测浮力,可以提高最终检测数据的精度,整个设备根据阿基米德原理对不规则形状的物体进行密度的自动检测,检测速度快,使用门槛低,提高了实验室和工厂的检测效率。

进一步的,所述支撑座沿其长度方向设置有滑轨,所述滑轨内滑移设置有滑移块,所述滑移块与所述安置架之间设置有连接架,所述调节组件设置于所述滑移块上。

通过上述技术方案,滑移块在滑轨内滑移带动安置架的移动,使得安置架可以停留在浮力装置的液体中或者外面,调节组件对滑移块位置进行调节和限定。

进一步的,所述调节组件包括弹性设置在所述滑移块相对侧壁的卡块,所述滑轨内沿其长度方向开设有与所述卡块适配的卡槽。

通过上述技术方案,卡块从滑移块的两侧壁弹出并卡入卡槽内,在不受额外作用力的情况下,滑移块卡住在滑轨内不会移动,受到额外作用力驱使时,卡块受到压力收入滑移块内,滑移块带动安置架移动。

进一步的,所述滑移块朝向所述滑轨的两侧壁均开设有安置槽,所述卡块与所述安置槽底壁之间设置有弹簧。

通过上述技术方案,由于弹簧,卡块受到弹性力,当弹簧被迫压紧时,卡块可以收纳进入安置槽内。

进一步的,所述滑移块远离所述滑轨的一侧设置有把手。

通过上述技术方案,把手方便使用者上下推动滑移块。

进一步的,所述支撑座靠近所述重力检测台的一端设置有支撑板。

通过上述技术方案,支撑板提供支撑力,防止支撑座倾倒。

进一步的,所述存放装置包括置于所述重力检测台上方的液体容器,所述液体容器靠近所述重力检测台一侧的四个脚均设置有用于对所述液体容器提供支撑力的支撑脚。

通过上述技术方案,液体容器可以存放液体,支撑脚使得液体容器的重力不被重力检测台检测到。

进一步的,所述安置架周侧向远离所述液体容器的一侧延伸设置有保护板。

通过上述技术方案,保护板防止待检测磁瓦从安置架上滑落。

进一步的,所述安置架上开设有多个透水孔。

通过上述技术方案,透水孔方便液体快速透过安置架,同时避免液体堆积在安置架内。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:

整个检测设备根据阿基米德原理可对不规则形状的物体进行浮力的自动检测,最终数据处理得到待检测磁瓦的密度值,检测速度快,操作简单,能够有效避免掉影响因素,最终获取数据精确,设备的使用门槛低,能提高实验室和工厂的检测效率,特别在工厂中使用方便,针对磁瓦可以快速检测其致密度,从而保障产品质量。

附图说明

图1是一种磁瓦密度快速检测设备的整体结构示意图;

图2是沿图1中A-A线的剖视图。

附图标记:1、重力检测台;2、液体容器;3、数据处理器;4、支撑座;5、安置架;6、透水孔;7、滑轨;8、滑移块;9、连接架;10、卡块;11、卡槽;12、安置槽;13、弹簧;14、把手;15、支撑板;16、支撑脚;17、保护板。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案和有益效果更加清楚,下面结合实施例及附图对本实用新型作进一步的详细说明,但本实用新型的实施方式不仅限于此。

一种磁瓦密度快速检测设备,如图1所示,包括重力检测台1,重力检测台1可以检测台面上物体的重力并且可以清零,优选的,在本实用新型技术方案中上述重力检测台1采用具有数据输出功能的电子秤,电子秤的一侧通过数据线连接有数据处理器3,数据处理器3优选采用内置有专用程序算法的PC机。

如图1所示,重力检测台1正上方设置有浮力装置,浮力装置包括不与重力检测台1测重端面接触的液体容器2,液体容器2为顶端开口结构的箱体,液体容器2靠近重力检测台1一侧的四个脚均固定有用于对液体容器2提供支撑力的支撑脚16,支撑脚16呈“L”形。液体容器2通过支撑脚16使得自身不与重力检测台1的测重端面接触,液体容器2及其内部液体的总重力不被重力检测台1检测到。

重力检测台1的测重端面设置有用于将待检测磁瓦置于空气中或置于液体中的存放装置,存放装置包括支撑座4和安置架5。支撑座4竖直安置在重力检测台1的测重端面上,支撑座4靠近重力检测台1的一端一体固定连接有支撑板15,支撑板15与重力检测台1的测重端面直接接触。通过支撑板15为支撑座4提供支撑力,防止支撑座4倾倒。

支撑座4远离重力检测台1的一端沿支撑座4长度方向上下滑移设置有安置架5,安置架5始终与重力检测台1测重端面平行。安置架5周侧向远离液体容器2的一侧延伸固定有保护板17,保护板17呈环形环绕在安置架5周壁上。通过保护板17防止待检测磁瓦从安置架5上滑落。安置架5上开设有多个透水孔6,透水孔6均呈腰孔形。通过透水孔6方便液体容器2中液体直接进入安置架5,同时避免液体堆积在安置架5内。

如图1和图2所示,支撑座4的侧剖面呈“C”字形,支撑座4的相对内壁沿其长度方向固定有滑轨7,滑轨7内沿支撑座4长度方向滑移设有滑移块8,滑移块8与安置架5之间固定连接有连接架9,连接架9呈“冂”字形。滑移块8在滑轨7内滑移带动安置架5的移动,使得安置架5可以停留在液体容器2的液体中或者外面,连接架9不妨碍安置架5在液体容器2进出。

如图2所示,滑移块8上设置有用于卡定滑移块8位置的调节组件。调节组件包括卡块10和弹簧13,卡块10侧剖面呈三角形,滑移块8朝向滑轨7的两侧壁均开设有安置槽12,卡块10与安置槽12底壁之间固定连接有弹簧13,弹簧13水平固定在滑移块8的安置槽12内。卡块10通过弹簧13受到弹性力,当不受外力时,卡块10受到弹力当弹簧13被迫压紧时,卡块10可以收纳进入安置槽12内。滑轨7朝向滑移块8的一侧沿其长度方向开设有与卡块10适配的卡槽11。卡块10从滑移块8的两侧壁弹出并卡入卡槽11内,在不受额外作用力的情况下,滑移块8卡住在滑轨7内不会移动,受到额外作用力驱使时,卡块10受到压力收入滑移块8内,滑移块8带动安置架5移动。

如图1所示,滑移块8远离滑轨7的一侧固定有把手14,把手14与滑移块8接触面垂直。通过把手14方便使用者上下推动滑移块8。

本实用新型的工作原理及有益效果如下:

使用者先在液体容器2内注入液体,第一步,通过重力检测台1测得安置架5在空气中时的重量数据,数据处理器3记录为m1;第二步,下压把手14,带动安置架5直接进入液体中,通过重力检测台1测得安置架5进入液体中时的重量数据,数据处理器3记录为m2;第三步,将待检测磁瓦放置在安置架5上,通过重力检测台1测得安置架5和待检测磁瓦在空气中时整体的重量数据,数据处理器3记录数据为m3;第四步,将待检测磁瓦放置在安置架5上,下压把手14,带动待检测磁瓦和安置架5直接进入液体中,通过重力检测台1测得安置架5和待检测磁瓦进入液体中时整体的重量数据,数据处理器3记录数据为m4

数据处理器3收集数据后,根据公式ρ=m/v(m3-m1)/(m2+m3-m1-m4),后台进行运算,由于通常注入液体为水,ρ为1g/cm3,因而最终数据为ρ=(m3-m1)/(m2+m3-m1-m4),数据处理器3会显示待检测磁瓦最终的密度ρ

整个检测设备根据阿基米德原理可对不规则形状的物体进行浮力的检测,最终经过数据处理得到待检测磁瓦的密度值,检测速度快,操作简单。设备使用的过程中,通过先行处理安置架5造成偏差数据,从而有效避免掉影响因素,最终获取精确的待检测磁瓦的数据值。设备简单可靠同时使用门槛低,能提高实验室和工厂的检测效率,特别在工厂中使用方便,针对磁瓦可以快速检测其致密度,从而保障产品的质量。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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