068]图1A所示为根据本发明的一实施例，触控面板10的俯视示意图。图1B所示为根据本发明的一实施例，包含图1A触控面板10的触控装置100沿图1A中AA方向的剖面示意图。请同时参照图1A及图1B，触控装置100包含触控面板10以及一显示模块18。触控面板10包含一基板11、一遮蔽层12、一摄像窗14与一第一抗反射层15。其中，遮蔽层12设置于基板11的表面，并将基板11其划分为一触控区域111与一围绕触控区域111的外围区域112。遮蔽层12亦将部分基板11的表面外围区域112镂空界定为摄像窗14，做为影像提取的窗口。触控区域111内设置有触控感测电极层(未绘示于图中)，用以感测触控面板10上的触碰位置或轨迹。此外，外围区域112内亦设置有信号接线(未绘示于图中)，其电性连接触控感测电极层。
[0069]显示模块18具有对应至摄像窗14的一影像提取元件185，例如是电荷耦合元件(charge-coupled device; CO))、互补式金属氧化物半导体有源像素传感器(CMOS activepixel sensor)或红夕卜线传感器(infrared sensor)。
[0070]在本发明的一实施例中，基板11可为一硬式透光基板或一可挠式透光基板，其材料可选自玻璃、压克力(PMMA)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚苯乙烯(PS)等透明材料。
[0071]基板11具有一第一表面101以及一第二表面102，且第一表面101与第二表面102位于基板11的相反侧。第一表面101做为触控装置100使用者触碰的介面，而例如在第二表面102上的触控区域111内设置有触控感测电极层，以感测使用者触碰于第一表面101的相关触碰位置或轨迹。触控感测电极层包含第一轴向电极与第二轴向电极。电极的材料可包括各种透明导电材料，例如，氧化铟锡(indium tin oxide; ITO)、氧化铟锌(indium zinc oxide; IZO)、氧化锦锡(cadmium tin oxide; CTO)、氧化招锌(aluminumzinc oxide ;AZ0)、氧化铟锌锡(indium tin zinc oxide; ΙΤΖ0)、氧化锌(zinc oxide)、氧化锦(cadmium oxide)、氧化給(hafnium oxide; HfO)、氧化铟嫁锌(indium gallium zincoxide; InGaZnO)、氧化铟嫁锌儀(indium gallium zinc magnesium oxide; InGaZnMgO)、氧化铟嫁儀(indium gallium magnesium oxide; InGaMgO)或氧化铟嫁招(indium galliumaluminum oxide; InGaAlO)。在一实施例中，电极的材料可包括不透明导电材料，例如，由金属材料构成的金属网格(Metal Mesh)。
[0072]遮蔽层12位于基板11第二表面102的外围区域112之内。遮蔽层12通常采用不透明材料制成，以遮蔽触控区域111外的元件例如信号接线。在本发明的一实施例中，遮蔽层12的材料可选自黑色光阻材料、黑色树脂、黑色油墨、低反射率的薄膜或具有其他颜色的类似材料。
[0073]摄像窗14由部分该遮蔽层12镂空界定于基板11的第二表面102的外围区域112之内。详言之，将部分外围区域112中未经遮蔽层12遮覆的部分界定为摄像窗14。摄像窗14的位置相对应于影像提取元件185，以俾影像提取元件185透过摄像窗14提取影像。
[0074]第一抗反射层15则位于摄像窗14内。在本发明的一实施例中，将一抗反射膜贴附于摄像窗14内来形成第一抗反射层15。在本发明的另一实施例中，则以喷涂或溅镀的方式于摄像窗14内形成第一抗反射层15。第一抗反射层15的设置有助于提高光通过摄像窗14的光穿透率，以满足影像提取元件185对光穿透率的要求。在本发明的一实施例中，第一抗反射层15的材料可选自铬(Cr)或氟化物例如铁氟龙胶与氟化钙(CaF2)。
[0075]在本实施例中，遮蔽层12与第一抗反射层15接触并且位于基板10的第二表面102上。又，在本发明的一实施例中，第一抗反射层15限定于摄像窗14与该部分遮蔽层之间。经此配置，由于第一抗反射层15的面积较小，仅需限制在摄像窗14的范围内，有助于降低生产成本并提高生产良率。
[0076]在本发明的另一实施例中，如图1C所示，第一抗反射层15更覆盖于部分遮蔽层12的表面。经此配置，第一抗反射层15能够更完整覆盖摄像窗14，有助于提高摄像窗14整体的光穿透率。
[0077]在本发明的实施例中，显示模块18可包含液晶显示(liquid crystaldisplay;LCD)面板、电激发光(electroluminescent;EL)显示面板例如有机发光二极管(OLED)显示面板、电润湿(electrowetting)显示面板、电泳(electrophoretic)显示面板或其它各种类型的自发光型显示面板、非自发光型显示面板、硬式显示面板或可挠式显示面板。此外，显示模块18与触控面板10可利用一黏着层(未绘示于图中)加以黏合。举例而言，该黏着层使用一框形胶或口字胶，其仅设置在显示模块18与触控面板10之间的外围区域112。惟在其它变化实施例中，黏着层亦可为一完整的胶层。黏着层可包含光学胶(Optical Clear Resin; OCR)或光学胶带(Optical Clear Adhesive; OCA)。又，光学胶可以是水胶或光学透明的特殊双面胶。
[0078]图2所示为根据本发明的又一实施例，触控装置200的剖面示意图。请参照图2，触控装置200的元件与结构类同于图1B所示的触控装置100，惟触控装置200的触控面板20另包含一第二抗反射层25位于基板11与遮蔽层12之间。在本实施例中，遮蔽层12与第一抗反射层15接触并且位于第二抗反射层25上。第二抗反射层25的设置有助于提高基板11的光穿透率并降低基板11的光反射。在本发明的一实施例中，第二抗反射层25的材料可选自铬(Cr)或氟化物例如铁氟龙胶与氟化钙(CaF2)。
[0079]图3所示为根据本发明的另一实施例，触控装置300的剖面示意图。请参照图3，触控装置300的元件与结构类同于图1B所示的触控装置100，惟触控装置300的触控面板30另包含一第二抗反射层35位于基板11的第一表面101上。第二抗反射层35的设置有助于提高基板11的光穿透率并降低基板11的光反射。在本发明的一实施例中，第二抗反射层35的材料可选自铬(Cr)或氟化物例如铁氟龙胶与氟化钙(CaF2)。
[0080]又，触控装置300的触控面板30另包含一功能层36位于第二抗反射层35上。功能层36可包含但不限定于一防爆层(ant1-split;AS)、一抗眩光层(ant1-glare;AG)、一硬化层(hard coat;HC)以及一防指纹层(ant1-fingerprint;AF)的其中之一或其组合。
[0081]当功能层36做为防爆用途时，功能层36的材料可选自聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、三聚醋酸纤维素(TAC)、聚酯(PET)、聚丙稀(PP)、聚烃基(COP)、或以所述材料组合制作。
[0082]当功能层36做为抗眩光用途时，功能层36的材料可选自二氧化娃。该抗眩光膜的雾度(haze)约介于1%?2%之间，用以散射光线并防止牛顿环的现象产生。
[0083]当功能层36做为硬化用途时，功能层36的材料可选自感光性树脂或二氧化硅(S12)，使得表面硬度例如高于2H、穿透率例如高于91 %、翘曲例如不高于10mm。
[0084]当功能层36做为防指纹用途时，功能层36的材料可选自高分子薄膜、金属氧化物薄膜或纳米溶胶薄膜。
[0085]图4所示为根据本发明的再一实施例，触控装置400的剖面示意图。请参照图4，触控装置400的元件与结构类同于图2所示的触控装置200，惟