1.一种面板结构，其特征在于，所述面板结构至少包括一面板、与所述面板接合的缓冲结构；
所述面板至少具有一第一侧面、第一表面；
所述缓冲结构设置于所述面板装置的所述第一侧面上，且所述缓冲结构，被同时垂直于所述第一侧面和所述第一表面的平面所截的任意图形的形状及大小一致。
2.如权利要求1所述的面板结构，其特征在于，
所述面板为触控面板；
所述面板还包括与所述第一表面相背的第二表面；
所述第二表面上形成有触控电极层。
3.如权利要求1所述的面板结构，其特征在于，
所述第一侧面为非光滑的平面，所述第一表面为光滑的平面，所述第一侧面环绕所述第一表面。
4.如权利要求1至3任一项所述的面板结构，其特征在于，所述缓冲结构完全覆盖所述第一侧面，或者所述缓冲结构与所述面板咬合设置。
5.一种面板处理方法，其特征在于，所述面板处理方法至少包括以下步骤：
提供一面板，所述面板至少具有一第一表面和一第一侧面，所述第一侧面上设置有缓冲材料，所述缓冲材料为胶状物；
提供一旋转装置，所述旋转装置至少包括一旋转台面；
将所述面板置于所述旋转装置之上，所述第一表面与所述旋转台面相接触，并使所述面板与所述旋转台面共同在同一平面内旋转。
6.如权利要求5所述的面板处理方法，其特征在于，所述步骤还包括：
在所述面板与所述旋转台面共同旋转的同时，对所述缓冲材料进行固化；
所述缓冲材料为透明胶状物，且所述缓冲材料的折射率与所述面板的折射率相同或相近。
7.如权利要求6所述的面板处理方法，其特征在于，
固化后的所述缓冲材料呈固态，旋转固化后的所述缓冲材料形成一缓冲结构；
所述缓冲结构的中心线平行于所述第一表面，并指向所述第一侧面的中心，且所述缓冲结构关于所述中心线对称；
所述缓冲结构，被同时垂直于所述第一侧面和所述第一表面的平面所截的任意图形的形状及大小一致。
8.如权利要求5至7任一项所述的面板处理方法，其特征在于，
所述面板固定于所述旋转装置上并随所述旋转装置匀速旋转；
所述旋转台面的面积小于所述第一表面的面积，所述旋转台面在水平面内的投影被所述第一表面在水平面内的投影覆盖。
9.如权利要求8所述的面板处理方法，其特征在于，
所述旋转装置还包括一控制单元；
所述控制单元控制所述旋转台面与所述面板共同在同一平面内旋转。
10.一种面板处理装置，其特征在于，其至少包括：
一旋转装置，所述旋转装置至少包括一旋转台面，所述旋转装置用于带动面板共同在水平面内旋转；
所述面板至少具有一第一表面和一第一侧面；
所述第一侧面上设置有缓冲材料，所述缓冲材料为胶状物；
所述第一表面与所述旋转台面相接触。
11.如权利要求10所述的面板处理装置，其特征在于，所述旋转台面的面积小于所述第一表面的面积。