本实用新型涉及触控技术领域，特别是涉及一种触控中间产品及其掩膜版。
背景技术：
在触控产品制作工艺流程中，通过设计具有预设图案的掩膜版(光罩)，经黄光制程(曝光、显影及剥离)得到与实际触控产品对应的触控单元，触控单元包括触控电极及与触控电极连接的引线。如图1所示，一整块触控中间产品10，包括中心产品区域110和围绕中心产品区域110的边框区域120，其中，边框区域120大致为空白区。中心产品区域110包括多个触控单元210。如图2及图3所示，在触控单元210中，除触控电极212与引线占据的空间外，其他区域为空白区，在传统的工艺流程中，这些空白区域是经显影蚀刻去除导电层而形成的，但在显影蚀刻过程中，会发生化学反应而生成显影蚀刻沉淀物，而显影蚀刻沉淀物容易沉淀在触控单元210上，容易引起触控单元210外观颜色差异造成外观不良，甚至会对触控单元210功能阻值测量变化产生较大影响，降低触控单元210灵敏度。
技术实现要素：
基于此，有必要针对触控单元外观不良的问题，提供一种触控中间产品及其掩膜版。
一种触控中间产品，包括：基板，包括中心产品区域及位于所述中心产品区域边缘的边框区域；线路层，包括相互绝缘的触控线路及第一剥膜块，所述触控线路设于所述中心产品区域，所述触控线路包括多个间隔排布的触控单元，所述第一剥膜块设于所述边框区域。
上述触控中间产品的边框区域具有第一剥膜块，也即在黄光制程中，边框区域的导电层并没有完全被显影蚀刻去除，减小了显影蚀刻的面积，从而可以减少显影蚀刻过程中生成的残留物，改善了触控单元外观不良的问题。
在其中一个实施例中，所述第一剥膜块的数目为多个，多个所述第一剥膜块间隔排布。边框区域的第一剥膜块的数目为多个且间隔排布，使得显影面积分布均匀，能够降低触控中间产品在老化等程序中受到的张力挤压。
在其中一个实施例中，所述中心产品区域包括用于承载所述触控单元的承载区以及用于分离相邻两个所述触控单元的分割区，所述线路层还包括设于所述分割区的第二剥膜块。在分割区域设置第二剥膜块，占据空白区域，减小了显影蚀刻的面积，能够进一步减少显影蚀刻过程中生成的残留物。
在其中一个实施例中，所述第二剥膜块的数目为多个，多个所述第二剥膜块间隔排布。多个第二剥膜块间隔排布，能够降低触控中间产品在老化等程序中受到的张力挤压。
在其中一个实施例中，多个所述触控单元呈阵列排布，所述分割区包括横向分割区与纵向分割区；所述第二剥膜块设于所述横向分割区与所述纵向分割区中的一者上。如此，可以将触控单元的引线用于与柔性电路板连接的一端引入至没有设置第二剥膜块的横向分割区或纵向分割区，以防止第二剥膜块对引线产生不良影响。
在其中一个实施例中，所述触控单元包括触控电极以及引线，所述引线一端与所述触控电极连接，另一端用于与柔性电路板连接，所述承载区包括用于承载所述触控电极的可视区以及用于承载所述引线的非可视区；所述线路层还包括设于所述可视区的虚拟电极块，所述虚拟电极块与所述触控电极相对独立。由于基板与触控电极对光线的反射率及透射率不同，在可视区设置虚拟电极块可以进行光学补偿，平衡可视区被触控电极占据的区域与可视区的空白区域的视觉效果，使得视觉效果均一。而且采用虚拟电极块占据可视区的空白区域，能够进一步减少显影蚀刻过程中生成的残留物。
在其中一个实施例中，所述触控电极的数目为多个，多个所述触控电极平行间隔排布，多个所述虚拟电极块设于相邻两个所述触控电极之间，多个所述虚拟电极块沿所述触控电极的延伸方向间隔排布。多个虚拟电极块间隔排布，能够降低触控中间产品在老化等程序中受到的张力挤压。
在其中一个实施例中，所述触控电极呈U字型，多个所述虚拟电极块设于所述触控电极的两侧之间，多个所述虚拟电极块沿所述触控电极的延伸方向间隔排布。
采用虚拟电极块占据可视区的空白区域，能够使得视觉效果更均一。多个虚拟电极块间隔排布，能够降低触控中间产品在老化等程序中受到的张力挤压。
一种掩膜版，所述掩膜版的图案与上述的触控中间产品的线路层的图案对应。
附图说明
图1为传统的触控中间产品的平面示意图；
图2为触控单元的平面示意图；
图3为图2中虚线框处的局部放大图；
图4为一实施例中的触控中间产品的平面示意图；
图5为图4中虚线框处的局部放大图。
具体实施方式
为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对触控中间产品及其掩膜版进行更全面的描述。附图中给出了触控中间产品及其掩膜版首选实施例。但是，触控中间产品及其掩膜版可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使触控中间产品及其掩膜版的公开内容更加透彻全面。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在触控中间产品及其掩膜版的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
请参见图4，一实施例中，触控中间产品20包括基板100和线路层200。在本实施例中，基板100包括中心产品区域110及位于中心产品区域110的边框区域120。线路层200包括相互绝缘的触控线路及第一剥膜块220，触控线路设于中心产品区域110，触控线路包括多个间隔排布的触控单元210，第一剥膜块220设于边框区域120。
上述触控中间产品20的边框区域120具有第一剥膜块220，也即在黄光制程中，边框区域120的导电层并没有完全被显影蚀刻去除，减小了显影蚀刻的面积，从而可以减少显影蚀刻过程中生成的残留物，改善触控单元210外观不良的问题。
具体地，本实施例中，请参见图4及图5，第一剥膜块220的数目为多个，多个第一剥膜块220间隔排布。边框区域120的第一剥膜块220的数目为多个且间隔排布，能够降低触控中间产品20在老化等程序中受到的张力挤压。
进一步的，在本实施例中，中心产品区域110包括用于承载触控单元210的承载区112以及用于分离相邻两个触控单元210的分割区114。线路层200还包括设于分割区114的第二剥膜块230。在传统的触控中间产品中，分割区域为空白区域。而在实施例中，在分割区域114设置第二剥膜块230，占据空白区域，减小了显影蚀刻的面积，能够进一步减少显影蚀刻过程中生成的残留物。具体地，在本实施例中，第二剥膜块230的数目为多个，多个第二剥膜块230间隔排布。多个第二剥膜块230间隔排布，能够降低触控中间产品20在老化等程序中受到的张力挤压。
触控单元210包括触控电极212以及引线214，引线214一端与触控电极212连接，另一端用于与柔性电路板连接(图中未标出)。在本实施例中，请参见图4，多个触控单元210呈阵列排布，分割区114包括横向分割区114a与纵向分割区114b。第二剥膜块230设于横向分割区114a与纵向分割区114b中的一者上。如此，可以将引线214用于与柔性电路板连接的一端引入至没有设置第二剥膜块230的横向分割区114a或纵向分割区114b，以防止第二剥膜块230对引线214产生不良影响。具体地，在本实施例中，如图4所示，引线214绑定于纵向分割区114b，因此，第二剥膜块230设置于横向分割区114a。可以理解的是，在另一实施例中，当引线绑定于横向分割区114a时，则第二剥膜块230相应地设置于纵向剥膜块114b。
进一步地，请参见图5，在本实施例中，承载区112包括用于承载触控电极212的可视区112b以及用于承载引线214的非可视区112a。线路层200还包括设于可视区112b的虚拟电极块240，虚拟电极块240与触控电极212相对独立。由于基板100与触控电极212对光线的反射率及透射率不同，在可视区112b设置虚拟电极块240可以进行光学补偿，平衡可视区112b被触控电极212占据的区域与可视区112b的空白区域的视觉效果，使得视觉效果均一。而且采用第三剥膜块240占据可视区112b的空白区域，能够进一步减少显影蚀刻过程中生成的残留物。
具体地，本实施例中，触控电极212的数目为多个，多个触控电极212平行间隔排布，多个虚拟电极块240设于相邻两个触控电极212之间，多个虚拟电极块240沿触控电极212的延伸方向间隔排布。多个虚拟电极块240间隔排布，能够降低触控中间产品20在老化等程序中受到的张力挤压。本实施例中，触控电极212沿横向排布，相邻两个触控电极212间的空白区域内设置虚拟电极块240，并且沿横向排布。同时虚拟电极块240的数目为多个，且沿触控电极212的延伸方向，即横向排布。
进一步地，请继续参见图5，本实施例中，触控电极212呈U字型，多个虚拟电极块240设于触控电极212的两侧之间，多个虚拟电极块240沿触控电极212的延伸方向间隔排布。触控电极212两侧设置虚拟电极块240，占据可视区112b的空白区域，能够使得视觉效果更均一。多个虚拟电极块240间隔排布，能够降低触控中间产品20在老化等程序中受到的张力挤压。
为了得到上述触控中间产品20，进一步地，在本实施例中提供一种触控中间产品20的制作方法，包括如下步骤：
步骤S110，提供导电组件，导电组件包括层叠设置的基板及导电层。需要说明的是，导电层完全覆盖基板的表面。
步骤S120，提供与触控线路及第一剥膜块对应的掩膜版，对导电组件进行黄光制程，得到触控中间产品。
需要说明的是，本实施例中的黄光制程的具体过程如下：在导电层上涂覆光敏性物质(又称为光刻胶或光阻)，然后经曝光、显影及蚀刻处理，除去部分导电层，得到上述的线路层。
当光敏性物质为自由基光引发体系负性感光树脂时，光照处发生化学聚合反应而不溶于显影液，从而掩膜版上的透光孔的图案与触控线路及第一剥膜块相同。而当光敏性物质为正性感光树脂时，光照处溶于显影液，从而掩膜版上的不透光处的图案与触控线路及第一剥膜块相同。
上述触控中间产品的制作方法，边框区域的导电层并没有完全被显影蚀刻去除，减小了显影蚀刻的面积，从而可以减少显影蚀刻过程中生成的残留物，改善触控单元外观不良的问题。
进一步地，本实施例中，触控产品的制作方法，包括如下步骤：
步骤S210，采用触控中间产品的制作方法获得触控中间产品。
步骤S220，去除触控中间产品的边框区域及第一剥膜块，将触控单元从触控中间产品分离出来，得到单个触控单元。
在本实施例中，采用切割的方式，去除触控中间产品的边框以及第一剥膜块，将触控单元从触控中间产品中分离出来得到单个的触控单元。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施例，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。