本实用新型属于液位控制技术领域，特别是涉及一种四氯化锗液位自动控制系统。
背景技术：
现有的生产工艺，由于液位对于四氯化锗的供应浓度是关键参数，液位波动会造成供应气体中携带的四氯化锗浓度变化，从而引起芯棒的折射率不稳定；因此需要在沉积炉完成作业的时候对四氯化锗鼓泡器进行手动的四氯化锗的加注，来保证四氯化锗供应的稳定性。由于一台四氯化锗鼓泡器对应多台沉积炉，且为了保障异常情况出现的时候设备能及时作出响应动作，设定了沉积炉和鼓泡器的相关连锁，由于四氯化锗液罐需要保温等原因，只能通过很小的视窗来查看当前液位，人工加注四氯化锗存在操作失误，且通过肉眼识别液位的功能导致加注量不好把控等相关问题。
因此，有必要提供一种新的四氯化锗液位自动控制系统来解决上述问题。
技术实现要素：
本实用新型的主要目的在于提供一种四氯化锗液位自动控制系统，能够消除人为操作失误和操作量不当所引起的损失，同时通过高精度红外传感器实现四氯化锗的精准加注。
本实用新型通过如下技术方案实现上述目的：一种四氯化锗液位自动控制系统，其包括鼓泡器、收容在鼓泡器内的储存罐、储存四氯化锗的原液罐以及与储存罐管道连通沉积炉，还包括连通所述储存罐与所述原液罐的加注管、检测所述储存罐内液位的红外激光传感器、设置在所述加注管上的电磁阀、控制所述电磁阀导通或阻断的第一PLC控制器以及采集所述沉积炉运行状态的第二PLC控制器，所述第一PLC控制器与所述电磁阀、所述红外激光传感器以及所述第二PLC控制器电信号连接。
与现有技术相比，本实用新型一种四氯化锗液位自动控制系统的有益效果在于：将沉积炉的运行状态考虑到四氯化锗的加注控制中，防止了沉积炉处于运行状态中进行四氯化锗的自动加注，避免了自动加注过程中的高压对四氯化锗进入沉积炉的流量产生波动；通过高精度的红外激光传感器来实时监控四氯化锗的液位，实现四氯化锗的精准加注。
【附图说明】
图1为本实用新型实施例的结构示意图；
图中数字表示：
100四氯化锗液位自动控制系统；1鼓泡器；2储存罐；3原液罐；4沉积炉；5加注管；6红外激光传感器；7电磁阀；8第一PLC控制器；9第二PLC控制器。
【具体实施方式】
实施例：
请参照图1，本实施例为四氯化锗液位自动控制系统100，其包括鼓泡器1、收容在鼓泡器1内的储存罐2、储存四氯化锗的原液罐3以及与储存罐2管道连通沉积炉4，还包括连通储存罐2与原液罐3的加注管5、检测储存罐2内液位的红外激光传感器6、设置在加注管5上的电磁阀7、控制电磁阀7导通或阻断的第一PLC控制器8以及采集沉积炉4的运行状态的第二PLC控制器9。第一PLC控制器8与电磁阀7、红外激光传感器6以及第二PLC控制器9电信号连接。第二PLC控制器9向第一PLC控制器8提供沉积炉4的运行状态信号。第一PLC控制器8向第二PLC控制器9提供鼓泡器1内四氯化锗是否处于加注状态信号。
本实施例四氯化锗液位自动控制系统100的工作原理为：第二PLC控制器9采集到沉积炉4处于停止状态，代表不需要供应四氯化锗，信号传输至第一PLC控制器8；红外激光传感器6采集到储存罐2内的四氯化锗液位下降至设定下限时，将信号传输至第一PLC控制器8；第一PLC控制器8控制电磁阀7开启，原液罐3中的四氯化锗自动加注到储存罐2中，当红外激光传感器6采集到储存罐2内的四氯化锗液位上升至设定上限时，将信号传输至第一PLC控制器8，第一PLC控制器8控制电磁阀7关闭，停止加注。
本实施例四氯化锗液位自动控制系统100的有益效果在于：将沉积炉的运行状态考虑到四氯化锗的加注控制中，防止了沉积炉处于运行状态中进行四氯化锗的自动加注，避免了自动加注过程中的高压对四氯化锗进入沉积炉的流量产生波动；通过高精度的红外激光传感器来实时监控四氯化锗的液位，实现四氯化锗的精准加注。
以上所述的仅是本实用新型的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。