确定工件的脏污的制作方法_4

文档序号:8399224阅读:来源:国知局
相机
[0101]171 箭头
[0102]172第一照明装置(透射光)
[0103]176第二照明装置(入射光)
[0104]174过滤膜带的区段
[0105]178 主体
[0106]180馈送管道
[0107]182相对体
[0108]184双头箭头
[0109]185引导装置
[0110]186驱动装置
[0111]187线性引导装置
[0112]188排放管道
[0113]189 箭头
[0114]190主体中的凹陷
[0115]192相对体中的凹陷
[0116]194主体的区段
[0117]196相对体的区段
[0118]198 O形环、密封装置
[0119]200空气间隙
[0120]202计算机单元
[0121]204监视器
[0122]206输入界面
[0123]208控制计算机
【主权项】
1.一种用于确定工件(108)的脏污的装置(150),具有: 用于在过滤膜(158)上捕获被吸收在特征液体体积中的污垢颗粒的设备(155),通过使工件(108)经受液体来将所述污垢颗粒引入所述液体中;以及 用于分析来自已经被所述过滤膜(158)捕获的所述液体的所述污垢颗粒负载的系统(169); 其特征在于, 所述用于分析的系统(169)具有连接到计算机单元(202)的分析装置(170),其中所述平坦的过滤膜(158)采取可位移的带的形式,所述可位移的带能够借助于传输设备(160)而至少分段地相对于所述分析装置(170)移动,并且其中连接到所述分析装置(170)的所述计算机单元(202)用于以积聚在所述过滤膜(158)的区段(174)上的污垢颗粒(166)的类型和/或数量和/或尺寸和/或尺寸分布的形式,来确定污垢颗粒测量变量(M)。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述分析装置包括扫描仪,所述扫描仪通过利用激光束扫描来记录所述过滤膜(158)的表面的轮廓,所述过滤膜(158)带有沉积在其上的污垢颗粒(166)。
3.根据权利要求1或2所述的装置,其特征在于,所述分析装置具有相机(170),用于对所述过滤膜(158)的区段(174)进行光学记录,所述过滤膜(158)带有布置在其上的污垢颗粒(166),并且所述计算机单元(202)借助于图像处理来确定所述污垢颗粒测量变量(M)0
4.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述计算机单元(202)被设计成用于将所确定的污垢颗粒测量变量(M)与可预定的阈值(S)进行比较,并且连接到可视化设备(204),以便在如果对于积聚在所述过滤膜(158)的所述区段(174)上的污垢颗粒来说所确定的污垢颗粒测量变量(M)超出所述可预定的阈值⑶时,显示所述过滤膜(158)的所述区段(174)的图像,所述图像具体是利用入射光照明和/或暗场照明而被记录的。
5.根据权利要求3和4中任一项所述的装置,其特征在于,第一照明装置(172)和第二照明装置(176),所述第一照明装置(172)用于提供能够利用所述相机(170)记录的所述过滤膜(158)的所述区段(174)的透射光照明,所述第二照明装置(176)用于提供能够利用所述相机(170)记录的所述过滤膜(158)的所述区段(174)的入射光照明和/或暗场照明。
6.根据权利要求3至5中任一项所述的装置,其特征在于,为了计算积分亮度值(I),所述计算机单元(202)以在入射光照明下利用所述相机(170)记录的带的形式,从所述过滤膜(158)的区段(174)的至少一个图像计算积分亮度值(I),以便将这个值显示为积聚在所述区段(174)上的污垢颗粒负载的辐射度。
7.根据权利要求2至6中任一项所述的装置,其特征在于,所述过滤膜(158)的所述带是连续的过滤带,以及提供了用于在所述系统(169)中分析之后移除积聚在所述连续的过滤带上的污垢颗粒负载的设备。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的装置,其特征在于,所述过滤膜(158)是PET纺织织物。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的装置,其特征在于,用于分析已经被所述过滤膜(158)捕获的所述污垢颗粒负载的所述系统(169)包括用于通过产生磁场线来取向被布置在所述过滤膜(158)上的可磁化污垢颗粒的设备。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的装置,其特征在于,所述过滤膜(158)至少分段地涂覆有下述物质:该物质在其接触所述工件(108)所经受的液体时改变物理属性和/或化学属性,所述属性取决于所述液体的化学组成,特别是取决于所述液体的pH。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的装置,其特征在于,用于捕获在流体体积中吸收的污垢颗粒负载的所述设备(155)包括过滤站(156),带形式的所述过滤膜(158)穿过所述过滤站(156)以吸收污垢颗粒(166),其中所述过滤站(156)具有主体(178)和相对体(182),所述主体(178)带有用于供应充满污垢颗粒的流体的馈送管道(180),以及所述相对体(182)能够抵靠所述主体(178)放置,并且当所述相对体(182)抵靠所述主体(178)放置时,所述相对体(182)通过形成在所述主体(178)和/或所述相对体(182)中的凹陷(190、192)来限定过滤腔,所述过滤腔被所述平坦的过滤膜(158)分成在所述主体侧上的区段和在所述相对体侧上的区段,其中所述过滤腔能够通过使所述相对体(182)和所述主体(178)相对于彼此移动而可选地被打开和关闭,其中所述相对体(182)具有排放管道(188),所述排放管道(188)连接到抽吸管线(167),用于通过所述过滤膜(158)将流体抽吸移除到所述过滤腔之外,以及其中提供了压力传感器(159),用于记录所述抽吸管线(167)中的抽吸压力(P),所述抽吸压力(P)取决于沉积在所述过滤膜(158)上的污垢颗粒负载的量。
12.一种用于确定供应到清洁站(116)的工件(108)的脏污的清洁设施(100),所述清洁设施(100)具有至少一个所述清洁站(116)和特别是根据权利要求1至11中任一项形成的装置(150)。
13.根据权利要求12所述的清洁设施(100),其特征在于,计算机单元(208),所述计算机单元(208)包括计算机程序,所述计算机程序用于通过在液体的特征流体体积中被固有地吸收的所述污垢颗粒而自动地确定所述装置(150)的盲值(B),所述盲值(B)用于确定工件(108)的脏污。
14.一种用于设定如权利要求12或13所述的清洁设施(100)中的至少一个清洁站(116)的至少一个操作参数(At)的方法,其中取决于所述装置(150)的所确定的盲值(B)并且取决于在计算机单元(208)中由所述装置(150)记录的清洁的工件(108)的残余脏污(R),来确定所述至少一个操作参数(At),所述盲值(B)用于确定工件(108)的脏污,并且所述至少一个操作参数(At)被输出到所述至少一个清洁站(116),以设定所述操作参数(At)。
15.一种用于在根据权利要求12或13形成的清洁设施(100)中清洁工件的方法,其中在清洁之后在所述装置(150)中连续地记录所述工件(108)的所述残余脏污(R),并且如果针对清洁的工件而记录的所述残余脏污(R)超出阈值(S),则增加供应到所述清洁设施(100)的所述工件(108)的所述清洁时间(At),和/或发出警告信号(W)。
【专利摘要】本发明涉及用于确定工件(108)的脏污的装置(150)。该装置包含用于在过滤膜(158)上捕获在特征流体体积中包含的污垢颗粒的设备(155),当工件(108)经受液体作用时,所述污垢颗粒被引入液体中。在装置(150)中,存在用于分析由过滤膜(158)从液体捕获的污垢颗粒负载的系统(169)。用于分析的系统(169)具有连接到计算机单元(202)的分析装置(170),其中平坦的过滤膜(158)为带的形式且可以借助于传输设备(160)至少分段地相对于分析装置(170)移动。连接到分析装置(170)的计算机单元(202)用于确定积聚在过滤膜(158)的区段(174)上的污垢颗粒(166)的类型和/或数量和/或尺寸和/或尺寸分布的形式的污垢颗粒测量值(M)。
【IPC分类】B08B3-02, G01N15-06
【公开号】CN104718443
【申请号】CN201380052693
【发明人】赫尔曼-约瑟夫·戴维, 埃贡·卡斯克
【申请人】杜尔艾科克林有限公司
【公开日】2015年6月17日
【申请日】2013年10月9日
【公告号】DE102012218489A1, EP2906925A1, US20150211976, WO2014057009A1
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