1.一种触摸屏结构，包括：
LCD部，位于下部，包括触摸面板部和空气层，
所述触摸面板部防止光被反射到其上表面和下表面。
2.根据权利要求1所述的触摸屏结构，其中，所述触摸面板部包括：
防眩光膜，设置在触摸面板上以防止眩光；
第一抗反射涂层，布置在所述防眩光膜上以防止光反射；以及
第二抗反射涂层，设置在所述触摸面板下面以防止所述光反射。
3.根据权利要求2所述的触摸屏结构，其中，在所述第一抗反射涂层上形成用于防止指纹生成的防指纹涂层。
4.一种制造触摸屏结构的方法，所述方法包括如下步骤：
交替地沉积Al2O3、TiO2和SiO2以形成多层；
在触摸面板上沉积防眩光膜；
在所述多层的前面和后面执行抗反射涂覆；
在沉积界面之间执行氩等离子体蚀刻；以及
添加用于保护抗反射涂层并防止所述抗反射涂层的上表面上的指纹污染的防指纹涂层。
5.根据权利要求4所述的方法，其中，沉积温度被设为60℃至100℃。
6.根据权利要求4所述的方法，其中，所述氩等离子体蚀刻进行30秒至60秒。
7.根据权利要求4所述的方法，其中，利用碳氟硅烷沉积所述防指纹涂层。
8.根据权利要求4所述的方法，其中，首先沉积Al2O3，并且在所述抗反射涂层的顶表面上沉积所述防指纹涂层。
9.根据权利要求4所述的制造方法，其中，所述防指纹涂层的沉积涂覆厚度被设为200nm至600nm。