一种承片台及探针台的制作方法

本实用新型涉及一种承片台及探针台。

背景技术：

现有的用于测试有晶粒蓝膜的承片台，会存在吸附平面和晶粒区域之间停留有空气，影响发光二极管晶粒测试的准确性。

技术实现要素：

为解决晶粒区域停留空气的问题，本实用新型提出一种承片台。

本实用新型的技术方案为：一种用于吸附有晶粒蓝膜的承片台，所述承片台包括，

吸附环槽；所述吸附环槽连通有一个或多个真空控制孔；所述吸附环槽用于吸附有晶粒蓝膜；吸附环槽吸附有晶粒蓝膜后，所述吸附环槽与有晶粒蓝膜构成真空吸附空间；

吸附平面，晶粒区域正对应并贴合于所述吸附平面；所述吸附环槽环绕所述吸附平面；

所述吸附平面上，位于吸附环槽和晶粒区域之间设置有排气孔。

进一步的，所述承片台包括，

基体，所述吸附环槽设置于所述基体上；所述基体设置有透光孔；所述吸附环槽环绕所述透光孔；

支撑台，所述支撑台为透光玻璃，所述吸附平面位于所述支撑台上；所述支撑台正对应所述透光孔并连接于所述透光孔内壁；所述排气孔连通所述透光孔。

进一步的，所述透光孔内壁设置有阶梯环；

所述支撑台远离吸附平面的一面沿阶梯环连接于基体。

进一步的，所述支撑台位于吸附平面侧的边沿设置有排气倒角；所述排气孔位于晶粒区域和排气倒角之间；

所述支撑台密封连接于基体；所述吸附环槽通过连通槽连通于排气倒角。

进一步的，所述吸附平面在正对应晶粒区域设置有出气孔。

进一步的，所述基体设置有放置环槽，所述放置环槽环绕所述吸附环槽。

一种探针台，所述探针台包括上述的承片台。

本实用新型的有益效果在于：保证晶粒区域贴合吸附平面前，吸附环槽已经吸附有晶粒蓝膜，晶粒区域与吸附平面间的空气因晶粒区域挤压而从排气孔排出；保证晶粒区域不受未排净的空气影响测试。

附图说明

图1为承片台结构示意图；

图2为承片台剖面示意图；

图3为有晶粒蓝膜吸附于承片台结构示意图；

图4为基体结构示意图；

图5为支撑台结构示意图；

图6为有晶粒蓝膜结构示意图。

具体实施方式

为便于本领域技术人员理解本实用新型的技术方案，下面将本实用新型的技术方案结合具体实施例作进一步详细的说明。

如图1、图2、图3、图4、图5和图6所示，一种用于吸附有晶粒蓝膜40的承片台100，当然对于其它柔软的薄膜也可以用于所述场合，只要能够满足吸附于所述承片台100要求的薄膜均可；所述承片台100包括，

吸附环槽21，保证有晶粒蓝膜40吸附力完整均匀，所述吸附环槽21为圆形、正方形等构成密闭空间的形状；所述吸附环槽21连通有一个或多个真空控制孔22，所述真空控制孔用于连接真空阀，用于实现对吸附环槽21真空状态的控制；所述吸附环槽21用于吸附有晶粒蓝膜40；吸附环槽21吸附有晶粒蓝膜40后，所述吸附环槽21与有晶粒蓝膜40构成真空吸附空间a；从而将有晶粒蓝膜40贴合于承片台100，便于对晶粒进行测试；

吸附平面31，晶粒区域50正对应并贴合于所述吸附平面31；所述吸附环槽21环绕所述吸附平面31，保证所述晶粒区域50平整放置于所述承片台100用于测试，同时吸附环槽21保证所述晶粒区域50稳定，不会在测试中发生位置偏移而影响测试的情况；

所述吸附平面31上，位于吸附环槽21和晶粒区域50之间设置有排气孔32，保证所述吸附环槽21与有晶粒蓝膜40贴合后，所述有晶粒蓝膜40与承片台100间的空气能够沿着排气孔32排出，从而保证有晶粒蓝膜40贴合于吸附平面31后，不会因空气而影响对晶粒的测试；由于有晶粒蓝膜40吸附于吸附平面31，同时吸附环槽21吸附着有晶粒蓝膜40，大气压不足以沿排气孔32反向进入晶粒区域50；结构简单，使用方便可靠。

如图1、图2、图3、图4、图5和图6所示，所述承片台100包括，

基体20，所述吸附环槽21设置于所述基体20上；所述基体20设置有透光孔23；所述吸附环槽21环绕所述透光孔23；

支撑台30，所述支撑台30为透光玻璃，所述吸附平面31位于所述支撑台30上；所述支撑台30正对应所述透光孔23并连接于所述透光孔23内壁；所述排气孔32连通所述透光孔23；发光二极管有两种基本结构，正装（发光面和引脚在同一侧）和倒装（发光面和引脚分布于两侧）；两种发光二极管测试探针均在上方，便于探针的安装调试；对于倒装，必须要使用能够透光的支撑台30，以便用于积分球从下方收集光信号；但是对于正装，为减少下方漏光，一般不采用透明材质，也可以采用透明材质；而且为了增加正装晶粒贴合吸附平面31，用于正装的吸附平面31在正对应晶粒的下方能够开设多个正装出气孔。

如图1、图2、图3、图4、图5和图6所示，所述透光孔23内壁设置有阶梯环231；

所述支撑台30远离吸附平面31的一面沿阶梯环231连接于基体20；加工方便可靠；因为支撑台30要求平面度高，而基体20相对于支撑台30平面度要求低，为减少平面加工面，将基体20和支撑台30分开加工；同时，为提升发光二极管测试的准确性，所述基体20选取不透光结构，减少光线的泄露或外界光线干扰测设；对于正装，所述吸附平面31采用不透光材质，防止外界光线影响测试；对于倒装，所述吸附平面31必须为透明材质，以便积分球从下侧收集光线。

如图1、图2、图3、图4、图5和图6所示，所述支撑台30位于吸附平面31侧的边沿设置有排气倒角33；所述排气孔32位于晶粒区域50和排气倒角33之间；所述支撑台30密封连接于基体20；所述吸附环槽21通过连通槽24连通于排气倒角33；所述排气倒角33用于在吸附环槽21吸附有晶粒蓝膜40过程中，所述有晶粒蓝膜40与吸附平面31间的空气能够快速流向吸附环槽21，从而提升吸附环槽21工作效率，防止吸附环槽21吸附好有晶粒蓝膜40后，由于有晶粒蓝膜40与吸附平面31间空气太多而造成排气不彻底，影响晶粒测试。

如图1、图2、图3、图4、图5和图6所示，所述吸附平面31在正对应晶粒区域50设置有出气孔，进一步提升所述有晶粒蓝膜40贴合于吸附平面31，减少空气停留在晶粒区域50影响测试。

如图1、图2、图3、图4、图5和图6所示，所述基体20设置有放置环槽25，所述放置环槽25环绕所述吸附环槽21；有些有晶粒蓝膜40为了便于运输和测试，将有晶粒蓝膜40固定于套环上，所述放置环槽25用于容纳套环。

如图1、图2、图3、图4、图5和图6所示，一种探针台，所述探针台包括如上述的承片台100。

以上是本实用新型的较佳实施例，不用于限定本实用新型的保护范围。应当认可，本领域技术人员在理解了本实用新型技术方案后所作的非创造性变形和改变，应当也属于本实用新型的保护和公开的范围。