回转体平面度检测装置的制作方法

技术特征：

1.一种回转体平面度检测装置，其特征在于：它包括用于放置被检测回转体的旋转平台（1）、驱动所述旋转平台（1）绕Z轴转动的第一驱动机构（3）、位于所述旋转平台（1）上方并可沿Z轴方向移动的检测台（2）、驱动所述检测台（2）移动的第二驱动机构（4）、连接在所述检测台（2）上的至少四个测量传感器、与所述至少四个测量传感器分别连接的处理控制模块，所述检测台（2）至少具有等待位置和检测位置，当所述检测台（2）处于检测位置时，所述测量传感器的下端抵在回转体的被检测平面上，所述等待位置位于检测位置的上方，所述的四个测量传感器包括沿X轴方向排列的第一传感器（5）和第二传感器（6）、沿Y轴方向排列的第三传感器（7）和第四传感器（8），所述第一传感器（5）至回转体的中心轴线的距离大于第二传感器（6）至回转体的中心轴线的距离，所述第三传感器（7）至回转体的中心轴线的距离大于第四传感器（8）至回转体的中心轴线的距离，所述的X轴、Y轴、Z轴组成空间直角坐标系。

2.根据权利要求1所述的回转体平面度检测装置，其特征在于：所述的第一传感器（5）、第二传感器（6）、第三传感器（7）、第四传感器（8）的底部均连接有滚轮（9），且滚轮（9）的轴线垂直于回转体的中心轴线。

3.根据权利要求1所述的回转体平面度检测装置，其特征在于：所述的第一传感器（5）、第二传感器（6）、第三传感器（7）、第四传感器（8）均沿Z轴方向设置。

4.根据权利要求1所述的回转体平面度检测装置，其特征在于：所述的处理控制模块为PLC。

5.根据权利要求1所述的回转体平面度检测装置，其特征在于：当所述被检测平面为环形时，第一传感器（5）和第三传感器（7）至外圈的距离小于外圈至内圈距离的三分之一，第二传感器（6）和第四传感器（8）至内圈的距离小于外圈至内圈距离的三分之一。

6.根据权利要求1所述的回转体平面度检测装置，其特征在于：当所述被检测平面为圆形时，第一传感器（5）和第三传感器（7）至外圈的距离小于外圈至圆心距离的三分之一，第二传感器（6）和第四传感器（8）至圆心的距离小于外圈至圆心距离的三分之一。

7.根据权利要求1所述的回转体平面度检测装置，其特征在于：所述的检测台（2）上设置有限制回转体在X轴、Y轴、Z轴方向上位移的固定装置。

8.根据权利要求1所述的回转体平面度检测装置，其特征在于：每个所述测量传感器与检测台（2）之间可沿Z轴方向移动地连接，且每个所述测量传感器与检测台（2）之间具有对该测量传感器施加沿Z轴向下的力的弹性机构。

9.根据权利要求1所述的回转体平面度检测装置，其特征在于：所述的第一驱动机构（3）和第二驱动机构（4）各分别包括一伺服电机。