导电性薄膜、偏振片及带触摸面板的显示装置的制作方法

本发明涉及一种导电性薄膜、偏振片、及带触摸面板的显示装置。

背景技术：

在基板上形成有导电层的导电性薄膜被广泛使用于太阳能电池、无机EL(电致发光)元件、有机EL元件等各种电子设备的透明电极、各种显示装置的电磁屏蔽部件、触摸面板、透明面状发热体等。尤其，近年来将触摸面板搭载于移动电话或移动游戏机等的搭载率上升，且触摸面板用导电性薄膜的需求快速扩大。

作为触摸面板用导电性薄膜的支撑体，从高透明性及价格等的方面考虑，一般使用PET(聚对苯二甲酸乙二酯)薄膜，并且作为导电层，一般使用ITO(铟锡氧化物)层，该ITO(铟锡氧化物)层通过真空蒸镀或溅射等干燥工艺而形成(专利文献1)。

以往技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-164079号公报

技术实现要素：

发明要解决的技术课题

另一方面，近年来，从触摸面板的可见性的提高方面考虑，需要更进一步提高使用于触摸面板的各种部件的透明性。然而，通常所使用的PET薄膜不具有近年来所需要水平的透明性。并且，容易发生干涉不均，且使用PET薄膜的带触摸面板的显示装置的显示品质不够充分。

并且，如上述，作为导电性薄膜的透明导电材料而一般所使用的ITO通常可通过伴随高温条件的干燥工艺来制造，因此导电性薄膜中的支撑体应具有耐热性。并且，干燥工艺中需要进行真空化，因此存在如下问题：导电性薄膜中所包含的分子量较小的成分或出于高功能化目的而添加的添加剂挥发而导致工艺污染或面状故障。并且，还存在加工速度较慢且生产率较低的缺点。因此，期待开发出其他替代材料。

而且，为了提高导电层的抗冲击性或易操作性等，有时在该导电层的表面配置硬涂层。通常，硬涂层通过使固化性组合物固化而形成的情况较多，且形成硬涂层时易产生固化收缩。

近年来，从包含触摸面板的显示装置薄型化的方面考虑，所使用的部件厚度变薄，而将硬涂层配置于较薄的支撑体的上部的情况下，存在如下问题：通过上述固化收缩而在整个导电性薄膜中易产生褶皱，且平坦性受损。

本发明的课题在于鉴于上述实际情况而提供一种导电性薄膜，该导电性薄膜可简便地制造，且透光性较高，平坦性也优异，并具有硬涂层。

并且，本发明的课题还在于提供一种包含上述导电性薄膜的偏振片及带触摸面板的显示装置。

用于解决技术课题的机构

本发明人等对以往技术中的问题点进行深入研究的结果，发现通过使用显示规定的光学特性的支撑体和包含富勒烯官能化碳纳米管的导电层可解决上述课题。

即，本发明人等发现通过以下构成可解决上述课题。

(1)一种导电性薄膜，其具有：

支撑体，波长550nm下的面内延迟为10nm以下，波长550nm下的厚度方向的延迟为-60～60nm；

导电层，配置在支撑体的至少一面，并包含富勒烯官能化碳纳米管，且其厚度小于10μm；及

硬涂层，相邻配置在所述导电层上。

(2)根据(1)所述的导电性薄膜，其中，

表面电阻值为10～150Ω/□。

(3)根据(1)或(2)所述的导电性薄膜，其中，

支撑体的厚度为10～80μm。

(4)根据(1)至(3)中任一个所述的导电性薄膜，其中，

支撑体包含选自如下组中的至少一种，所述组包括纤维素酰化物系树脂、丙烯酸系树脂、甲基丙烯酸系树脂、及环烯烃系树脂。

(5)一种偏振片，其包含(1)至(4)中任一个所述的导电性薄膜和偏振器。

(6)根据(1)至(4)中任一个所述的导电性薄膜，其使用于触摸面板。

(7)一种带触摸面板的显示装置，其具有(6)所述的导电性薄膜。

发明效果

根据本发明，可提供提供一种导电性薄膜，该导电性薄膜可简便地制造，且透光性较高，平坦性也优异，并具有硬涂层。

并且，根据本发明，可提供一种包含上述导电性薄膜的偏振片及带触摸面板的显示装置。

附图说明

图1为表示本发明的带触摸面板的显示装置的第1实施方式的示意剖视图。

图2为导电性薄膜的俯视图。

图3为沿图2中的切割线A-A进行切割的剖视图。

图4为表示本发明的带触摸面板的显示装置的第2实施方式的示意剖视图。

图5为导电性薄膜的俯视图。

图6为沿图5中的切割线B-B进行切割的剖视图。

具体实施方式

以下，对本发明的导电性薄膜、偏振片、及带触摸面板的显示装置进行详细说明。

另外，本说明书中使用“～”来表示的数值范围是指将记载于“～”前后的数值作为下限值及上限值而包含。并且，本发明中的图为示意图，各层的厚度关系或位置关系等并不一定与实际情况一致。

Re(λ)、Rth(λ)分别表示波长λ中的面内延迟、及厚度方向的延迟。Re(λ)可通过KOBRA 21ADH、或WR(Oji Scientific Instruments.制)，使波长λnm的光入射于薄膜法线方向来测定。选择测定波长λnm时，可根据指南更换波长选择滤波器，或通过程序等改变测定值来进行测定。以单轴或双轴折射率楕球体表示所测定的薄膜的情况下，可通过以下方法计算出Rth(λ)。另外，该测定方法有时还用于测定液晶化合物的平均倾斜角、与其相反一侧的平均倾斜角。

关于Rth(λ)，将面内的慢轴(可通过KOBRA 21ADH、或WR而判定)作为倾斜轴(旋转轴)(无慢轴的情况下，将薄膜面内的任意方向作为旋转轴)，相对薄膜法线方向，使波长λnm的光从如下方向入射、即直至一侧距离法线方向呈50°为止以10度的间隔分别倾斜的方向，从而一共测定6处上述Re(λ)，并根据所测定的延迟值和平均折射率的假定值及所输入分膜厚值由KOBRA 21ADH或WR计算出。上述中，从法线方向将面内的慢轴作为旋转轴，且一倾斜角度的延迟值为零的方向上的薄膜的情况下，将倾斜角度比该倾斜角度大时的延迟值的符号变更为负之后由KOBRA 21ADH、或WR计算出。另外，将慢轴作为倾斜轴(旋转轴)(无慢轴的情况下，将薄膜面内的任意方向作为旋转轴)，根据所倾斜的任意两个方向测定延迟值，以该值和平均折射率的假定值、及所输入的膜厚值为基准，通过以下式(A)、及式(B)还可计算出Rth。

[数式1]

另外，上述Re(θ)表示从法线方向倾斜角度θ的方向上的延迟值。并且，式(A)中的nx表示面内的慢轴方向的折射率，ny表示在面内与nx正交的方向上的折射率，nz表示与nx及ny正交的方向上的折射率。d表示测定薄膜的厚度。

Rth＝((nx+ny)/2-nz)×d···········式(B)

所测定的薄膜为无法通过单轴或双轴的折射率楕球体表现的、所谓无光轴(optic axis)的薄膜的情况下，可通过以下方法计算出Rth(λ)。关于Rth(λ)，将面内的慢轴(可通过KOBRA 21ADH、或WR而判定)作为倾斜轴(旋转轴)，相对薄膜法线方向，使波长λnm的光从如下方向入射，即从-50°至+50°为止以10°的间隔分别倾斜的方向，从而测定11处上述Re(λ)，并根据所测定的延迟值和平均折射率的假定值及所输入的膜厚值由KOBRA 21ADH或WR计算出。并且，上述测定中，作为平均折射率的假定值，可使用聚合物手册(JOHN WILEY&SONS,INC)、各种光学薄膜的一览表的值。针对平均折射率值为未知的情况，可通过阿贝折射仪来测定。以下例示出主要光学薄膜的平均折射率值：纤维素酰化物(1.48)、环烯烃聚合物(1.52)、聚碳酸酯(1.59)、聚甲基丙烯酸甲酯(1.49)、聚苯乙烯(1.59)。通过输入这些平均折射率的假定值和膜厚来由KOBRA 21ADH或WR计算出nx、ny、nz。

作为本发明的导电性薄膜的特征之一，首先可举出使用显示规定的光学特性的支撑体的情况。即，本发明中，通过使用面内延迟及厚度方向的延迟较少的支撑体(低相位差薄膜)，可实现提高透光率，并消除容易在PET薄膜中发生的干涉不均。

另外，如上述，作为导电层而一般所使用的ITO层通常可通过伴随高温条件的干燥工艺来制造，但与PET薄膜相比较，通常上述低相位差薄膜的耐热性或机械强度较差，因此上述低相位差薄膜容易在干燥工艺中产生分解等，从一开始就很难应用。

相对于此，作为本发明的导电性薄膜的另一特征，可举出使用包含富勒烯官能化碳纳米管的导电层的情况。如在后述内容中详细说明，富勒烯官能化碳纳米管包含与碳纳米管共价键合的一种或多种富勒烯和/或富勒烯系分子。富勒烯官能化碳纳米管为除了源自碳纳米管的机械柔软性，还进一步作为富勒烯官能团的效果而显示比碳纳米管更高的导电性的材料。导电层中，富勒烯官能化碳纳米管彼此缠绕的同时容易形成网络结构，而且富勒烯官能团与相邻的富勒烯官能化碳纳米管接触，结果成为显示优异的导电特性的导电层。并且，如后述，在制作包含富勒烯官能化碳纳米管的导电层时，无需在高温真空条件下进行。因此，与通过干燥工艺来制作ITO膜的情况相比，可抑制支撑体的性能变差。

而且，本发明的导电性薄膜中，不易产生源自硬涂层的褶皱等。其理由尚不明确，但推测为如下。首先，如上述在导电层中，富勒烯官能化碳纳米管彼此缠绕的同时形成网络结构，因此可轻松地缓和施加于导电层的应力。因此，与硬涂层相邻配置的导电层作为所谓的应力缓和层而发挥作用，且可抑制在整个导电性薄膜中产生褶皱。

[导电性薄膜]

本发明的导电性薄膜至少具有显示规定的光学特性的支撑体、包含配置在支撑体上的富勒烯官能化碳纳米管的导电层、及相邻配置在支撑体上的硬涂层。

以下，对导电性薄膜中所含有的部件(支撑体、导电层、硬涂层等)进行详细说明。

＜支撑体＞

支撑体为支撑导电层的基材。

波长550nm下的支撑体的面内延迟Re(550)为10nm以下，从导电性薄膜的光学特性更加优异的方面考虑，优选为7nm以下，更优选为5nm以下。关于下限，并无特别限制，为0nm。

波长550nm下的支撑体的厚度方向的延迟Rth(550)为-60～60nm，从导电性薄膜的光学特性更加优异的方面考虑，优选为-45～45nm，更优选为-35～35nm以下。

关于支撑体的厚度，并无特别限制，从显示装置的薄型化的方面考虑，优选为10～80μm，更优选为10～60μm。

另外，上述厚度为平均值，且为测定支撑体的任意10处的厚度，并对这些进行算术平均的值。

作为支撑体若满足上述光学特性，则并无特别限制，可使用公知的透明支撑体，例如作为形成透明支撑体的材料，可举出以三乙酰纤维素为代表的纤维素酰化物树脂或环烯烃系树脂(ZEON CORPORATION制ZEONEX、ZEONOR、JSR CORPORATION制ARTON.等)或(甲基)丙烯酸系树脂等。另外，“(甲基)丙烯酸系树脂”为表示丙烯酸系树脂或甲基丙烯酸系树脂的标记。

作为支撑体的优选方式之一，可使用纤维素酯薄膜。

(纤维素酯)

纤维素酯薄膜包含纤维素酯而成。

本发明中，例如可通过使用粉末、粒子状、或被微粒化的纤维素酯来制作薄膜而作为纤维素酯薄膜。

纤维素酯薄膜可以由一种纤维素酯构成，也可以由两种以上的纤维素酯构成。

作为纤维素酯，优选纤维素酰化物。

关于本发明中所使用的纤维素酰化物，并无特别限定。作为酰化物原料的纤维素，存在棉毛纤维或木浆(阔叶木浆、针叶木浆)等，也能够使用可通过任意原料纤维素而得到的纤维素酰化物，且可以根据情况而混合使用。有关这些原料纤维素的详细记载，例如可使用丸泽、宇田著、“塑料材料讲座(17)纤维素系树脂”NIKKAN KOGYO SHIMBUN,LTD.(1970年发行)或发明协会公开技报公技号2001-1745号(7页～8页)中所记载的纤维素。

简单记载在本发明中优选使用的纤维素酰化物。构成纤维素的β-1,4键合的葡萄糖单元中，在2位、3位及6位具有游离的羟基。纤维素酰化物为通过碳原子数2以上的酰基将这些羟基的一部分或全部酯化而得到的聚合物(polymer)。酰基取代度是指位于2位、3位及6位的纤维素的羟基被酯化的比例(100％的酯化为取代度1)。

总酰基取代度、即优选DS2+DS3+DS6为1.5～3.0，更优选2.0～3.0，进一步优选2.5～3.0，更进一步优选2.7～3.0，尤其优选2.70～2.98。并且，从制膜性的观点考虑，根据情况优选为2.80～2.95，尤其优选为2.85～2.90。在此，DS2为葡萄糖单元的2位的羟基被酰基取代的取代度(以下，还称为“2位的酰基取代度”)，DS3为3位的羟基被酰基取代的取代度(以下，还称为“3位的酰基取代度”)，DS6为6位的羟基被酰基取代的取代度(以下，还称为“6位的酰基取代度”)。并且，DS6/(DS2+DS3+DS6)为相对总酰基取代度的6位的酰基取代度的比例，以下还称为“6位的酰基取代率”。

优选纤维素酰化物的分子量以数均分子量(Mn)为40000～200000，更优选为100000～200000。本发明中所使用的纤维素酰化物的Mw/Mn比优选为4.0以下，更优选为1.4～2.3。

本发明中，关于纤维素酰化物等的平均分子量及分子量分布，利用凝胶渗透色谱(GPC)计算出数均分子量(Mn)、重均分子量(Mw)，且可通过国际公开WO2008-126535号公报中所记载的方法来计算出其比率。

关于纤维素酰化物的酰基的种类，并无特别限制，优选碳原子数为2～10酰基，更优选碳原子数为2～6的酰基，进一步优选碳原子数为2～4的酰基。具体而言，优选纤维素酰化物的酰基为乙酰基或丙酰基，尤其优选为乙酰基。即，优选纤维素酰化物为乙酸纤维素。

在不脱离本发明的权利要求的范围内，所使用的纤维素酰化物可以含有一种以上的增塑剂或UV(紫外线)吸收剂等添加剂。关于添加量，并无特别限制，从透明性或渗出的观点考虑，优选30重量％以下，更优选3～25重量％，最优选3～20重量％。

关于所使用的添加剂，并无特别限制，例如，可使用含有芳香族二羧酸的酯低聚物(芳香族酯低聚物)。含芳香族二羧酸的酯低聚物具有源自二羧酸的重复单元和源自二醇的重复单元，源自二羧酸的重复单元中，将源自脂肪族二羧酸的重复单元的摩尔比设为m，将源自芳香族二羧酸的重复单元的摩尔比设为n时，优选m:n为0:10～3:7。并且，作为分子量，优选数均分子量(Mn)为600～3000，更优选为600～2000，进一步优选为600～1500。

优选所使用的芳香族酯低聚物由碳原子数为2～10的二醇和碳原子数为4～10的二羧酸合成。作为合成方法，可利用二羧酸与二醇的脱水缩合反应、或针对乙二醇的二羧酸酐的加成及脱水缩合反应等公知的方法。优选芳香族酯低聚物为通过作为二羧酸的芳香族二羧酸与二醇的合成而得到的聚酯系低聚物。

并且，关于本发明中所使用的酰化物薄膜的添加剂，例如可参考日本特开2013-117009的0039～0063段、0068～0095段的记载。

(纤维素酰化物薄膜的制造方法)

关于制造纤维素酰化物薄膜的方法，并无特别限制，可利用公知的方法进行制膜。例如，可以利用溶液流延制膜法及熔融制膜法中的任意一个来进行制膜，从薄膜的平滑性的观点考虑，优选利用溶液流延制膜法来制造。以下，举例说明利用溶液流延制膜法的情况，但本发明并不限定于溶液流延制膜法。另外，关于利用熔融制膜法的情况，可利用公知的方法。

-聚合物溶液-

溶液流延制膜方法中，使用纤维素酰化物、及根据需要而含有各种添加剂的聚合物溶液(纤维素酰化物溶液)来形成料片。以下，对可利用溶液流延制膜方法来制造的聚合物溶液(以下，有时适当地称为纤维素酰化物溶液)进行说明。

-溶剂-

本发明中所使用的纤维素酰化物被溶解于溶剂而形成浓液，并将其流延于基材上来形成薄膜。此时，需要在挤压、或流延后使溶剂蒸发，因此优选使用挥发性溶剂。

而且，不与反应性金属化合物或催化剂等反应，并且不溶解流延用基材。并且，可以将两种以上的溶剂进行混合来使用。

并且，可以将纤维素酰化物和可水解缩聚的反应性金属化合物分别溶解于不同的溶剂之后进行混合。

在此，将针对上述纤维素酰化物具有良好的溶解性的有机溶剂称为良溶剂，并且溶解时显示主要效果，其中将大量使用的有机溶剂称为主(有机)溶剂或主要的(有机)溶剂。

作为良溶剂的例子，除了丙酮、甲基乙基酮、环戊酮、环己酮等酮类、四氢呋喃(THF)、1,4-二噁烷、1,3-二氧戊环、1,2-二甲氧基乙烷等醚类、甲酸甲酯、甲酸乙酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸戊酯、γ-丁内酯等酯类以外，还可举出甲基溶纤剂、二甲基咪唑啉酮、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、乙腈、二甲基亚砜、四氢噻吩砜、硝基乙烷、二氯甲烷、乙酰乙酸甲酯等，优选1,3-二氧戊环、THF、甲基乙基酮、丙酮、乙酸甲酯及二氯甲烷。

优选浓液中除了上述有机溶剂以外，还含有1～40质量％的碳原子数为1～4的醇。

这些中，将浓液流延于金属支撑体之后，溶剂开始蒸发而醇的比率变多，由此使料片(将纤维素酰化物的浓液流延于金属支撑体上之后的浓液膜称为料片)凝胶化，并具有用作使从金属支撑体剥离的情况变得容易的凝胶化溶剂，或者它们的比例较少时促进非氯系有机溶剂溶解纤维素酰化物的作用，还具有抑制反应性金属化合物的凝胶化、析出、粘度上升的作用。

作为碳原子数为1～4的醇，可举出甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、仲丁醇、叔丁醇、丙二醇单甲醚。

这些中，从浓液的稳定性优异，沸点也较低，干燥性也良好，并且无毒性等方面考虑，优选甲醇、乙醇。更优选乙醇。这些有机溶剂单独存在时针对纤维素酰化物并不具有溶解性，并称为不良溶剂。

作为纤维素酰化物的原料的纤维素酰化物包含羟基或酯类、酮等氢键合性官能团，因此从流延支撑体剥离的观点考虑，优选在总溶剂中含有5～30质量％的醇，更优选含有5～25质量％的醇，进一步优选含有8～20质量％的醇。

并且，含有少量的水可有效地提高溶液粘度或干燥时的湿膜状态的膜强度，并可有效提高滚筒法流延時的浓液强度，例如可相对所有溶液含有0.1～5质量％，更优选含有0.1～3质量％，尤其可以含有0.2～2质量％。

关于作为本发明中的聚合物溶液的溶剂而优选使用的有机溶剂的组合的例子，例如可举出，日本特开2009-262551号公报。

并且，可根据需要将非卤素系有机溶剂作为主溶剂，在发明协会公开技报(公开号2001-1745、2001年3月15日发行，发明协会)中记载有详细内容。

优选聚合物溶液中纤维素酰化物浓度为5～40质量％，更优选为10～30质量％，进一步优选为15～30质量％。

关于纤维素酰化物浓度，能够以在将纤维素酰化物溶解于溶剂的阶段成为规定浓度的方式进行调整。并且可以在预先制备低浓度(例如4～14质量％)的溶液之后，通过使溶剂蒸发等而进行浓缩。而且，可以在预先制备高浓度的溶液之后进行稀释。并且，通过添加添加剂可降低纤维素酰化物浓度。

添加添加剂的时期可根据添加剂的种类来适当地确定。例如，关于芳香族酯低聚物或UV吸收剂，可以在将紫外线吸收剂溶解于甲醇、乙醇、丁醇等醇或二氯甲烷、乙酸甲酯、丙酮、二氧戊环等有机溶剂或它们的混合溶剂之后添加于浓液中，或直接添加于浓液组成中。关于如无机粉体并不溶解于有机溶剂的化合物，使用分散器或砂磨机将该化合物分散于有机溶剂和纤维素酰化物中之后添加于浓液中。

作为满足这种条件且以高浓度溶解优选的高分子化合物、即纤维素酰化物的溶剂，最优选的溶剂为二氯甲烷:乙醇的比为95:5～80:20的混合溶剂。或者，优选使用乙酸甲酯:乙醇的比为60:40～95:5的混合溶剂。

(1)溶解工序

该溶解工序为在溶解釜中将以纤维素酰化物的良溶剂为主的有机溶剂、纤维素酰化物、添加剂进行搅拌的同时进行溶解来形成浓液的工序、或者将纤维素酰化物溶液和添加剂溶液进行混合来形成浓液的工序。

对纤维素酰化物进行溶解时，可利用在常压下进行溶解的方法、以主溶剂的沸点以下的沸点进行溶解的方法、以主溶剂的沸点以上的沸点进行加压来进行溶解的方法、如日本特开平9-95544号公报、日本特开平9-95557号公报、或日本特开平9-95538号公报中所记载的冷却溶解法进行溶解的方法、如日本特开平11-21379号公报中所记载的以高压进行溶解的方法等各种溶解方法，尤其优选以主溶剂的沸点以上的沸点进行加压来进行溶解的方法。

优选浓液中的纤维素酰化物的浓度为10～35质量％。优选对溶解中或溶解后的浓液添加添加剂来进行溶解及分散之后，利用滤材进行过滤，并进行脱泡来以送液泵传送到下一工序。

(2)流延工序

该流延工序为将浓液通过送液泵(例如，加压型定量齿轮泵)输送到加压模，且在无限传送的无端金属传送带、例如不锈钢传送带或旋转的金属滚筒等金属支撑体上的流延位置，从加压模间隙对浓液进行流延的工序。

优选可调整模具的接口部分的狭缝形状，且可轻松地使膜厚变得均匀的加压模。加压模中有衣架型模或T型模等，且均可优选使用。金属支撑体的表面呈镜面。为了提高制膜速度而可以在金属支撑体上设置两个以上的加压模，并分割浓液量来层叠多层。或者还优选通过使多股浓液同时流延的共流延法来得到层叠结构的薄膜。

(3)溶剂蒸发工序

该溶剂蒸发工序为在金属支撑体上对料片(将在成为成品纤维素酰化物薄膜之前的状态下，仍包含较多的溶剂的化合物称为料片)进行加热，且直至可从金属支撑体剥离料片为止使溶剂蒸发的工序。

使溶剂蒸发时，有从料片侧吹风的方法和/或从金属支撑体的背面进一步对液体传递热的方法、通过辐射热而从表面和背面传导热的方法等，从背面对液体传递热的方法的干燥效果良好，因此优选。并且还优选将这些进行组合的方法。从背面对液体传递热的情况下，优选以使用浓液的有机溶剂的主溶剂或具有最低沸点的有机溶剂的沸点以下的沸点进行加热。

(4)剥离工序

该剥离工序为在金属支撑体上将溶剂蒸发而成的料片从剥离位置进行剥离的工序。被剥离的料片被传送到下一工序。另外，若进行剥离的时刻的料片残留溶剂量(下述式)过多，则很难进行剥离，相反若在金属支撑体上过于充分干燥之后进行剥离，则有时料片的一部分在干燥中途被剥离。

在此，作为提高制膜速度的方法(趁残留溶剂量较多时进行剥离，由此可提高制膜速度)有凝胶流延法(凝胶注模)。例如，有向浓液中添加纤维素酰化物的不良溶剂而浓液流延后进行凝胶化的方法、降低金属支撑体的温度而进行凝胶化的方法等。在金属支撑体上进行凝胶化来提高剥离时的膜的强度，由此可快速进行剥离，且提高制膜速度。

关于在金属支撑体上剥离料片时的残留溶剂量，优选根据干燥条件的强弱、金属支撑体的长度等而在5～150质量％的范围内进行剥离，但在残留溶剂量较多的时刻进行剥离的情况下，可通过经济速度和品质的平衡来确定剥离时的残留溶剂量。本发明中，优选将该金属支撑体上的剥离位置的温度设为-50～40℃，更优选设为10～40℃，最优选设为15～30℃。

并且，优选将剥离位置中的料片的残留溶剂量设为10～150质量％，更优选设为10～120质量％。

残留溶剂量可通过下述式表示。

残留溶剂量(质量％)＝[(M-N)/N]×100

在此，M为料片的任意时刻的质量，N为以110℃对质量为M的料片干燥3小时之后的质量。

(5)干燥或热处理工序、拉伸工序

优选上述剥离工序后，使用如下装置来对料片进行干燥，即将料片交替通过在干燥装置内配置有多个的辊来传送的干燥装置和/或以夹具夹住料片的两端来传送的拉幅机装置。

进行热处理的情况下，热处理温度低于Tg-5℃，优选为Tg-20℃以上且低于Tg-5℃，更优选为Tg-15℃以上且低于Tg-5℃。

并且，优选热处理温度为30分钟以下，更优选为20分钟以下，尤其选为10分钟左右。

进行干燥及热处理的方法通常对料片的两面吹热风，但也有替代风而施加微波而进行加热的方法。根据所使用的溶剂而温度、风量及时间不同，根据所使用溶剂的种类、组合来适当选择条件即可。

拉伸处理可以沿MD及TD的任一方向进行，也可以沿两方向双轴拉伸。从尺寸稳定性的观点考虑，优选双轴拉伸。拉伸可以通过一阶段来实施，也可以通过多个阶段来实施。并且，关于拉伸弹性模量，可通过对所使用的纤维素酰化物的种类或酰基取代度进行调整，或选择添加剂的种类，或者通过调整其比例来调整为上述范围。

优选向薄膜传送方向MD拉伸的拉伸倍率为0～20％，更优选为0～15％，尤其优选为0～10％。拉伸时的料片的拉伸倍率(拉伸率)可通过金属支撑体速度和剥离速度(剥离辊牵引)的外圆速度差而实现。例如，使用具有两个夹持辊的装置的情况下，将出口侧夹持辊的转速设为比如口侧夹持辊的转速快，由此可沿传送方向(纵向)较佳地拉伸薄膜。通过实施这种拉伸可调整MD的拉伸弹性模量。

另外，在此“拉伸倍率(％)”是指可通过以下式求出的拉伸倍率。

拉伸倍率(％)＝100×{(拉伸后的长度)-(拉伸前的长度)}/拉伸前的长度

优选向与薄膜传送方向正交的方向TD拉伸时的拉伸倍率为0～30％，更优选为1～20％，尤其优选为20～15％。

另外，本发明中，作为向与薄膜传送方向正交的方向TD拉伸的方法，优选使用拉幅机装置进行拉伸。

双轴拉伸时，可沿纵向例如缓和0.8～1.0倍来得到所希望的延迟值。拉伸倍率可根据目标光学特性来设定。制造纤维素酰化物薄膜的情况下，可沿长边方向单轴拉伸。

若拉伸时的温度为Tg以下，则拉伸方向上的拉伸弹性模量得到提高，因此优选。优选拉伸温度为Tg-50℃～Tg，更优选为Tg-30℃～Tg-5℃。另一方面，若在上述温度条件下进行拉伸，则拉伸方向上的拉伸弹性模量得到提高，并且存在与其正交的方向上的拉伸弹性模量降低的倾向。从而，为了通过拉伸而提高MD及TD这两个方向上的拉伸弹性模量，优选在上述温度范围内，沿两个方向进行拉伸处理、即进行双轴拉伸处理。

另外，可以在拉伸工序后进行干燥。拉伸工序后进行干燥的情况下，根据所使用的溶剂而干燥温度、干燥风量及干燥时间不同，可根据所使用溶剂的种类、组合而适当选择干燥条件即可。本发明中，从提高将薄膜组装于液晶显示装置时的正面对比度的观点考虑，优选拉伸工序后的干燥温度比拉伸工序的拉伸温度低。

(6)卷绕

如以上得到的薄膜的长度优选按每一卷以100～10000m进行卷绕，更优选为500～7000m，进一步优选为1000～6000m。优选薄膜的宽度为0.5～5.0m，更优选为1.0～3.0m，进一步优选为1.0～2.5m。卷绕时，优选自少向一端赋予滚花，优选滚花的宽度为3～50mm，更优选为5～30mm，优选高度为0.5～500μm，更优选为1～200μm。其可以是单面压制，也可以是双面压制。

将如此得到的料片进行卷绕可得到纤维素酰化物薄膜。

(卷状纤维素酰化物薄膜)

作为纤维素酰化物薄膜，可以使用将细长形状纤维素酰化物薄膜卷绕成卷状而成的卷状纤维素酰化物薄膜。关于卷状薄膜的长度和宽度，并无限制，优选长度为1300m～10400m，更优选为2600m～10400m，最优选为3900m～9800m。从生产效率的观点考虑，优选细长形状，但若过长，则有可能发生因薄膜的重量而引起的变形或需要对其进行处理。优选宽度为1000mm～3000mm，更优选为1150mm～2800mm，最优选为1300mm～2500mm。

(层结构)

纤维素酰化物薄膜可以为单层薄膜，也可以为具有两层以上的层叠结构。例如，优选包括芯层和外层(有时称为表层、表皮层)这两层的层叠结构，或包括外层、芯层、外层这3层的层叠结构，还优选将该些层叠结构通过共流延而制膜的方式。

纤维素酰化物薄膜具有两层以上的层叠结构的情况下，优选对外层进一步添加消光剂。作为消光剂，例如可使用日本特开2011-127045号公报中所记载的消光剂等，例如可使用平均粒子尺寸为20nm的二氧化硅粒子等。

＜导电层＞

导电层包含富勒烯官能化碳纳米管。关于富勒烯官能化碳纳米管，在后段中进行详细说明。

导电层的厚度小于10μm，从导电性薄膜的透光性更加优异的方面考虑，优选为9μm以下，更优选为8μm以下，进一步优选为7μm以下。关于下限，并无特别限制，从导电性薄膜的导电性方面考虑，优选为1μm以上，更优选为2μm以上，进一步优选为3μm以上。

通过将导电层的厚度调整为小于10μm来可减少基于富勒烯官能化碳纳米管的光吸收的程度。

另外，上述厚度为平均值，且为对导电层的任意10处的厚度进行测定，并将该些进行算术平均的值。

关于导电层中的富勒烯官能化碳纳米管的含量，并无特别限制，从导电性薄膜的平坦性更加优异的方面(以后，简称为“本发明的效果更加优异的方面”)和/或导电层的导电性更加优异的方面考虑，优选相对导电层总质量为60质量％以上，更优选为80质量％以上，进一步优选为90质量％以上。关于上限，并无特别限制，可举出100质量％。

另外，导电层中可以含有富勒烯官能化碳纳米管以外的添加剂，关于其含量，并无特别限制，从本发明的效果更加优异的方面和/或导电层的导电性更加优异的方面考虑，优选相对导电层总质量为0.01～40质量％，更优选为0.1～20质量％，进一步优选为0.1～10质量％。

导电层至少配置于支撑体的一面上，也可以配置于支撑体的两面。导电层配置于支撑体的两面的情况下，后述硬涂层也分别相邻配置于配置在支撑体的两面的导电层上。

导电层可以配置于整个支撑体表面(主面)，也可以配置于支撑体表面的一部分区域。尤其，如后述，应用于触摸面板的情况下，优选以规定的图案状配置导电层。

作为导电层的制作方法，若可制作包含富勒烯官能化碳纳米管的导电层，则并无特别限制，例如，可举出将富勒烯官能化碳纳米管分散于溶剂中并涂布于支撑体上，且根据需要实施干燥处理的方法、或向支撑体喷吹包含富勒烯官能化碳纳米管的气溶胶的方法。

另外，在支撑体上直接制作导电层，除此以外，还可举出先在伪支撑体上制作包含富勒烯官能化碳纳米管的导电层之后转印于支撑体上的方法。

如上述，可以以规定的图案状配置导电层。

作为将导电层形成为规定图案的方法，并无特别限制，例如，可举出在支撑体上以规定图案进行掩模，并将包含富勒烯官能化碳纳米管的导电层堆积于支撑体上之后去除掩模，由此得到规定图案的导电层的方法、在导电层上准备规定图案的抗蚀剂，并通过强酸、氧化性或腐蚀性较大的药剂、强碱等的湿法蚀刻工艺进行蚀刻的方法、通过网版印刷而图案化的方法等，本发明中，优选通过干蚀刻工艺来进行图案化。

以下示出其例子，但本发明并不限定于此。

在导电层上形成成为掩模的铝膜，接着为了形成图案而在铝膜上涂布抗蚀剂。接着，结合图案对上述抗蚀剂进行曝光、显影。接着，以上述被图案化的抗蚀剂作为掩模来蚀刻铝膜。接着对抗蚀剂进行剥离。接着使用干蚀刻装置、例如O₂等离子体灰化装置对露出于表面的导电层进行燃烧，由此去除该导电层。在此，燃烧是指不仅包括提高式样温度的情况，还包括通过在未提高基板温度的情况下被活化的O₂等离子体及自由基进行氧化的方法、即灰化。最后，通过磷酸、尤其加热的磷酸对导电层上的铝膜进行湿式蚀刻来除去，由此可将导电层图案化。

另外，上述中利用O₂等离子体灰化进行了说明，但除此之外还可进行其他干蚀刻方法、例如基于溅射蚀刻、化学蚀刻、反应性蚀刻、反应性溅射蚀刻、离子束刻蚀、反应性离子束刻蚀的蚀刻。

气体蚀刻或含自由基蚀刻通过使用反应性气体可去除以富勒烯官能化碳纳米管或碳为主的纳米粒子，该反应性气体为可通过化学蚀刻或反应性蚀刻与碳反应并去除的氧、氢等。富勒烯官能化碳纳米管或碳纳米粒子、覆盖催化剂金属表面的无定形碳的碳键可通过6元环或5元环构成，但与富勒烯官能化碳纳米管相比，碳纳米粒子、覆盖催化剂金属表面的无定形碳的键中存在缺损且5元环较多，容易与反应性气体反应。

从而，将包含富勒烯官能化碳纳米管的导电层图案化的情况下，气体蚀刻或包含自由基的蚀刻更加有效，该富勒烯官能化碳纳米管包含碳纳米粒子、覆盖催化剂金属表面的无定形碳。而且，气体蚀刻或包含自由基的蚀刻为各向同性蚀刻，由此反应性气体不仅侵入进行图案化的纳米管的表面，还侵入表面附近的纳米管、纳米粒子侧壁或背面，并选择性的与碳反应，从而可去除催化剂金属以外的化合物。而且，附加仅去除催化剂金属的工序，由此可将包含富勒烯官能化碳纳米管的导电层图案化，该富勒烯官能化碳纳米管包含纳米粒子。关于反应生成物，例如为氧的情况下，由于成为CO或CO₂等气体，因此不会再次附着于支撑体，且不存在表面污染的问题。尤其利用氧的燃烧较简便，因此优选。

接着，对利用离子溅射效果的情况进行研究。对图案化时欲保留的导电层，例如利用溅射或蒸镀来涂覆铝，但在导电层表面的凹凸较大的情况下，尤其在凹陷内部有时无法充分涂覆铝。利用反应性气体的情况下，存在气体的侵入，蚀刻时间较长的情况下，在未充分涂覆保护膜的部分对导电层进行蚀刻。另一方面，利用离子溅射蚀刻的情况下，离子种类的直线性较强，离子种类从上面进入，因此很难损伤位于较厚的涂覆膜的下部的导电层。而且，由于为各向异性蚀刻，因此可确切且以垂直的方式蚀刻掩模图案。从而，去除导电层时为优选，并且形成微细图案时为优选，该导电层包含在纳米粒子中尤其不含有催化剂金属的富勒烯官能化碳纳米管。

离子束刻蚀、反应性离子束刻蚀中可在无掩模的情况下进行蚀刻，但需要调制光束，且按每一面积需要工艺时间。与大面积显示器相比，更适合小型显示器。

并且，示出了作为上述O₂等离子体灰化时的掩模而使用铝膜的例子，但也可以使用进行去除时不损伤导电层的金属、例如，钛、金、钼、钨、银等。使用钛时以硝酸、金时以王水、钼时以热浓硫酸或王水、钨时以氢氟酸与硝酸的混合液来可迅速去除。然而，在长时间的处理中，因硝酸、硫酸、氟化氢而导电层逐渐劣化，因此需要在不受损伤的条件下，尤其在温度、浓度及规定的时间内进行处理。在室温中以硝酸65％、硫酸90％、氟化氢45％及它们的混合物在1小时以内进行处理，因此能够以无损伤的方式进行处理。与其他金属相比，铝的价格较低，并且导电层的涂覆状态、尤其铝的晶粒较密且涂覆率较高，而且相对作为蚀刻液的磷酸未发现导电层的劣化，与其他金属相比，更优选。

另一方面，原子量较大的金属的基于离子的溅射率较小，溅射效果为主要干蚀刻的情况下，作为掩模材料而适合。与铝、钛相比，尤其金、钨、钼相对溅射的耐性为两倍以上，且不易受掩模正下方的损伤，从而，去除导电层时为优选，并且形成微细图案时为优选，该导电层包含在纳米粒子中尤其不含有催化剂金属的富勒烯官能化碳纳米管。

并且，除了金属以外，若为O₂等离子体灰化时也不受损伤，则去除时不会损伤导电层的物质、例如二氧化硅、氧化铝等，则可使用。

(富勒烯官能化碳纳米管)

富勒烯官能化碳纳米管(本说明书中，还称为CBFFCNT)包含与碳纳米管共价键合的一种或多种富勒烯和/或富勒烯系分子。即，CBFFCNT为经共价键合而导入选自包括富勒烯及富勒烯系分子的组中的一种或多种的碳纳米管。

碳纳米管为通过碳原子制作的六元环网络(石墨烯片)成为单层或多层的同轴管状的物质。碳纳米管可以仅有碳原子构成，也可以包含碳原子和一种或多种其他原子(例如，杂原子)。碳纳米管可具有末端被开放和/或闭锁的圆筒状或管状结构。并且，还可以为其他碳纳米管结构。

富勒烯为包含碳原子，并且其结构实质上为球形、椭圆形或滚珠状的分子。富勒烯可以具有表面被闭锁的中空结构，或也可以具有未完全闭锁，且具有一个或多个断开键(open bonds)的实质上为球形的结构。富勒烯例如可具有实质上为如半球体的形状和/或任意其他形状。

富勒烯系分子是指，上述富勒烯的任意一个；分子内的一个或多个碳原子被一个或多个、例如，碳原子以外的原子(例如，杂原子)、分子、基团和/或化合物取代的分子、或上述富勒烯分子的任意一个；一个或多个附加原子(例如，杂原子)、分子、基团和/或化合物被并入富勒烯内的分子、或上述富勒烯的任意一个；一个或多个附加原子(例如，杂原子)、分子、基团和/或化合物被粘附在富勒烯的表面的分子。

另外，还可涉及到可将一种或多种其他富勒烯粘附于碳纳米管表面的方面，但这仅为一个非限定例。

一种或多种富勒烯和/或富勒烯系分子可与碳纳米管的外表面和/或内表面、优选与外表面共价键合。富勒烯和/或富勒烯系分子可包含20～1000个原子。富勒烯和/或富勒烯系分子可以经由一种或多种交联原子团与碳纳米管共价键合，也可以直接与碳纳米管共价键合。

交联原子团是指为了可与碳纳米管共价键合而使用的任意原子、元素、分子、基和/或化合物。优选的交联原子团例如可包含元素周期表的第IV族、第V族、第VI族的任意元素。优选的交联原子团例如可包含氧、氢、氮、硫、氨基、硫醇基、醚基、酯基和/或羧酸基和/或其他任意优选基团和/或它们的衍生物。较佳的交联原子团可包含含碳基团。

并且，如上述，作为另一个选项，或者其以外，富勒烯和/或富勒烯系分子还可以直接与碳纳米管共价键合。例如，富勒烯和/或富勒烯系分子可以经由一个或多个碳键而直接共价键合。

碳纳米管可包含单壁、双壁、或多壁碳纳米管、或复合碳纳米管。碳纳米管可在气体、液体和/或固体的分散体、固体结构体、粉末、浆料和/或胶体悬浮液中进行配合和/或析出于表面和/或进行合成。

富勒烯官能化碳纳米管可经由一个或多个富勒烯和/或富勒烯系分子与一个或多个碳纳米管和/或富勒烯官能化碳纳米管键合。换言之，例如，可经由共同的富勒烯分子使两个富勒烯官能化碳纳米管彼此附着。

(富勒烯官能化碳纳米管的制造方法)

作为一种或多种富勒烯官能化碳纳米管的制造方法，包含制造一种或多种碳纳米管的情况，该一种或多种碳纳米管包含使一种或多种催化剂粒子、碳源和/或试剂彼此接触，在反应器内加热而与一种或多种碳纳米管共价键合的一种或多种富勒烯和/或富勒烯系分子。

使一种或多种催化剂粒子、碳源和/或试剂彼此接触的步骤例如可通过使该些彼此接触的任意优选方法方法(例如，混合)来实施。该方法中，优选在反应器内实施。如此，制造一种或多种富勒烯官能化碳纳米管。

富勒烯官能化碳纳米管可在如气溶胶的气相中和/或基材上制造。而且，该方法为连续子工艺，或批量工艺，又或者可设为批量子工艺和连续子工艺的组合。

富勒烯官能化碳纳米管的制造中，可使用各种含碳物质来作为碳源。并且，还可使用形成碳源的含碳前体。碳源可选自包括一种或多种烷烃、烯烃、炔烃、醇、芳香族烃及任意其他优选组合、化合物或材料的组。并且，碳源例如可选自包括气体碳化合物(甲烷、乙烷、丙烷、乙烯、乙炔、一氧化碳等)、液体挥发性碳源(苯、甲苯、二甲苯、三甲苯、甲醇、乙醇、及辛醇等)及其他任意优选化合物和它们的衍生物的组。还使用噻吩来作为碳源。这些中，作为碳源而优选一氧化碳气体。

作为碳源可使用一种或多种。

使用碳前体的情况下，碳前体例如可使用已加热的细丝或等离子体来在反应器中的所希望的位置活性化。

一实施方式中，一种或多种碳源作为一种或多种催化剂粒子源、试剂、试剂前体和/或附加试剂而发挥作用。

碳源为5～10000ccm，优选为50～1000ccm，例如能够以约300ccm的比例导入到反应器中。利用该方法的各种材料(例如，碳源)的压力为0.1～1000Pa，优选为1～500Pa。

可将一种或多种试剂使用于富勒烯官能化碳纳米管的制造中。试剂可以为蚀刻剂。试剂可选自包括氢、氮、水、二氧化碳、一氧化二氮、二氧化氮及氧的组。而且，试剂例如可选自有机和/或无机含氧化合物(臭氧(O₃)等)及各种氢化物。该方法中所使用的一种或多种试剂可选自一氧化碳、辛醇和/或噻吩。

优选试剂(一种或多种)为水蒸气和/或二氧化碳。并且其他任意优选试剂也可用于基于本发明的方法中。还可使用其他试剂和/或试剂前体来作为碳源，相反的情况也相同。作为这种试剂的例子，例如为酮、醛、醇、酯和/或醚和/或其他任意优选化合物。

可将这些一种或多种试剂和/或试剂前体例如与碳源一同或分别导入反应器中。可将一种或多种试剂/试剂前体，以1～12000ppm、优选为100～2000ppm的浓度导入反应器中。

可对与碳纳米管共价键合的一种或多种富勒烯和/或富勒烯系分子的浓度进行调整。该调整可通过如下方式来进行，即通过对所使用的一种或多种试剂的量(例如，浓度)进行调整，通过调整加热温度，而且/或通过调整滞留时间来进行。调整可根据合成方法来进行。加热可通过250～2500℃的温度进行，优选可通过600～1000℃的温度进行。例如，将H₂O及CO₂用作试剂的情况下，可如下设定：试剂为水的情况下，试剂的浓度在45～245ppm之间，优选在125～185ppm之间，试剂为CO₂的情况下，试剂的浓度在2000～6000ppm之间，优选为约2500ppm。由此可将富勒烯密度设为比1富勒烯/nm更高。可发现在一种或多种试剂的特定浓度中也存在加热温度的最佳范围。

可使用对碳源的分解/歧化的过程进行催化的各种催化材料(催化剂粒子)。

所使用的催化剂粒子例如可以包含各种金属和/或非金属材料。优选的催化剂粒子包含一种金属，优选包含一种过渡金属和/或金属(多种)和/或过渡金属(多种)的组合。优选催化剂粒子包含鉄、钴、镍、铬、钼、钯和/或其他任意类似元素。催化剂粒子可从化学前体(例如，二茂铁)，例如通过二茂铁蒸汽的热分解而形成。催化剂粒子可通过对金属或含金属物质进行加热而制造。

可将催化剂粒子/催化剂前体，以10～10000ccm、优选为以50～1000ccm(例如，约100ccm)的比例导入反应器中。

基于本发明的方法中所使用的催化剂粒子可通过各种方法来制造。作为这种方法的例子，例如有催化剂前体的化学蒸汽分解(chemical vapor decomposition)、物理蒸汽核形成(physical vapor nucleation)。并且，作为其他方法，催化剂粒子例如可通过电喷雾、超声波喷雾、空气喷雾等，由液滴制造，或可使用热干燥及分解和/或任意其他可应用的方法和/或工艺和/或材料而制造，该液滴例如可由金属盐溶液和胶体状金属纳米粒子溶液制作。用于制造粒子的其他任意步骤，例如在喷嘴内的隔热膨胀、电弧放电和/或电喷雾系统也可使用于催化剂粒子的形成中。还可将热线发生器(hot wire generator)使用于催化剂粒子的制造中。根据本发明，为了产生金属蒸汽而可使用对含有金属的块体进行加热和/或使其蒸发的其他机构。

可预先合成催化剂粒子，然后可导入反应器。然而，通常在制造CBFFCNT时所需要的粒度范围的粒子很难操作和/或储存，因此作为制造工艺中的统合步骤而优选在反应器附近制造粒子。

可将气溶胶和/或表面负载的催化剂粒子使用于富勒烯官能化碳纳米管的制造中。可将催化剂粒子前体使用于催化剂粒子的制造中。

制造基材负载的富勒烯官能化碳纳米管的情况下，可直接在基材上制造催化剂粒子和/或可通过扩散、热泳(thermophoresis)、电泳、惯性碰撞和/或其他任意机构而从气相中析出。

催化剂粒子的化学制造方法的情况下，可使用金属有机化合物、有机金属化合物和/或无机化合物、例如，茂金属化合物、羰基化合物、螯合化合物和/或其他任意优选化合物来作为催化剂前体。

催化剂粒子的物理制造方法中，例如，利用电阻加热、感应加热、等离子体加热、传导加热或辐射加热、或化学反应等各种能源来使纯金属或该金属的合金蒸发(其中，所生成的催化剂蒸汽的浓度比释放位置中的核形成时所需要的电平低)，之后可通过过饱和蒸汽使进行核形成、冷凝和/或凝结。物理方法中，作为与催化剂粒子的形成有关的过饱和蒸汽的生成机构，例如有电阻加热的线周围的对流热传递、传导性热传递和/或辐射热传递和/或(例如，喷嘴内的)基于绝热膨胀的气体冷却。

催化剂粒子的热分解制造方法中，例如可使用各种金属和/或其他任意优选物质的硝酸盐、碳酸盐、氯化物和/或氟化物等无机盐。

本发明的方法可进一步包含导入一种或多种附加试剂的步骤。附加试剂在如下情况使用，即为了促进碳纳米管的形成，为了改变碳源的分解速度，为了於碳纳米管的制造中和/或制造后的无定形碳反应和/或为了与(例如，为了碳纳米管的提纯、掺杂和/或进一步官能化)碳纳米管反应而使用。可根据本发明而使用用于参与与催化剂粒子前体、催化剂粒子、碳源、无定形碳和/或碳纳米管(与一种或多种富勒烯和/或富勒烯系分子共价键合的化合物)的化学反应的附加试剂。一种或多种附加试剂可与碳源一同或分别导入。

作为基于本发明的CBFFCNT形成用促进剂(即，附加试剂)，可使用硫、磷和/或氮元素和/或该些化合物(噻吩、PH₃、NH₃等)等附加试剂。附加促进剂试剂可选自H₂O、CO₂、NO和/或任意其他优选元素和/或化合物。

提纯工序中，根据情况，例如有可能需要去除并不优选的无定形碳涂层和/或被封入CBFFCNT内的催化剂粒子。本发明中，可设置一个或多个被加热的个别反应器/反应器部分，一个反应器或反应器的一部分使用于CBFFCNT的制造中，剩余的(一个或多个)例如使用于进一步的提纯、进一步的官能化和/或掺杂。还可组合上述步骤。

作为用于去除无定形碳的化学物质，可使用任意的化合物、该化合物的衍生物和/或该化合物的分解生成物(反应器中，在原位形成)，但优选与无定形碳反应，而并非石墨化碳。作为这种试剂的例子，可使用一种或多种醇、酮、有机酸和/或无机酸。而且，可使用H₂O、CO₂和/或NO等的氧化剂。根据本，还可使用其他附加试剂。

一实施方式中，为了进一步使CBFFCNT官能化而可使用一种或多种附加试剂。根据附着于CBFFCNT的化学基团和/或纳米粒子，所制造的CBFFCNT的性质发生变化。作为例子，若通过硼、氮、锂、钠和/或钾元素而对CBFFCNT进行掺杂，则CBFFCNT的传导率发生变化。即，可得到具有超导性的CBFFCNT。若通过富勒烯来使碳纳米管官能化，则可通过所附着的富勒烯而可使碳纳米管进一步官能化。本发明中，在CBFFCNT的形成前、其形成中和/或其形成后适当地导入试剂，由此可在原位进行官能化和/或掺杂。

一实施方式中，一种或多种附加试剂可作为碳源、载气和/或催化剂粒子源而发挥作用。

一实施方式中，该方法进一步包括将一种或多种添加剂导入反应器来制造富勒烯官能化碳纳米管复合材料的步骤。例如，为了涂布所制造的CBFFCNT，和/或与CBFFCNT进行混合来制作CBFFCNT复合材料，可使用一种或多种添加剂。添加剂的目的为例如增大附着于基体的CBFFCNT的催化效率和/或控制基体的性质(硬度、刚性、化学反应性、光学特性和/或导热率和/或导电率和/或膨胀系数等)。作为CBFFCNT复合材料料用涂层或气溶胶化粒子添加剂，优选可使用一种或多种含金属材料和/或有机材料(聚合物等)和/或陶瓷、溶剂和/或该些气溶胶。根据本发明，还可使用其他任意优选添加剂。

所得到的复合材料例如可直接回收，并使其附着于基体和/或附着于表面上。这可通过电力、热泳(thermophoretic)力、惯性力、扩散力、湍流移动(turbophoretic)力、重力和/或其他优选力而进行，例如可形成厚膜或薄膜、丝、结构体和/或层状材料。通过添加一种或多种固体或液体和/或固体或液体粒子来涂布CBFFCNT，从而可构成CBFFCNT复合材料。

关于添加剂，例如通过过饱和蒸汽的冷凝、与已附着的层的化学反应、浓液剂和/或官能团和/或通过其他机构可作为表面涂层而附着于CBFFCNT上，或者添加剂为粒子的情况下，在气相中进行混合及使其凝聚，从而可作为表面涂层而附着于CBFFCNT上。而且，可组合针对CBFFCNT的气体及粒子附着。

一实施方式中，将上述位置导入反应器时，可根据需要使用一种或多种载气。在所希望的情况下，载气可作为碳源、催化剂粒子源、试剂源和/或附加试剂源而发挥作用。

一实施方式中，该方法可进一步包括回收作为固体、液体或气体的分散体(dispersion)、固体结构体、粉末、浆料、胶体悬浮液，和/或作为表面附着物而制造的一种或多种富勒烯官能化碳纳米管和/或富勒烯官能化碳纳米管复合材料料的步骤

一实施方式中，该方法进一步包括使所制造的富勒烯官能化碳纳米管和/或富勒烯官能化碳纳米管复合材料料的分散体、例如使气体分散体附着于表面上和/或基体和/或层状结构体和/或设备中的步骤。

通过各种机构(包括惯性碰撞、热泳和/或在电场内的移动，但并不限定于此)来控制所合成的材料的附着，从而可形成具有导电率和/或导热率、不透明度和/或机械强度、硬度和/或延展性等所希望的性质的所希望的形状(例如，丝、点、膜或三维结构体)。作为控制所合成的材料的附着的机构机构，进一步存在可形成具有导电率和/或导热率、不透明度和/或机械强度、硬度和/或延展性等所希望的性质的所希望的形状(例如，丝、点或膜)的、重力沉降、纤维及屏障过滤、惯性碰撞、热泳和/或在电场内的移动，但并不限定于此。

以下，对用于制造一种或多种富勒烯官能化碳纳米管的装置进行说明。该装置具备用于加热一种或多种催化剂粒子、碳源和/或试剂的反应器，该加热为了制造包含与一种或多种碳纳米管共价键合的一种或多种富勒烯和/或富勒烯系分子的一种或多种碳纳米管而进行。

所述装置可进一步具备催化剂粒子的制造机构、一种或多种催化剂粒子的导入机构、一种或多种催化剂粒子前体的导入机构、一种或多种碳源的导入机构、一种或多种碳源前体的导入机构、一种或多种试剂的导入机构，一种或多种试剂前体的导入机构、一种或多种附加试剂的导入机构、一种或多种添加剂的导入机构、所制造的一种或多种富勒烯官能化碳纳米管和/或富勒烯官能化碳纳米管复合材料料的回收机构、使所制造富勒烯官能化碳纳米管和/或碳纳米管复合材料料的分散体(例如，气体体分散体)附着的机构、催化剂粒子的制造机构和/或向反应器供给能源的机构中的一个或一个以上。为了将上述各种材料例如导入反应器和/或装置的其他任一部分而使用的机构例如可具备一个相同机构或各种机构。例如，本发明的一实施方式中，可使用一个相同机构来将一种或多种碳源及试剂导入反应器中。而且，装置可根据需要而在反应器内具备混合机构。

装置可具备一个或多个反应器，由此可连续制造和/或批量制造CBFFCNT、进一步被官能化的CBFFCNT、被掺杂的CBFFCNT和/或该些CBFFCNT的复合材料料。反关于应器的结构，设为串联和/或并联，由此可得到各种最终组合物。而且，反应器可通过完全批量步骤或部分批量步骤来操作。

反应器例如可具备管、例如包含陶瓷材料、铁、不锈钢和/或任意其他优选材料的管。本发明的一实施方式中，反应器的表面可通过包含如下材料而成，该材料为根据导入于反应器的(例如，上游)一种或多种试剂前体，将制造CBFFCNT时所需要的一种或多种试剂制造成催化剂的材料。

一实施方式中，管的内径例如为0.1～200cm，优选可设为1.5～3cm，管的长度例如为1～2000cm，优选可设为25～200cm。还可应用任意其他尺寸(例如，工业用途中所使用的尺寸)。

使用基于本发明的装置的情况下，反应器内的操作压力例如为0.1～10气压，优选可设为0.5～2气压(例如，约1气压)。而且，反应器内的温度为250～2500℃，例如可设为600～1000℃。

催化剂粒子的制造机构例如可具备预反应器(pre‐reactor)。该机构例如可具备热线发生器。装置可进一步具备用于制造催化剂粒子的其他任意优选机构。该机构可与反应器隔开间隔而分离。或者，还可设为组装于反应器的一部分。使用基于本发明的装置之情况下，可将催化剂粒子的制造机构例如放置于反应器温度为250～2500℃，优选成为350～900℃的位置。

一个优选实施方式中，例如，通过预反应器(例如，热线发生器)的流体优选为氢和氮的混合物，其中氢的比率优选为1％至99％的范围，更优选为5至50％的范围，最优选为大致7％。关于流量，例如，通过热线发生器的流量为1～10000ccm，优选可设为250～600ccm。

根据本发明，通过利用各种能源例如可促进和/或防止如下、即例如，化学反应和/或CBFFCNT合成。作为例子，有电阻、传导、辐射和/或原子能和/或通过化学反应加热的反应器和/或预反应器，但并不限定于此。还可将其他能源使用于反应器和/或预反应器。例如，可使用基于高频、微波、声音、激光的感应加热和/或其他任何能源(化学反应等)。

＜硬涂层＞

硬涂层为於上述导电层相邻配置的层，且具有防止导电层受损的功能。硬涂层相邻配置在上述导电层上。即，硬涂层与导电层相接。

通过形成硬涂层来提高导电性薄膜的铅笔硬度。实际使用时，优选层叠硬涂层后的铅笔硬度(JIS K5400)为H以上，更优选为2H以上，最优选为3H以上。

优选硬涂层的厚度为0.4～35μm，更优选为1～30μm，进一步优选为1.5～20μm。

硬涂层可以为一层，也可以为多层。硬涂层为多层的情况下，优选所有硬涂层的膜厚的合计在上述范围内。

并且，根据需要，且为了赋予表面凹凸或内部散射而可在硬涂层含有透光性粒子。

关于硬涂层的形成方法，并无特别限制，可采用公知的方法，通常可举出将包含规定成分的硬涂层形成用组合物涂布于导电层上，并根据需要实施固化处理(例如，加热处理和/或光照射处理)的方法。

关于硬涂层形成用组合物的形态，在后段中详细说明。

作为涂布方法，可采用公知的涂布方法。例如，凹版涂布、辊涂布、反向涂布、刀式涂布、铸模涂布、模唇涂布、刮刀涂布、挤压涂布、滑动式涂布、绕线棒涂布、帘式涂布、挤出涂布、旋涂等。

涂布硬涂层形成用组合物之后，根据需要，为了去除溶剂而可以对组合物的涂布层实施干燥处理。关于干燥处理的方法，并无特别限制，可举出风干处理或加热处理等。

关于使通过上述涂布而得到的组合物的涂布层聚合固化的方法，并无特别限制，可举出加热处理或光照射处理等。

加热处理的条件根据所使用的材料而不同，但从反应效率更加优异的方面考虑，优选以40～200℃(优选为50～150℃)处理0.5分钟～10分钟(优选为1分钟～5分钟)。

关于光照射处理的条件，并无特别限制，优选如产生紫外线并照射而光固化的紫外线照射法。作为使用于这种方法中的紫外线灯，例如可举出金属卤化物灯、高压汞灯、低压汞灯、脉冲氙灯、氙/汞混合汞灯、低压杀菌灯、无电极灯。在这些紫外线灯中，优选使用金属卤化物灯或高压汞灯。

并且，照射条件根据各自的灯的条件而不同，照射曝光量通常在20～10000mJ/cm²的范围内即可，优选在100～3000mJ/cm²的范围内。

另外，在上述优选条件的范围内，可以在变更条件的同时进行阶段性加热处理或光照射。并且，出于控制不易产生褶皱的薄膜温度的目的，可以在进行UV照射时控制所接触的辊的温度。

以下，对为了形成硬涂层而使用的硬涂层形成用组合物的优选实施方式进行详细说明。

[硬涂层形成用组合物(其1)]

本发明中，硬涂层可通过将具有不饱和双键的化合物、聚合引发剂、根据需要而含有透光性粒子、含氟或硅酮系化合物、溶剂的组合物直接或经由其他层而涂布于导电层上并进行干燥、固化而形成。

以下，对硬涂层形成用组合物(其1)中所包含的各成分进行说明。

(具有不饱和双键的化合物)

硬涂层形成用组合物可含有具有不饱和双键的化合物。具有不饱和双键的化合物可作为粘结剂而发挥作用，优选为具有两个以上的聚合性不饱和基的多官能单体。具有两个以上的聚合性不饱和基的多官能单体可作为固化剂而发挥作用，且可提高涂膜的强度或抗划伤性。更优选聚合性不饱和基为3个以上。该些单体可并用单官能或二官能单体和3官能以上的单体。

作为具有不饱和双键的化合物，可举出具有(甲基)丙烯酰基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等聚合性官能团的化合物，其中，优选(甲基)丙烯酰基及C(O)OCH＝CH₂。尤其优选可使用在下述一分子内含有3个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物。另外，“(甲基)丙烯酰基”为表示丙烯酰基或甲基丙烯酰基的标记，同样地，后述“(甲基)丙烯酸”为表示丙烯酸或甲基丙烯酸的标记，后述“(甲基)丙烯酸酯”为表示丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的标记。

作为具有聚合性不饱和键的化合物的具体例，可举出亚烷基二醇的(甲基)丙烯酸二酯类、聚亚氧烷基乙二醇(polyoxyalkylene glycol)的(甲基)丙烯酸二酯类、多元醇的(甲基)丙烯酸二酯类、环氧乙烯或环氧丙烷加成物的(甲基)丙烯酸二酯类、环氧(甲基)丙烯酸酯类、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯类、聚酯(甲基)丙烯酸酯类等。

这些中，优选多元醇与(甲基)丙烯酸的酯类。例如，可举出1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、PO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改性磷酸三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,2,3-环己烷四甲基丙烯酸酯、聚氨酯聚丙烯酸酯、聚酯聚丙烯酸酯、己内酯改性三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲等。

具有(甲基)丙烯酰基的多官能丙烯酸酯系化合物类还可使用市售的产品，可举出Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制NK酯A-TMMT、NIppon Kay aku Co.,Ltd.制KAYARAD DPHA等。关于多官能单体，记载于日本特开2009-98658号公报的[0114]～[0122]段中，本发明中也相同。

作为具有不饱和双键的化合物，从与导电层的密合性、低卷曲、后述含氟或硅酮系化合物的固定性方面考虑，优选为具有氢键合性取代基的化合物。氢键合性取代基是指由氮、氧、硫、卤素等的电负性较大的原子与氢键通过共价键合而结合的取代基，具体而言，可举出OH-、SH-、-NH-、CHO-、CHN-等，优选氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯类或具有羟基的(甲基)丙烯酸酯类。还可使用市售的具有(甲基)丙烯酰基的多官能丙烯酸酯，可举出Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制NK低聚U4HA、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制NK酯A-TMM-3、NIppon Kayaku Co.,Ltd.制KAYARAD PET-30等。

为了通过提供充分的聚合率来赋予硬度等，优选硬涂层形成用组合物中的具有不饱和双键的化合物的含量相对去除硬涂层形成用组合物中的无机成分的总固体成分为50质量％以上，更优选为60～99质量％，进一步优选为70～99质量％，尤其优选为80～99质量％。

还优选硬涂层形成用组合物中使用在分子内具有环状脂肪族烃和不饱和双键的化合物。通过使用这种化合物可对硬涂层赋予低透湿性。为了提高硬涂性，更优选使用在分子内具有两个以上的环状脂肪族烃和不饱和双键的化合物。

硬涂层形成用组合物含有在分子内具有环状脂肪族烃和不饱和双键的化合物的情况下，硬涂层形成用组合物中的具有不饱和双键的化合物中，优选在分子内具有环状脂肪族烃和不饱和双键的化合物为1～90质量％，更优选为2～80质量％，进一步优选为5～70质量％。

硬涂层形成用组合物含有在分子内具有环状脂肪族烃和不饱和双键的化合物的情况下，优选进一步含有5官能以上的(甲基)丙烯酸酯。

硬涂层形成用组合物进一步含有5官能以上的(甲基)丙烯酸酯的情况下，硬涂层形成用组合物中的具有不饱和双键的化合物中，优选5官能以上的(甲基)丙烯酸酯为1～70质量％，更优选为2～60质量％，尤其优选为5～50质量％。

(透光性粒子)

在硬涂层中含有透光性粒子，由此可向硬涂层表面赋予凹凸形状，或者赋予内部雾度(internal haze)。

作为可使用於硬涂层的透光性粒子，可举出聚甲基丙烯酸甲酯粒子(折射率1.49)、交联聚(丙烯酸-苯乙烯)共聚物粒子(折射率1.54)、三聚氰胺树脂粒子(折射率1.57)、聚碳酸酯粒子(折射率1.57)、聚苯乙烯粒子(折射率1.60)、交联聚苯乙烯粒子(折射率1.61)、聚氯乙烯粒子(折射率1.60)、苯并胍胺-三聚氰胺甲醛粒子(折射率1.68)、二氧化硅粒子(折射率1.46)、氧化铝粒子(折射率1.63)、氧化锆粒子、二氧化钛粒子或者中空或具有细孔的粒子等。

这些中，可优选使用交联聚((甲基)丙烯酸酯)粒子、交联聚(丙烯酸-苯乙烯)粒子，根据选自这些粒子中的各透光性粒子的折射率来调整粘结剂的折射率，由此可实现适合于硬涂层的表面凹凸、表面雾度、内部雾度、总雾度。优选粘结剂(透光性树脂)的折射率为1.45～1.70，更优选为1.48～1.65。

并且，透光性粒子与硬涂层的粘结剂的折射率之差(“透光性粒子的折射率”-“去除透光性粒子的硬涂层的折射率”)作为绝对值，优选小于0.05，更优选为0.001～0.030，进一步优选为0.001～0.020。若将硬涂层中的透光性粒子与粘结剂的折射率之差设为小于0.05，则基于透光性粒子的光的折射角度变小，散射光不会扩散至广角，且不存在恶化作用，因此优选。

为了实现上述粒子与粘结剂的折射率差，可以调节透光性粒子的折射率，也可以调节粘结剂的折射率。

作为优选的第1方式，优选组合使用以3官能以上的(甲基)丙烯酸酯单体为主成分的粘结剂(固化后的折射率为1.50～1.53)和丙烯酸含率为50～100质量比的包含交联聚(甲基)丙烯酸酯/苯乙烯聚合物的透光性粒子。对低折射率的丙烯酸成分和高折射率的苯乙烯成分的组成比进行调节，由此可轻松地将透光性粒子与粘结剂的折射率差设为小于0.05。优选丙烯酸成分与苯乙烯成分的比率以质量比为50/50～100/0，更优选为60/40～100/0，最优选为65/35～90/10。作为包含交联聚(甲基)丙烯酸酯/苯乙烯聚合物的透光性粒子的折射率，优选为1.49～1.55，更优选为1.50～1.54，最优选为1.51～1.53。

作为优选的第2方式，相对以3官能以上的(甲基)丙烯酸酯单体为主成分的粘结剂并用平均粒子尺寸为1～100nm的无机微粒子，由此调节单体与包含无机微粒子的粘结剂的折射率，并调节与现有的透光性粒子的折射率差。无机粒子为选自硅、锆、钛、铝、铟、锌、锡、锑中的至少一种金属的氧化物，作为具体例，可举出SiO₂、ZrO₂、TiO₂、Al₂O₃、In₂O₃、ZnO、SnO₂、Sb₂O₃、ITO等。优选可举出SiO₂、ZrO₂、Al₂O₃等。这些无机粒子可在相对单体的总量为1～90质量％的范围内进行混合而使用，优选为5～65质量％。

在此，去除透光性粒子的硬涂层的折射率可通过阿贝折射仪直接测定，或可通过的顶部分光反射光谱或分光椭偏仪等而进行定量评价。透光性粒子的折射率可通过如下方式来测定，即将透光性粒子以等量分散于通过改变折射率不同的两种溶剂的混合比而改变折射率的溶剂中来测定浑浊度，利用阿贝折射仪测定浑浊度变为极小时的溶剂的折射率。

优选透光性粒子的平均粒径为1.0～12μm，更优选为3.0～12μm，进一步优选为4.0～10.0μm，最优选为4.5～8μm。将折射率差及粒子尺寸设定在上述范围内，由此光的散射角度分布不会扩散至广角，且很难引起显示器的文字模糊、对比度降低。从无需将所添加的层的膜厚设为较厚，且很难产生如卷曲或成本上升的问题的方面考虑，优选为12μm以下。从抑制涂敷时的涂布量，干燥迅速，且很难产生干燥不均等的面状缺陷的方面考虑，优选进一步设定在上述范围内。

若透光性粒子的平均粒径的测定方法为测定粒子的平均粒径的测定方法，则可应用任意测定方法，优选以透射型电子显微镜(倍率50万～200万倍)观察粒子，且观察100个粒子并求出其平均值，且可将该平均值作为平均粒径。

关于透光性粒子的形状，并无特别限定，除了圆球状粒子，还可以并用其他形状的粒子(例如，非圆球状粒子)等形状不同的透光性粒子。尤其若将非圆球状粒子的短轴沿硬涂层的法线方向对齐，则与圆球粒子相比，可使用粒径较小的粒子。

优选以硬涂层总固体成分中含有0.1～40质量％的方式配合透光性粒子。更优选为1～30质量％，进一步优选为1～20质量％。通过将透光性粒子的配合比设定在上述范围内，可将内部雾度控制在优选范围内。

并且，优选透光性粒子的涂布量为10～2500mg/m²，更优选为30～2000mg/m²，进一步优选为100～1500mg/m²。

作为透光性粒子的制造方法，可举出悬浮聚合法、乳化聚合法、无皂乳化聚合法、分散聚合法、种子聚合法等，可以通过任意方法来制造。这些制造法例如可参考“高分子合成的实验法”(大津隆行、木下雅悦共著，Kagaku-Dojin Publishing Company,INC.)130页及146页至147页的记载、“合成高分子”1卷、p.246～290、“合成高分子”3卷、p.1～108等中所记载的方法、及日本专利第2543503号明细书、日本专利第3508304号明细书、日本专利第2746275号明细书、日本专利第3521560号明细书、日本专利第3580320号明细书、日本特开平10-1561号公报、日本特开平7-2908号公报、日本特开平5-297506号公报、日本特开2002-145919号公报等中所记载的方法。

从雾度值的扩散性的控制、涂布面状的均匀性考虑，优选透光性粒子的粒度分布为单分散性粒子。优选表示粒径的均匀度的CV值为15％以下，更优选为13％以下，进一步优选为10％以下。而且将粒径比平均粒径大20％以上的粒子规定为粗大粒子的情况下，优选该粗大粒子的比例为总粒子数的1％以下，更优选为0.1％以下，进一步优选为0.01％以下。制备具有这种粒度分布的粒子或对其进行合成反应后，进行分级的情况也为有效方法，提高分级的次数或强化该程度，由此可得到以所希望的的方式分布的粒子。

优选分级时可使用风力分级法、离心分级法、沉淀分级法、过滤分级法、静电分级法等的方法。

(光聚合引发剂)

优选硬涂层形成用组合物中含有光聚合引发剂。

从如下理由考虑，优选硬涂层形成用组合物中的光聚合引发剂的含量相对硬涂层形成用组合物中的总固体成分为0.5～8质量％，更优选为1～5质量％，即将量设定为可充分聚合硬涂层形成用组合物中所包含的可聚合化合物，并且设定为充分少，以免起点过度增加。

(紫外线吸收剂)

导电性薄膜可使用于带触摸面板的显示装置的部件等，从防止液晶等劣化的观点考虑，硬涂层中以不阻碍UV固化的范围含有紫外线吸收剂，由此可对导电性薄膜赋予紫外线吸收性。

(溶剂)

硬涂层形成用组合物可含有溶剂。作为溶剂，考虑到单体的溶解性、透光性粒子的分散性、涂敷时的干燥性等，可使用各种溶剂。作为有机溶剂，例如可举出二丁醚、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、环氧丙烷、1,4-二噁烷、1,3-二氧戊环、1,3,5-三噁烷、四氢呋喃、茴香醚、苯乙醚、碳酸二甲酯、碳酸甲基乙基、碳酸二乙酯、丙酮、甲基乙基酮(MEK)、二乙基酮、二丙基酮、二异丁基酮、环戊酮、环己酮、甲基环己酮、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、γ-丁内酯、2-甲氧基乙酸甲酯、2-乙氧基乙酸甲酯、2-乙氧基乙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-甲氧基乙醇、2-丙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、1,2-二乙酰氧基丙酮、乙酰丙酮、二丙酮醇、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯等甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、环己醇、乙酸异丁酯、甲基异丁基酮(MIBK)、2-辛酮、2-戊酮、2-己酮、乙二醇乙基醚、乙二醇异丙醚、乙二醇丁基醚、丙二醇甲基醚、乙基卡必醇、丁基卡必醇、己烷、庚烷、辛烷、环己烷、甲基环己烷、乙基环己烷、苯、甲苯、二甲苯等，可单独使用或组合两种以上来使用。

优选以硬涂层形成用组合物的固体成分浓度成为20～80质量％的范围的方式使用溶剂，更优选为30～75质量％，进一步优选为40～70质量％。

[硬涂层形成用组合物(其2)]

接着，对使用于抗静电反射防止薄膜的(抗静电性)硬涂层形成用组合物进行说明。

以下，对硬涂层形成用组合物(其2)中所包含的各种成分进行详细说明。

(具有季铵盐基团的化合物)

本硬涂层形成用组合物含有具有季铵盐基团的化合物。

作为具有季铵盐基团的化合物，可使用低分子型或高分子型的任意一个，但由于不会因渗漏等而改变抗静电性，因此更优选使用高分子型阳离子化合物。

作为具有高分子型季铵盐基团的阳离子化合物，可适当从公知化合物中选择并使用，从离子传导性较高的观点考虑，优选为含季铵盐基团的聚合物，优选为具有以下述通式(I)～通式(III)表示的结构单元的至少一个单元的聚合物。

[化学式1]

通式(I)

通式(I)中，R₁表示氢原子、烷基、卤素原子或CH₂COO^-M⁺。Y表示氢原子或COO^-M⁺。M⁺表示质子或阳离子。L表示-CONH-、-COO-、-CO-或-O-。J表示亚烷基、亚芳基、或将它们进行组合而成的基团。Q表示选自下述组A的基团。

[化学式2]

式中，R₂、R₂’及R₂”分别独立地表示烷基。J表示亚烷基、亚芳基、或将它们进行组合而成的基团。X^-表示阴离子。p及q分别独立地表示0或1。

[化学式3]

通式(II)

[化学式4]

通式(III)

通式(II)中，R₃、R₄、R₅及R₆分别独立地表示烷基，R₃与R₄及R₅与R₆可以分别彼此键合而形成含氮杂环。

通式(II)中的A和B、及通式(III)中的D分别独立地表示亚烷基、亚芳基、亚烯基、亚芳基亚烷基、-R₇COR₈-、-R₉COOR₁₀OCOR₁₁-、-R₁₂OCR₁₃COOR₁₄-、-R₁₅-(OR₁₆)_m-、-R₁₇CONHR₁₈NHCOR₁₉-、-R₂₀OCONHR₂₁NHCOR₂₂-或-R₂₃NHCONHR₂₄NHCONHR₂₅-。

通式(III)中的E表示单键、亚烷基、亚芳基、亚烯基、亚芳基亚烷基、-R₇COR₈-、-R₉COOR₁₀OCOR₁₁-、-R₁₂OCR₁₃COOR₁₄-、-R₁₅-(OR₁₆)_m-、-R₁₇CONHR₁₈NHCOR₁₉-、-R₂₀OCONHR₂₁NHCOR₂₂-、-R₂₃NHCONHR₂₄NHCONHR₂₅-或-NHCOR₂₆CONH-。R₇、R₈、R₉、R₁₁、R₁₂、R₁₄、R₁₅、R₁₆、R₁₇、R₁₉、R₂₀、R₂₂、R₂₃、R₂₅及R₂₆表示亚烷基。R₁₀、R₁₃、R₁₈、R₂₁及R₂₄分别独立地表示选自亚烷基、亚烯基、亚芳基、亚芳基亚烷基及亚烷基亚芳基的连接基。m表示1～4的正整数。

X^‐表示阴离子。

Z₁、Z₂表示与-N＝C-基一同形成5元或6元环时所需的非金属原子团，且可以以成为≡N⁺[X^-]-的季铵盐的形状与E连结。

n表示5～300的整数。

对通式(I)～通式(III)的基团进行说明。

作为卤素原子，可举出氯原子、溴原子，优选为氯原子。

优选烷基为碳原子数1～4的支链或直链烷基，更优选为甲基、乙基、丙基。

优选亚烯基为碳原子数1～12的亚烯基，更优选为亚甲基、乙烯基、丙烯基，尤其优选为乙烯基。

优选亚芳基为碳原子数6～15的亚芳基，更优选为亚苯基、二亚苯基、苯基亚甲基、苯基二亚甲基、亚萘基，尤其优选为苯基亚甲基。这些基团可以具有取代基。

优选亚烯基为碳原子数2～10的亚烷基，优选为亚芳基亚烷基为碳原子数6～12的亚芳基亚烷基。这些基团可以具有取代基。

作为可以被各基团取代的取代基，可举出甲基、乙基、丙基等。

通式(I)中，优选R₁为氢原子或甲基。

优选Y为氢原子。

优选L为-COO-。

优选J为苯基亚甲基、亚甲基、乙烯基、丙烯基。

Q为以下述通式(VI)表示的基团，R₂、R₂’及R₂”分别为甲基。

作为X^-，可举出卤素离子、磺酸阴离子、羧酸阴离子等，优选为卤素离子，更优选为氯离子。

优选p及q为0或1，更优选p＝1、q＝1。

[化学式5]

通式(VI)

通式(II)中，优选R₃、R₄、R₅及R₆为碳原子数1～4的取代或未取代的烷基，更优选为甲基、乙基，尤其优选为甲基。

优选通式(II)中的A和B、及通式(III)中的D分别独立地表示碳原子数2～10的取代或未取代的亚烷基、亚芳基、亚烯基、亚芳基亚烷基，优选为苯基二亚甲基。

作为X^-，可举出卤素离子、磺酸阴离子、羧酸阴离子等，优选为卤素离子，更优选为氯离子。

优选E表示单键、亚烷基、亚芳基、亚烯基、亚芳基亚烷基。

Z1、Z2作为与-N＝C-基一同形成的5元或6元环，可例示二氮鎓双环辛烷环等。

以下，举出具有以通式(I)～通式(III)表示的结构单元的化合物的具体例，但本发明并不限定于此。另外，下述具体例中的下标(m、x、y、r及实际数值)中，m表示各单元的重复单元数，x、y、r表示各个单元的摩尔比。

[化学式6]

[化学式7]

[化学式8]

[化学式9]

[化学式10]

上述例示的导电性化合物可以单独使用，也可并用两种以上的化合物。并且，抗静电剂的分子内具有聚合性基团的抗静电化合物可提高抗静电层的抗划伤性(膜强度)，因此优选。

作为具有季铵盐基团的化合物，可使用市售品，例如可举出产品名“LIGHT ESTER DQ-100”(Kyoeisha chemical Co.,Ltd.制)、产品名“Lioduras LAS-1211”(TOYO INK CO.,LTD.制)、产品名“紫光UV-AS-102”(Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.制)、「NK低聚U-601、201」(Shin-Naka mura Chemical Co,Ltd.制)等。

除了以上述通式(I)～通式(III)表示的结构单元(离子性结构单元)以外，含季铵盐基团聚合物还可以具有其他结构单元(重复单元)。具有季铵盐基团的化合物具有离子性结构单元以外的结构单元，由此可提高制造组合物时针对溶剂的溶解性、与具有不饱和双键的化合物或光聚合引发剂的相溶性。

作为为了导入以上述(I)～(III)表示的结构单元以外的结构单元而使用的重合性化合物，并无特别限定，可举出选自如下化合物的聚合性化合物及其组合，即聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇-丙二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇-四亚甲基二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚(丙二醇-四亚甲基二醇)单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单甲醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单丁醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单辛醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单苄醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单苯醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单癸醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单十二烷基醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单十四烷基醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单十六烷基醚、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯单十八烷基醚、聚(乙二醇-丙二醇)单(甲基)丙烯酸酯辛基醚、聚(乙二醇-丙二醇)单(甲基)丙烯酸酯十八烷基醚、聚(乙二醇-丙二醇)单(甲基)丙烯酸酯壬基苯基醚等具有环氧烷链的化合物；(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、十二烷基(甲基)丙烯酸酯、十八烷基(甲基)丙烯酸酯等烷基(甲基)丙烯酸酯；羟乙基(甲基)丙烯酸酯、羟丙基(甲基)丙烯酸酯、羟丁基(甲基)丙烯酸酯等羟基烷基(甲基)丙烯酸酯；苄基(甲基)丙烯酸酯、环己基(甲基)丙烯酸酯、异冰片(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯基(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯基氧乙基(甲基)丙烯酸酯、乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、丁氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、氰基乙基(甲基)丙烯酸酯、缩水甘油基(甲基)丙烯酸酯等各种(甲基)丙烯酸酯或苯乙烯、甲基苯乙烯等。

从可充分赋予抗静电性且很难减损膜硬度的观点考虑，优选硬涂层形成用组合物中的具有季铵盐基团的化合物含量相对硬涂层形成用组合物中的总固体成分为1～30质量％，更优选为3～20质量％，进一步优选为5～15质量％。

(具有不饱和双键的化合物)

硬涂层形成用组合物中可含有具有不饱和双键的化合物。作为具有不饱和双键的化合物，与通过上述“硬涂层形成用组合物(其1)”进行说明的化合物定义相同。

为了通过给予充分的聚合率来赋予硬度等，优选硬涂层形成用组合物中的具有不饱和双键的化合物的含量相对硬涂层形成用组合物中的总固体成分为40～98质量％，更优选为60～95质量％。

(光聚合引发剂)

硬涂层形成用组合物可含有光聚合引发剂。

作为光聚合引发剂，可举出苯乙酮类、苯偶姻类、二苯甲酮类、氧化膦类、缩酮类、蒽醌类、噻吨酮类、偶氮化合物、过氧化物类、2,3-二烷基二酮化合物类、二硫化合物类、氟代胺化合物类、芳香族硫鎓类、洛粉碱二聚体类、鎓盐类、硼酸盐类、活性酯类、活性卤素类、无机络合物、香豆素类等。光聚合引发剂的具体例、及优选方式、市售品等记载于日本特开2009-098658号公报的[0133]～[0151]段中，同样地在本发明中也可较佳地使用。

“最新UV固化技术”{Technical Information Institute Co.,Ltd.}(1991年)、p.159、及“紫外线固化系统”加藤清视著(平成元年、综合技术中心发行)、p.65～148中也记载有各种例子，其在本发明中也有用。

从如下理由考虑，优选硬涂层形成用组合物中的光聚合引发剂的含量相对硬涂层形成用组合物中的总固体成分为0.5～8质量％，更优选为1～5质量％，即将量设定为可充分聚合硬涂层形成用组合物中所包含的可聚合化合物，并且设定为充分少，以免起点过度增加。

(溶剂)

硬涂层形成用组合物可以含有各种有机溶剂。

本发明中，从得到与离子导电性化合物的相溶性的观点考虑，优选含有亲水性溶剂。作为亲水性溶剂，可举出醇系溶剂、碳酸酯系溶剂、酯系溶剂等，例如可举出甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、环己醇、2-乙基-1-己醇、2-甲基-1-己醇、2-甲氧基乙醇、2-丙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、二丙酮醇、二甲基碳酸酯、二乙基碳酸酯、二异丙基碳酸酯、甲基乙基碳酸酯、甲基正丙基碳酸酯、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、2-甲氧基乙酸甲酯、2-乙氧基乙酸甲酯、2-乙氧基乙酸乙酯、丙酮、1,2-二乙酰氧基丙酮、乙酰丙酮等，可以单独使用一种，也可组合使用两种以上。

并且，还可以使用上述以外的溶剂。例如，可举出醚系溶剂、酮系溶剂、脂肪族烃系溶剂、芳香族烃系溶剂等。例如，可举出二丁醚、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、环氧丙烷、1,4-二噁烷、1,3-二氧戊环、1,3,5-三噁烷、四氢呋喃、茴香醚、苯乙醚、甲基乙基酮(MEK)、二乙基酮、二丙基酮、二异丁基酮、环戊酮、环己酮、甲基环己酮、甲基异丁基酮、2-辛酮、2-戊酮、2-己酮、乙二醇乙基醚、乙二醇异丙醚、乙二醇丁基醚、丙二醇甲基醚、乙基卡必醇、丁基卡必醇、己烷、庚烷、辛烷、环己烷、甲基环己烷、乙基环己烷、苯、甲苯、二甲苯等，可以单独使用一种，也可组合使用两种以上。

优选以硬涂层形成用组合物中的固体成分浓度成为20～80质量％的范围的方式使用溶剂，更优选为30～75质量％，最优选为40～70质量％。

(表面活性剂)

还优选在硬涂层形成用组合物中使用各种表面活性剂。通常表面活性剂可抑制因基于干燥风的局部分布的干燥不均而引起的膜厚不均等，或者可改善抗静电层的表面凹凸或涂布物的凹陷。而且，通过提高抗静电化合物的分散性，有时可显示更稳定且较高的导电性，因此优选。

作为表面活性剂，具体而言优选氟系表面活性剂、或硅酮系表面活性剂。并且，作为表面活性剂，与低分子化合物相比更优选为低聚物或聚合物。

若添加表面活性剂，则表面活性剂迅速移动至所涂布的液膜表面而偏在化，表面活性剂在膜干燥后直接偏在于表面，因此添加有表面活性剂的硬涂层的表面能因表面活性剂而降低。从防止硬涂层的膜厚不均匀性或凹陷、不均的观点考虑，优选膜的表面能较低。

作为氟系表面活性剂，尤其从防止由凹陷、不均等引起的点缺陷的观点考虑，优选含氟代脂肪族基共聚物，该含氟代脂肪族基共聚物包含源自含有以下述通式(F1)表示的氟代脂肪族基的单体的重复单元和包含源自并不包含以下述通式(F2)表示的氟代脂肪族基的单体的重复单元。

通式(F1)

[化学式11]

(式中，R⁰表示氢原子、卤素原子、或甲基。L表示2价连接基。n表示1以上且18以下的整数。)

通式(F2)

[化学式12]

(式中，R¹表示氢原子、卤素原子、或甲基。L¹表示2价连接基。Y表示可以具有取代基的碳原子数为1～20的直链、支链或环状烷基、或者可以具有取代基的芳香族基。)

优选含有以通式(F1)表示的氟代脂肪族基的单体为含有以下述通式(F1-1)表示的氟代脂肪族基的单体。

通式(F1-1)

[化学式13]

(式中，R¹表示氢原子、卤素原子、或甲基。X表示氧原子、硫原子或-N(R²)-。m表示1以上且6以下的整数。n表示1以上且18以下的整数。R²表示可以具有氢原子或取代基的碳原子数1～8的烷基。)

关于上述含氟代脂肪族基共聚物的优选方式、及具体例，记载于日本特开2007-102206号公报的[0023]～[0080]段中，在本发明中也相同。

作为硅酮系表面活性剂的优选例子，可举出作为重复单元而包含多个二甲基硅氧基单元且在化合物链的末端和/或侧链具有取代基的化合物。作为重复单元而包含二甲基硅氧基的化合物链中还可以含有二甲基硅氧基以外的结构单元。取代基可以相同，也可以不同，优选为多个。作为优选的取代基的例子，可举出包含聚醚基、烷基、芳基、芳氧基、芳基、肉桂酰基、氧杂环丁基、氟代烷基、聚氧化烯基等的基团。

关于分子量，并无特别限制，优选为10万以下，更优选为5万以下，尤其优选为1000～30000，最优选为1000～20000。

作为优选的硅酮系化合物的例子，可举出Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制“X-22-174DX”、“X-22-2426”、““X22-164C”、“X-22-176D”(以上为产品名)；CHISSO CORPORATION制“FM-7725”、“FM-5521”、“FM-6621”(以上为产品名)；Gelest,Inc制“DMS-U22”、“RMS-033”(以上为产品名)；Dow Corning Toray Co.,Ltd.制“SH200”、“DC11PA”、“ST80PA”、“L7604”、“FZ-2105”、“L-7604”、“Y-7006”、“SS-2801”(以上为产品名)；Momentive Performance Mate rials Inc.制“TSF400”(产品名)等，但并不限定于此。

优选表面活性剂在硬涂层形成用组合物的总固体成分中含有0.01～0.5质量％，更优选为0.01～0.3质量％。

另外，除了上述硬涂层形成用组合物(其1)及硬涂层形成用组合物(其2)以外，例如还可以使用日本特开2012-78528号公报的感光性组合物来作为上述硬涂层形成用组合物。

＜导电性薄膜及其用途＞

本发明的导电性薄膜具有上述支撑体、导电层、及硬涂层。

关于导电性薄膜的表面电阻值，并无特别限制，从导电性更加优异的方面考虑，优选为10～150Ω/□，更优选为10～100Ω/□。

表面电阻值为利用Mitsubishi Chemical Corporation Loresta-GP(MCP-T600)，通过四探针法并依据JIS K 7194进行测定的值。

另外，如上述，优选导电性薄膜中不存在褶皱。在透射光、反射光的环境下，通过肉眼观察形成硬涂层之后的导电性薄膜，若为无法观察到的等级，则在实际使用中并不构成问题。很难以定量表示实际使用中不构成问题的范围，例如可举出利用非接触式激光位移计(KEYENCE CORPORATION制LK-G5000)来测定表面和背面的膜厚的方法。即，从任意规定点沿导电性薄膜的宽度方向以100mm以上的长度分别对表面和背面这两个面进行测定，并求出凹凸平均周期(例如，凹部之间的距离)。优选周期为100μ以下，更优选为50μ以下，最优选为10μm以下。

导电性薄膜可应用于各种用途，例如可举出触摸面板用(或触摸面板传感器用)等。

[偏振片]

本发明的偏振片为具有上述本发明的导电性薄膜和偏振器的偏振片。

在此，关于上述导电性薄膜中的与偏振器的贴合面，并无特别限制，可以位于导电层侧，也可以位于支撑体侧。并且，出于控制成适宜粘结的表面能的目的，可以在进行电晕处理等公知的表面处理之后进行粘结。例如，作为支撑体而使用纤维素酰化物，对支撑体侧与偏振器进行粘结的情况下，可以在对纤维素酰化物的表面进行皂化处理之后进行粘结。

以下，对所使用的偏振器进行详细说明。

偏振器为具有将光转换为特定的直线偏针光的功能的部件即可，可利用吸收型偏振器及反射型偏振器。

作为吸收型偏振器，可使用碘系偏振器、利用二色性染料的染料系偏振器、及多烯系偏振器等。作为碘系偏振器及染料系偏振器，有涂布型偏振器和拉伸型偏振器，该些均可应用，但优选将碘或二色性染料吸附于聚乙烯醇，且通过拉伸而制作的偏振器。

并且，作为在基材上形成聚乙烯醇层的层叠薄膜的状态下，通过实施拉伸及染色而得到偏振器的方法，可举出日本专利第5048120号公报、日本专利第5143918号公报、日本专利第5048120号公报、日本专利第4691205号公报、日本专利第4751481号公报、日本专利第4751486号公报，还可较佳地利用有关这些偏振器的公知的技术。

作为反射型偏振器，可使用层叠有双折射不同的薄膜的偏振器、线栅格型偏振器、组合具有选自反射区的胆甾醇型液晶和1/4波长板的偏振器等。

这些中，从与后述导电层的密合性更加优异的方面考虑，优选为包含聚乙烯醇系树脂(尤其，选自包括聚乙烯醇及乙撑-乙烯醇共聚物的组中的至少一种)偏振器。

关于偏振器的厚度，并无特别限制，从显示装置的薄型化方面考虑，优选为35μm以下，更优选为3～30μm，进一步优选为5～30μm。

另外，上述厚度为平均值，且为对偏振器的任意10处的厚度进行测定，并对其进行算术平均的值。

(触摸面板用途)

以下，对将导电性薄膜应用于触摸面板的情况的优选方式进行详细说明。

上述导电性薄膜可较佳地使用于触摸面板(优选为静电电容式触摸面板)。更具体而言，可作为构成触摸面板的部件来应用，导电层可较佳地应用于感知静电电容的变化的检测电极(传感器电极)或用于对检测电极施加电压的引出配线(周边配线)等。

[带触摸面板的显示装置]

本发明的带触摸面板的显示装置为具有上述本发明的导电性薄膜的带触摸面板的显示装置。

(第1实施方式)

以下，结合图1对应用本发明的导电性薄膜的带触摸面板的显示装置的第1实施方式进行说明。图1为表示本发明的带触摸面板的显示装置的一例的示意剖视图。另外，图1为便于理解带触摸面板的显示装置的层结构而示意性表示的图，而并非正确表示各层的配置的附图。

如图1所例示，本发明的带触摸面板的显示装置10依次具有保护基板12、上部粘合层14、第1硬涂层16A、第1触摸面板用导电层18A、支撑体20、第2触摸面板用导电层18B、第2硬涂层16B、下部粘合层22、及显示装置24。第1硬涂层16A、第1触摸面板用导电层18A、支撑体20、第2触摸面板用导电层18B、及第2硬涂层16B构成导电性薄膜26。并且，保护基板12、上部粘合层14、导电性薄膜26、下部粘合层22构成静电电容式触摸面板28。如后述，第1触摸面板用导电层18A及第2触摸面板用导电层18B包含上述导电层，该导电层包含富勒烯官能化碳纳米管。即，上述导电性薄膜26相当于本发明的导电性薄膜。

另外，该带触摸面板的显示装置10中，若手指接近、接触到保护基板12表面(触摸面)，则手指与导电性薄膜26中的检测电极之间的静电电容发生变化。在此，未图示的位置检测驱动器一直检测手指与检测电极之间的静电电容的变化。该位置检测驱动器在检测到规定值以上的静电电容的变化时，将检测到静电电容的变化的位置作为输入位置而进行检测。如此，带触摸面板的显示装置10可检测出输入位置。

以下，对触摸面板中所包含的各部件进行详细说明。首先，对导电性薄膜26进行详细说明。

图2中示出导电性薄膜26的俯视图。图3为沿图2中的切割线A-A进行切割的剖视图。

导电性薄膜26具有支撑体20、配置在支撑体20的一个主面上(表面上)的第1触摸面板用导电层18A、第1硬涂层16A、配置在支撑体20另一主面上(背面上)的第2触摸面板用导电层18B、第2硬涂层16B、及挠性印刷配线板38，并作为触摸面板传感器而发挥作用。第1触摸面板用导电层18A具有第1检测电极30及第1引出配线32，第2触摸面板用导电层18B具有第2检测电极34及第2引出配线36。

第1检测电极30、第1引出配线32、第2检测电极34、及第2引出配线36包含富勒烯官能化碳纳米管。即，第1检测电极30、第1引出配线32、第2检测电极34、及第2引出配线36相当于上述导电层。另外，本发明并不限定于该方式，可以仅第1检测电极30及第2检测电极34为上述导电层，该导电层包含富勒烯官能化碳纳米管。

并且，第1硬涂层16A及第2硬涂层16B相当于本发明的导电性薄膜中所包含的硬涂层，该方式与上述相同。

另外，第1检测电极30及第2检测电极34所在的区域构成可通过操作者进行输入操作的输入区域E_I(可检测到与物体接触的输入区域(感测部))，位于输入区域E_I的外侧的外侧区域E_O中配置有第1引出配线32、第2引出配线36及挠性印刷配线板38。

第1检测电极30及第2检测电极34为感知静电电容的变化的感测电极，并构成感知部(感测部)。即，若指尖接触到触摸面板，则第1检测电极30及第2检测电极34之间的相互静电电容发生变化，根据该变化量并通过IC电路来运算指尖的位置。

第1检测电极30具有检测接近输入区域E_I的操作者手指的X方向上的输入位置的作用，并具有在与手指之间产生静电电容的功能。第1检测电极30为沿第1方向(X方向)拉伸，并沿与第1方向正交的第2方向(Y方向)隔开规定间隔而排列的电极。

第2检测电极34具有检测接近输入区域E_I的操作者手指的Y方向上的输入位置的作用，并具有在与手指之间产生静电电容的功能。第2检测电极34为沿第2方向(Y方向)拉伸，并沿第1方向(X方向)隔开规定间隔而排列的电极。图2中，设置有5个第1检测电极30、5个第2检测电极34，但关于其数量并无特别限制，为多个即可。

第1引出配线32及第2引出配线36为发挥用于分别对第1检测电极30及第2检测电极34施加电压的作用的部件。

第1引出配线32配置在外侧区域E_O的支撑体20上，其一端与相对应的第1检测电极30电连接，其另一端与挠性印刷配线板38电连接。

第2引出配线36配置在外侧区域E_O的支撑体20上，其一端与相对应的第2检测电极34电连接，其另一端与挠性印刷配线板38电连接。

另外，图2中，记载有5个第1引出配线32、5个第2引出配线36，但关于其数量并无特别限制，通常根据检测电极的数量而配置多个。

挠性印刷配线板38为在基板上设有多个配线及端子的板，与各第1引出配线32的另一端及各第2引出配线36的另一端连接，并发挥将导电性薄膜26与外部装置(例如，显示装置)进行连接的作用。

保护基板12为配置在上部粘合层14上的基板，其发挥从外部环境中保护后述导电性薄膜26和显示装置24的作用，并且其主面构成触摸面。作为保护基板，优选为透明基板，可使用塑料板(塑料薄膜)、玻璃板等。优选基板的厚度可根据各种用途而适当选择。

并且，作为保护基板12，可以使用偏振片、圆偏振片等，也可以组合使用多个基板(例如，玻璃板和偏振片)。

显示装置24为具有显示图像的显示面的装置，在显示画面侧配置有各部件(例如，下部粘合层22)。另外，显示装置中包含构成装置的各种部件(例如，偏振片、滤色器、液晶单元、TFT Backplane、背光源等)。

关于显示装置24的种类，并无特别限制，可使用公知的显示装置。例如，阴极射线管(Cathode Ray Tube：CRT)显示装置、液晶显示装置(Liquid Crystal Display：LCD)、有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode：OLED)显示装置、真空荧光显示器(Vacuum Fluorescent Display：VFD)、等离子体显示面板(Plasma Display Panel：PDP)、表面传导电子发射显示器(Surface-conduction Electron-emitter Display：SED)、场发射显示器(Field Emission Display：FED)或电子纸(E-Paper)等。

上部粘合层14及下部粘合层22为连接各部件之间的层，可使用公知的粘合层。

(第2实施方式)

以下，结合图4对应用本发明的导电性薄膜的带触摸面板的显示装置的第2实施方式进行说明。

如图4中所例示，本发明的带触摸面板的显示装置110依次具有保护基板12、上部粘合层14、第1硬涂层16A、第3触摸面板用导电层18C、支撑体20、下部粘合层22、及显示装置24。第1硬涂层16A、第3触摸面板用导电层18C、及支撑体20构成导电性薄膜126。并且，保护基板12、上部粘合层14、导电性薄膜126、及下部粘合层22构成静电电容式触摸面板128。如后述，第3触摸面板用导电层18C包含上述导电层，该导电层包含富勒烯官能化碳纳米管。即，上述导电性薄膜126相当于本发明的导电性薄膜。

图4所示的带触摸面板的显示装置110中，除了第3触摸面板用导电层18C方面，具有与图1所示的带触摸面板的显示装置10相同的结构，因此对相同构成要件标注相同的参照符号，并省略其说明，以下，主要对第3触摸面板用导电层18C进行详细说明。

图5中示出导电性薄膜126的俯视图。图6为沿图5中的切割线B-B进行切割的剖视图。

导电性薄膜126具有支撑体20、配置在支撑体20上的第3触摸面板用导电层18C、配置在第3触摸面板用导电层18C上的第1硬涂层16A、及挠性印刷配线板38，并作为触摸面板传感器而发挥作用。第3触摸面板用导电层18C具有第1电极40、第2电极42、第1连接部44、第2连接部46、绝缘层48、及引出配线50。

第1电极40、第2电极42及引出配线50包含富勒烯官能化碳纳米管。即，第1电极40、第2电极42及引出配线50相当于上述导电层。另外，本发明并不限定于该方式，第3触摸面板用导电层18C具有包含富勒烯官能化碳纳米管的上述导电层即可，第1电极40、第2电极42及引出配线50以外的第1连接部44、及第2连接部46也可以包含富勒烯官能化碳纳米管。

另外，以下对第3触摸面板用导电层18C中所包含的各部件进行详细说明。

详细而言，多个(图5中为4个)第1电极40沿x方向(图5中为横向)以直线状排列，且分别与第1连接部44相连结而构成第1电极排列。而且，该第1电极排列在支撑体20上平行地排列有多个列(图5中为4列)。该第1电极排列相当于所谓的检测电极。

并且，多个(图5中为4个)第2电极42沿与x方向正交的y方向(图5中为纵向)以直线状排列，且分别通过第2连接部46相连结而构成第2电极排列。而且，该第2电极排列在支撑体20上平行地排列有多列(图5中为4列)。该第2电极排列相当于所谓的检测电极。

而且，上述第1电极排列与上述第2电极排列相交叉配置，以使第1连接部44与第2连接部46重叠，因此第1电极40与第2电极42以格子状配置在支撑体20上。

而且，第1连接部44与第2连接部46重叠，因此为了防止与第1连接部44正交的第2连接部46的导通并进行绝缘，在第1连接部44与第2连接部46之间插装有绝缘层48。

而且，分别与第1电极排列和第2电极排列连接的引出配线50配置在支撑体20上，该些第1电极40及第2电极42与挠性印刷配线板38通过引出配线50而相连接。

另外，第1电极40及第2电极42所在的区域构成可通过操作者进行输入操作的输入区域E_I(可检测到物体的接触的输入区域(检测部))，位于输入区域E_I的外侧的外侧区域E_O中配置有引出配线50、及挠性印刷配线板38。

带触摸面板的显示装置中所包含的导电性薄膜的方式并不限定于上述方式，可以为其他方式。

例如，准备两个在上述第1实施方式中所叙述的、具备支撑体20、配置在支撑体20的一个主面上(表面上)的第1触摸面板用导电层18A及第1硬涂层16A的一面带导电层的导电性薄膜，以第1触摸面板用导电层18A彼此在第1触摸面板用导电层18A中的第1检测电极30彼此正交的位置相对置的方式将两个一面带导电层的导电性薄膜贴合于粘合层而得到的层叠型导电性薄膜也可较佳地应用于触摸面板。

另外，对两个一面带导电层的导电性薄膜进行贴合时，还可以以一个一面带导电层的导电性薄膜的第1触摸面板用导电层18A与另一一面带导电层的导电性薄膜的支撑体20相对置的方式，将两个一面带导电层的导电性薄膜贴合于粘合层。

实施例

以下，通过实施例对本发明进一步详细地说明，但本发明并不限定于此。

＜实施例1＞

(富勒烯官能化碳纳米管(CBFFCNT)的合成)

作为催化剂粒子源而使用二茂铁，且作为试剂(一种或多种)而使用水蒸气和/或二氧化碳，从而以来自作为碳源的一氧化碳合成CBFFCNT。以下，对该条件进行详细说明。

碳源：CO。催化剂粒子源：二茂铁(反应器内的蒸汽分压为0.7Pa)。使用炉温：800℃、1000℃、及1150℃。使用流量：300ccm的CO内部流(包含二茂铁蒸汽)及100ccm的CO外部流。试剂：水蒸气(150ppm及270ppm)和/或二氧化碳(1500～12000ppm)。

该合成以日本特表2009-515804的图3(a)所示的方式实施。该实施方式中，催化剂粒子在原位通过二茂铁蒸汽分解而生长。使室温下的CO从储气瓶(2)(以300ccm的流量)通过装满二茂铁粉末的滤筒(4)，由此使前体蒸发。之后，使包含二茂铁蒸汽的流体通过水冷探测器(5)而导入陶瓷管反应器的高温区域，并与以100ccm流量添加的CO流体(1)进行混合。

接着，将氧化蚀刻剂(例如，水和/或二氧化碳)与碳源一起导入。而且，将反应器内的二茂铁的蒸汽分压保持在0.7Pa。之后，将反应器壁面的设定温度从800℃改变为1150℃。

通过银圆板状过滤器或透射型电子显微镜(TEM)的栅格的任意一个来在反应器的下游回收气溶胶生成物。这些气溶胶生成物中，确认到有碳纳米管与富勒烯共价键合而成的CBFFCNT。

使用直径2.45cm的硝化纤维素过滤器对所得到的气溶胶进行过滤，由此在过滤器上制作了包含CBFFCNT的导电层。另外，进行过滤时的过滤器表面的温度为45℃。

接着，将配置在过滤器上的导电层转印于支撑体(市售的纤维素酰化物薄膜TD60UL(Fujifilm Corporation制)，厚度：60μm)上，从而将导电层(厚度：9μm)配置在支撑体上。

接着，在所得到的导电层上，通过以下所记载的方法制作硬涂层(厚度：6μm)，从而得到了导电性薄膜。

(硬涂层制作步骤)

将IRGACURE184(光聚合引发剂、BASF JAPAN LTD.制)4质量份添加于甲基乙基酮(MEK)/甲基异丁基酮(MIBK)的混合溶剂中来进行搅拌并使其溶解，从而制备了最终固体成分为40质量％的溶液。作为树脂成分，以固体成分比成为25质量份:25质量份:40质量份:10质量份的方式向该溶液添加季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、U-4HA(4官能氨基甲酸酯低聚物、重均分子量600、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd制)、U-15HA(15官能氨基甲酸酯低聚物、重均分子量2300、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd制)及聚合物(7975-D41、丙烯酸双键当量250、重均分子量15000、Hitachi Chemical Co.,Ltd.制)并进行搅拌。向该溶液添加以固体成分比为0.2质量份的流平剂(产品名：ME GAFAC F-477、DIC CORPORATION制)并进行搅拌，从而制备了硬涂层形成用组合物。

将该硬涂层形成用组合物通过狭缝反向涂布而涂布于导电层上，由此形成了涂膜。将所得到的涂膜于70℃下干燥一分钟之后，以紫外线照射量150mJ/cm²照射紫外线来使涂膜固化，从而形成了厚度6μm的硬涂层。

＜实施例2～实施例11及比较例2＞

对在实施例1中所使用的支撑体的种类进行变更，除此以外，按照与实施例1相同的步骤得到了导电性薄膜。

＜比较例1＞

作为支撑体而使用PET(TOYOBO CO.,LTD.制COSMOSHINE)基板，并且替代包含CBFFCNT的导电层，而按照以下步骤制作了ITO层，除此以外，按照与实施例1相同的步骤得到了导电性薄膜。

(ITO层的制作)

在PET(TOYOBO CO.,LTD.制COSMOSHINE)基板上以Ar流量300sccm、输出700V/0.05A实施等离子体处理，并配置于溅射装置内，进行真空排气的同时将辊加热至140℃，将压力保持在2×10^-1Pa，在使氩气及氧气流入的情况下，通过作为靶使用质量比In₂O₃/SnO₃＝90/10的氧化物混合体来进行溅射，将包含ITO的透明导电层以厚度200的层叠于PET基板的实施了等离子体处理的一面，从而得到了导电层。

＜比较例3＞

作为支撑体而使用T25UL(纤维素酰化物薄膜、Fujifilm Corporation.制、膜厚25μm)，并且未制作包含CBFFCNT的导电层，除此以外，按照与实施例1相同的步骤得到了导电性薄膜。

利用上述中所得到的各实施例及比较例地导电性薄膜，实施了以下评价。另外，将所得到的结果总结并示于表1。

＜平坦性评价＞

将所制作的导电性薄膜(实施例1～实施例11、比较例3)以硬涂层为上(空气侧)侧而设置于平滑的台上。从上部接触白色光并通过反射发对薄膜面状进行观察，并通过肉眼观察来判定有无褶皱。将没有褶皱，且平坦性优异的情况设为“A”，确认到褶皱，且平坦性较差的情况设为“B”。

＜透光率的测定(总光线透射率的测定)＞

利用雾度测定仪(NDH2000、NIPPON DENSHOKU INDUSTRIES Co.,LTD制)测定了透光率。

＜表面电阻值的测定＞

从所制作的导电性薄膜(实施例1～实施例11、比较例1～比较例2)切取80mm×50mm的样品，利用Mitsubishi Chemical Corporation Loresta-GP(MCP-T600)，通过四探针法并依据JIS K 7194测定了表面电阻值。

表1中，“CNB”表示使用富勒烯官能化碳纳米管来制作了导电层的情况，“ITO”表示使用氧化铟锡来制作了导电层的情况。

[表1]

将表1中的以“支撑体”栏中所记载的各记号表示的支撑体的种类示于以下。

·TD60：纤维素酰化物薄膜TD60UL(Fujifilm Corporation.制)

·TD40：纤维素酰化物薄膜(FUJITAC TD40UC、Fujifilm Corporation.制)

·T25：纤维素酰化物薄膜(T25UL，Fujifilm Corporation.制)

·TG40：纤维素酰化物薄膜(FUJITAC TG40UL、Fujifilm Corporation.制)

·TJ25：纤维素酰化物薄膜(FUJITAC TJ25UL、Fujifilm Corporation.制)

·ZRD40：纤维素酰化物薄膜(FUJITAC ZRD40、Fujifilm Corporation.制)

·丙烯酸：丙烯酸薄膜(TECNOLOY S001G,Sumitomo Chemical Co.,Ltd.(株)制)

·环烯烃：环烯烃薄膜(ZF14，ZEON CORPORATION.制)

·PET：聚对苯二甲酸乙二酯薄膜(TOYOBO CO.,LTD.制COSMOSHINE)

(样品A的制作方法)

(芯层纤维素酰化物浓液的制作)

将下述组合物投入搅拌罐来进行搅拌，并溶解各成分来制备了乙酸纤维素溶液。

(酯系低聚物A)

芳香族二羧酸(己二酸:邻苯二甲酸比率3:7)与二醇(乙二醇)的共聚物(末端为乙酰基)。分子量1000

(添加剂B)

[化学式14]

(紫外线吸收剂C)

[化学式15]

(外层纤维素酰化物浓液的制作)

向90质量份的上述芯层纤维素酰化物浓液添加10质量份的下述消光剂溶液来制备了外层乙酸纤维素溶液。

(纤维素酰化物薄膜的制作)

芯层纤维素酰化物浓液与其两侧的外层纤维素酰化物浓液、即将3层同时从流延口流延于20℃的滚筒上。溶剂含率为大致20质量％的状态下进行剥离，利用拉幅机夹具固定薄膜的宽度方向两端，残余溶剂为3～15％的状态下，沿横向拉伸1.1倍的同时进行干燥。之后，通过在热处理装置的辊之间进行传送来使其进一步干燥，从而制作了厚度40μm的纤维素酰化物薄膜(样品A)。

(样品B)

将膜厚调整为15μm，除此以外，以与样品A相同的方式进行制膜来制作了样品B。

(样品C)

使用下述原材料来进行了薄膜的制作。

颗粒状ARTON(JSR制、Tg 120℃) 20质量份

添加剂1(SUMILIZER GP(Sumitomo Chemical Co.,Ltd.制)) 0.1质量％

消光剂1(二氧化硅微粒(粒子尺寸20nm)) 0.02质量％

另外，上述“质量％”表示相对添加剂1(或消光剂1)的ARTON总质量的比例(质量％)。

(薄膜的制作)

通过混炼挤出机在260℃下进行熔融，并利用过滤精度5μm的叶盘式过滤器对从齿轮泵挤出的熔融树脂进行了过滤。接着，将熔融树脂从狭缝间隔1.0mm、260℃的衣架型模具挤出到将温度设定为玻璃化转变温度Tg的流延辊(CR)上而使其与冠状接触辊接触。另外，作为接触辊而使用日本特开平11-235747号公报的实施例1中所记载的接触辊(记载为双压辊的接触辊)，并将温度调节为Tg-5℃(然而，薄壁金属外筒的厚度为3mm)。然后，继续使将温度设定为Tg+5℃、Tg-10℃的流延辊通过。

接着，在具有一对夹持辊的拉伸区域沿传送方向拉伸，而且在Tg+40℃下进行热缓和之后，对两端(总宽度的各5％)进行修正来得到厚度为40μm的薄膜。另外，通过调整拉伸温度来控制延迟。

如表1所示，本发明的导电性薄膜的平坦性优异，并且透光性也优异。

另一方面，在未使用规定支撑体的比较例1及比较例2中，透光性较差，且在未使用规定导电层的比较例3中，平坦性较差。

＜实施例12：触摸面板的制作＞

按照实施例1的步骤，将导电层配置于支撑体的两个表面。之后，按照后述步骤，仅留下如图2所示的位于第1检测电极、第1引出配线、第2检测电极、及第2引出配线的一部分导电层，并通过蚀刻去除了其他导电层。之后，按照实施例1的步骤，将硬涂层分别配置于图案状导电层上来得到了导电性薄膜。

另外，第1检测电极的长度为170mm，数量为32个，第2检测电极的长度为300mm，数量为56个。

接着，与所得到的导电性薄膜一同使用保护基板、上部粘合层、导电性薄膜、下部粘合层、及液晶显示装置，并按照如图1所示的层叠顺序进行贴合来得到了带触摸面板的显示装置。

(导电层的蚀刻方法)

在配置于支撑体上的导电层，通过利用紫外线激光的激光蚀刻法(例如，参照WO2013/176155)来形成了所希望的图案。

另外，上述中，将导电层配置于支撑体上来实施蚀刻处理之后，将硬涂层配置在图案状导电层上，除此以外，还在将导电层及硬涂层配置在支撑体上之后，通过上述蚀刻方法制作规定图案状的导电层，并按照上述步骤制作了带触摸面板的显示装置。

并且，将导电层配置在支撑体的一个表面上，并对上述导电层的蚀刻图案进行变更，如图5所示，变更为第3触摸面板用导电层18C中所示出的图案，除此以外，按照上述步骤得到图4中所示出的带触摸面板的显示装置。

符号说明

10、110-带触摸面板的显示装置，12-保护基板，14-上部粘合层，16A、16B-硬涂层，18A、18B、18C-触摸面板用导电层，20-支撑体，22-下部粘合层，24-显示装置，26、126-导电性薄膜，28、128-触摸面板，30-第1检测电极，32-第1引出配线，34-第2检测电极，36-第2引出配线，38-挠性印刷配线板，40-第1电极，42-第2电极，44-第1连接部，46-第2连接部，48-绝缘层，50-引出配线。