专利名称：光学记录和再现介质、制造其的压模、以及光学记录和再现器件的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种光学记录和再现介质、一种用于制造该光学记录和再现介质的压模、以及一种光学记录和再现器件，在此介质中，沿着记录轨道形成与记录信息相应的凹坑。
背景技术：
目前，以圆盘形状形成的并用于执行光学记录和/或再现的各种光盘用作光学记录/再现介质。这些光盘包括只读光盘，其中，在盘基片上事先形成与数据相应的压印凹坑；磁光盘，此种盘利用磁光效应来执行数据记录；以及相变光盘，此种光盘利用记录膜中的相位变化而执行数据记录。
在这些盘当中，在能进行写的光盘如磁光盘和相变光盘中，通常沿着记录轨道在盘基片中形成槽。在这，“槽”是沿着记录轨道形成的所谓引导槽，主要是为了能执行跟踪伺服；槽孔端部之间的间隔称作平面。
在形成槽的光盘的情况下，通常使用基于推-挽信号的跟踪误差信号来配置跟踪伺服，所述推-挽信号从槽反射和衍射的光得到。这里，通过用两个相对槽中心对称布置的光电检测器检测槽反射和衍射的光，并且考虑两个光电检测器的输出差异而得到推-挽信号。
通常，在这些光盘的情况下，通过提高安装在再现器件中的光学拾波器的再现分辨率，已经实现高记录密度。光学拾波器的再现分辨率的提高主要是通过缩短用于数据再现的激光的波长λ并且增加物镜的数值孔径NA而光学实现的，其中，物镜把激光聚焦在光盘上。
通常，在所谓的CD-R或写一次紧致盘(CD)以及作为磁光(MO)盘的可重写MD(小型盘)、写一次DVD-R型DVD(数字多用途盘)和作为可重写DVD的所谓DVD+RW或DVD-RW(两者均为光盘的注册商标)的每一种格式中，已经提出其中记录槽的槽记录格式。在ISO系统磁光盘的每一种格式中，已经提出在平面上执行记录的平面记录格式。
另一方面，在DVD-RAM(随机存取存储器)和相似的格式中，对于实现高密度光盘的方法，已经提出所谓的平面/槽记录方法，其中，在槽和平面上都记录数据，以使其轨道密度是常规光盘的两倍。
平面/槽记录方法还研究用于高密度光盘中，并且努力使用该方法来提高记录密度，其中，所述高密度光盘近年来开发作为下一代光盘，如DVR(数据视频可记录)或蓝光盘以及μ盘或作为小尺寸MD的其他类似盘等。
然而，当在DVD-RAM或其它介质上执行平面/槽记录时，如果在平面记录和槽记录的记录和再现过程中不分别调整焦点，就不能得到最佳的记录/再现特性，从而有使光学系统更复杂的缺点。
进一步地，在“平面/槽盘上的热产生和传导的ISOM 2000模拟”中报告在平面记录和槽记录中，记录光束的形状不同，并且，显然难以获得均匀的平面记录/再现特性和槽记录/再现特性，从而，有这样的问题，在相同的光学记录/再现介质中存在着具有不同记录/再现特性的区域。
进一步地，在蓝光盘和其它高密度光盘中，尽管在蓝光盘为离开光照射侧的槽的情况下，远离记录表面时的记录/再现特性较差，但是，在蓝光盘为更靠近光照射侧的平面上的情况下，在靠近记录表面处，记录/再现特性是令人满意的。
在DVD-ROM(只读存储器)盘和类似盘的情况下，目前有可能以此种平面/槽记录格式直接记录信号；然而，希望在平面记录和槽记录时的记录/再现特性是令人满意的和均匀的。
进一步地，如上所述，在蓝光盘和其它高密度光盘中，槽部分离开读取表面，并且，在这些槽部分中难以获得满意的记录/再现特性。
另一方面，在制造光学记录/再现介质的工艺中，可以想到这样的方法，其中，在基片上形成的凹/凸图案被反转用于制造。也就是说，在制造光学记录/再现介质的常规工艺中，使用照相平版印刷术或其它方法在玻璃基板的感光层上形成微小的凹/凸图案，接着采用电镀或其它方法来形成例如镍的原模。
接着，通过注射模塑法或通过所谓的2P(光聚合)方法，可形成光学记录/再现介质的基片，其中，在所述基片的表面中形成预定的微小凹/凸图案，其中，在喷射模塑法中，上述原模位于模具或其它设备中，并且注入树脂；在2P(光聚合)方法中，例如在基片上涂敷紫外线固化合树脂，并且此压模被压制到树脂层中以形成所希望的凹/凸图案。
因而，如上所述，当在远离读取光的一侧上设置槽部分并且不能维持满意的记录/再现特性时，上述原模的复制品，即所谓的母模可通过以下工艺形成用电镀或其它方法进行转录以反转凹/凸图案，并且获得在靠近读取光一侧上设置的基片上的槽图案配置，由此提高记录/再现特性。
然而，当采用槽记录或平面记录格式时，如果试图实现与平面/槽记录格式情形相似的高记录密度，那么，轨道密度就必须设定为平面/槽记录格式的两倍，也就是说，轨道间距必须减小一半；结果减小推-挽信号或其它跟踪伺服信号的振幅，从而，难以实现对摆动信号的稳定跟踪和再现。
例如，平面/槽记录格式的轨道间距为0.60μm，即平面宽度为0.30μm，槽宽度为0.30μm，并且推-挽信号振幅为大约90％。
然而，当试图用槽记录格式实现相似的记录密度时，如果轨道间距设定为0.32μm，推-挽信号振幅就大约为18％。
在常规光盘中，轨道间距设定为与再现器件的光学拾波器的截止频率相应的轨道间距，即，大约是空间频率的3/2到两倍。截止频率是再现信号振幅基本为零时的频率；如果数据再现所用激光的波长为λ，并且用于在光盘上聚焦激光的物镜的数值孔径为NA，那么，截止频率就用2NA/λ表示。
在DVR和上述蓝光盘的情形中，数值孔径NA为0.85±0.05，并且再现光的波长λ为405±10nm。如果数值孔径NA例如为0.85并且再现光波长λ例如为406nm，那么，截止频率(2NA/λ)就为4187行/mm，并且，与此相应的轨道间距为0.239μm。
如果DVR和蓝光盘的轨道间距为0.32μm，这大约就是与截止频率相应的轨道间距0.239μm的4/3(0.32/0.239＝1.339)。
通常设定轨道间距为与截止频率相应的轨道间距的大约3/2到两倍的理由是为了得到稳定的跟踪伺服操作和再现稳定的摆动信号，要求获得足够程度的跟踪伺服信号振幅。
近年来，高密度光盘使用推-挽信号作为跟踪误差信号；然而，为了执行稳定的跟踪伺服操作，推-挽信号振幅比必须大约为0.135或更大。进一步地，希望采取措施来实现摆动信号的稳定再现。
另一方面，除了在槽上记录之外，提出以下格式，其中，TOC(目录)和其它信息被记录为凹坑。然而，由于在圆周方向上的凹坑密度大约是槽密度的一半，因此缺点是跟踪伺服信号振幅(推-挽信号振幅)减小一半。
也就是说，如果试图用上述轨道间距设定为0.32μm的DVR和蓝光盘来增加密度，用于凹坑的推-挽信号振幅就降为大约9％(18％/2)，从而，跟踪伺服操作变困难。而且，在推-挽信号振幅最大处的凹坑深度大约是光学拾波器波长λ的1/8，并且凹坑宽度大约是轨道间距的一半，从而，凹坑推-挽信号振幅提高到12％，但跟踪伺服操作变得不稳定。
发明内容
另一方面，在涉及本专利申请的日本专利申请2002-34242中，两者都为相同的申请人，在上述DVR、蓝光盘和其它高密度光学记录/再现介质中，如上所述，即使在轨道间距设定为0.32μm时，即大约是与截止频率相应的轨道间距的4/3倍，通过选择槽的相位深度x为
λ/16.14xn≤x≤λ/4.99n也获得满意的记录/再现特性。在以上方程式中，n代表从再现入射光的入射角到槽的介质的折射率。
然而，如果试图相似地设定凹坑信号深度，就有以下问题，对于比较浅的凹坑的信号不能获得充分的记录/再现特性，其中，所述凹坑的相位深度为约λ/16n≤x≤λ/12n，即，在一个实例中，插入λ＝406nm并且n＝1.48，深度大约为17-23nm。
为了解决上述问题并执行稳定的跟踪伺服控制，同时记录/再现特性不发生波动，本发明的目的是提供一种实用的高密度光学记录/再现介质、一种用于制造该光学记录/再现介质的压模、以及一种光学记录/再现器件，从而，即使在凹坑部分中也得到足够稳定跟踪伺服控制所需的推-挽信号振幅。
本发明是一种光学记录和再现介质，其中，沿着记录轨道形成与记录信息相应的凹坑，其中，在沿着记录轨道方向相邻的凹坑之间的至少一部分间隔中形成辅助凹坑；从而，如果凹坑的深度为d1并且辅助凹坑的深度为d2，那么d1≥d2；以及，辅助凹坑沿着记录轨道方向的两个边缘形成为简单凸曲线。
进一步地，本发明是具有上述配置的光学记录和再现介质，其中，当从光学记录和再现介质上的光入射表面到凹坑的介质的折射率为n、用于再现凹坑的记录信息的再现入射光的波长为λ、凹坑相位深度为x1、并且辅助凹坑相位深度为x2时，那么λ/13.06n≤x1≤λ/5.84n...(1)λ/16.14n≤x2≤x1 ...(2)进一步地，本发明是具有上述配置的光学记录和再现介质，其中，再现入射光的波长λ为405±10nm，并且物镜的数值孔径NA为0.85±0.05。
进一步地，本发明是具有上述配置的光学记录和再现介质，其中，凹坑的轨道间距大于或等于截止频率的轨道间距的4/3，但小于3/2，其中，截止频率与再现入射光的波长λ和物镜的数值孔径NA相对应。
进一步地，本发明是具有上述每一种配置的光学记录和再现介质，其中，当凹坑之间间隔是由记录信息的调制方法所确定的最短间隔时，不设置辅助凹坑。
进一步地，本发明是具有上述每一种配置的光学记录和再现介质，其中，与凹坑混杂地形成槽。
进一步地，本发明是具有上述每一种配置的光学记录和再现介质，其中，凹坑的轨道间距与槽的轨道间距相同。
进一步地，本发明是具有上述配置的光学记录和再现介质，其中，凹坑的调制方法与记录在槽中的记录信息的调制方法相同。
进一步地，本发明是一种用于制造光学记录和再现介质的压模，压模用于制造其中沿着记录轨道形成与记录数据相应的凹坑的光学记录和再现介质，其中，与凹坑相应地设置凹坑图案；在沿着记录轨道方向相邻的凹坑图案之间的至少一部分间隔中设置辅助凹坑图案；如果凹坑图案的深度为d′1并且辅助凹坑图案的深度为d′2时，那么d′1≥d′2；以及，辅助凹坑图案沿着记录轨道的两个边缘形成为简单凸曲线。
进一步地，本发明是具有上述配置的压模，其中，当从光学记录和再现介质上的光入射表面到凹坑的介质的折射率为n、用于再现凹坑的记录信息的入射光的波长为λ、凹坑图案相位深度为x′1、并且辅助凹坑图案相位深度为x′2时，获得以下关系λ/13.06n≤x′1≤λ/5.84n ...(3)λ/16.14n≤x′2≤x1 ...(4)进一步地，本发明是具有上述配置的压模，其中，再现入射光的波长λ为405±10nm，并且物镜的数值孔径NA为0.85±0.05。
进一步地，本发明是具有上述配置的压模，其中，凹坑图案的轨道间距大于或等于截止频率的轨道间距的4/3，但小于3/2，其中，截止频率与再现入射光的波长λ相对应并且与物镜的数值孔径NA相对应。
进一步地，本发明是具有上述每一种配置的压模，其中，当凹坑图案之间间隔是由凹坑记录信息的调制方法所确定的最短间隔时，不设置辅助凹坑图案。
进一步地，本发明是具有上述每一种配置的压模，其中，与光学记录和再现介质中槽相应的槽图案与凹坑图案混杂地形成。
进一步地，本发明是具有上述每一种配置的压模，其中，凹坑图案的轨道间距与槽图案的轨道间距相同。
进一步地，本发明是具有上述配置的压模，其中，凹坑图案的调制方法与记录在槽中的记录信息的调制方法相同。
进而，本发明是使用具有上述每一种配置的光学记录/再现介质的光学记录/再现器件。
也就是说，光学记录/再现器件包括其上沿着记录轨道形成与记录信息相应的凹坑的光学记录和再现介质，其中，在沿着记录轨道方向相邻的凹坑之间的至少一部分间隔中形成辅助凹坑；从而，当凹坑深度为d1并且辅助凹坑深度为d2时，得到关系d1≥d2；以及，辅助凹坑沿着记录轨道的两个边缘部分形成为简单凸曲线。
进一步地，本发明是使用具有上述配置的光学记录/再现介质的光学记录/再现器件，其中，当从光学记录和再现介质上的光入射表面到凹坑的介质的折射率为n、用于再现凹坑的记录信息的入射光的波长为λ、凹坑相位深度为x1、并且辅助凹坑相位深度为x2时，使用满足以上方程式(1)和(2)而形成的光学记录和再现介质。
进一步地，本发明是使用具有上述配置的光学记录/再现介质的光学记录/再现器件，其中，再现入射光的波长λ为405±10nm，并且物镜的数值孔径NA为0.85±0.05。
进一步地，本发明是使用具有上述配置的光学记录/再现介质的光学记录/再现器件，其中，凹坑的轨道间距大于或等于截止频率的轨道间距的4/3，但小于3/2，其中，截止频率与再现入射光的波长λ相对应并且与物镜的数值孔径NA相对应。
进一步地，本发明是使用具有上述每一种配置的光学记录/再现介质的光学记录/再现器件，其中，当光学记录和再现介质上凹坑之间间隔是由记录信息的调制方法所确定的最短间隔时，不设置辅助凹坑。
进一步地，本发明是使用具有上述每一种配置的光学记录/再现介质的光学记录/再现器件，其中，与凹坑混杂地形成槽。
进一步地，本发明是使用具有上述配置的光学记录/再现介质的光学记录/再现器件，其中，凹坑的轨道间距与槽的轨道间距相同。
进而，本发明是使用具有上述每一种配置的光学记录/再现介质的光学记录/再现器件，其中，凹坑的调制方法与记录在槽中的记录信息的调制方法相同。
如上所述，根据本发明，由于辅助凹坑在沿着记录轨道方向相邻的凹坑之间的至少一部分间隔中形成，其深度等于或小于凹坑深度并且辅助凹坑沿着记录轨道的两个边缘形成为简单凸曲线，因此，在圆盘形介质的记录轨道方向上，即在圆周方向上的凹坑密度，即凹坑效率，可增加到大于50％，并可增加推-挽信号振幅。
在此说明书中，应指出，凹坑“深度”指形成凹坑的凹/凸图案的阶梯高度，并且，当凹坑为凹陷部分时，凹坑深度指它的深度，而当凹坑形成为凸出部分时，凹坑深度指它的高度。
因而，在本发明中，由于基于常规调制方法在与记录轨道横交的方向上在凹坑之间不形成辅助凹坑，而是沿着记录轨道方向在相邻凹坑之间间隔中形成辅助凹坑，以使其深度等于或小于普通凹坑的深度，因此，可提高平均凹坑效率，可抑制推-挽信号振幅的下降，并且可执行稳定的跟踪伺服控制，其中，所述辅助凹坑在两个边缘部分上具有简单形状，即为不包含直线部分或凹入部分的简单形状。
具体地，当在由以上方程式(1)和(2)所指示的范围之内设定辅助凹坑的深度时，如上所述，该深度表达为相位深度，推-挽信号振幅可制作得足够大，可执行稳定的跟踪伺服控制，并且可获得满意的记录/再现特性，这在以下实施例中详细解释。
具体地，例如在蓝光盘和类似高密度光学记录/再现介质中，当再现入射光的波长λ为405±10nm并且物镜的数值孔径NA为0.85±0.05时，通过在上述每一种配置中设置辅助凹坑，可稳定地再现凹坑信号。
相似地，即使凹坑轨道间距设定得等于或大于与截止频率相应的轨道间距的4/3，但小于3/2，也可执行稳定的凹坑信号再现。
此时，凹坑的调制度降低，但通过采用不在凹坑之间间隔最短的部分中设置辅助凹坑的配置，可避免最短凹坑的调制度的降低，并且，其它凹坑的调制度的降低也可保持在不造成实际问题的程度上。
而且，即使当槽和凹坑混杂时，也有可能稳定地再现槽信号和凹坑信号。
进而，根据本发明的以上描述，即使当为了增加密度，槽轨道间距减小到等于或大于截止频率的轨道间距的4/3，但小于3/2，也可稳定地再现凹坑信号；因而，可对凹坑和槽使用相同的轨道间距，并且，可对凹坑和槽使用相同的调制方法，从而，可避免诸如仅对凹坑部分单独使用独立格式的麻烦。
图1为解释光学记录/再现介质一个实例的视图；图2为光学记录/再现介质一个实例的放大横截面视图；图3A、3B和3C为示出用于制造光学记录/再现介质的压模的制造工艺实例；图4为示出光学记录/再现器件的实例的配置的框图；图5A和5B为解释1-7调制方法中凹坑信号的视图；图6为示出光学记录/再现器件的实例的配置的框图；以及图7为解释常规光学记录/再现介质的实例的视图。
具体实施例方式
以下结合附图详细解释本发明的实施例；然而，本发明不局限于以下实例，只要不偏离本发明配置的要点，就可采用各种变更例。
在以下实施例中，如图1中具有放大部分的平面图所示意性所示，与记录信息相应的凹坑2沿着记录轨道形成，在记录轨道方向上，即在圆盘形光学记录/再现介质的情况下的圆周方向上，在相邻凹坑之间间隔的至少一部分上形成辅助凹坑3。在图1中，凹坑2由阴影表示。
当凹坑深度为d1并且辅助凹坑深度为d2时，采用d1≥d2的配置。而且，辅助凹坑沿着记录轨道方向上的两个边缘3a和3b形成为简单凸曲线。
图1示出以下实施例槽4与凹坑2一起设置，并且形成凹坑的部分和形成槽的部分设置在分离的区域中。示出在槽4中记录摆动信息的状态。
在此实施例的以上配置中，对于光学记录/再现介质而言，当从光入射表面到凹坑的介质的折射率为n、用于再现凹坑记录信息的入射光的波长为λ、凹坑相位深度为x1、并且辅助凹坑相位深度为x2时，那么，λ/13.06n≤x1≤λ/5.84n ...(1)λ/16.14n≤x2≤x1 ...(2)具体地，如作为一个实例的示意性横截面视图的图2所示，在基片1的靠近光入射表面的一侧上，即，在图中所示实例的上侧，形成突出的凸形凹坑2、辅助凹坑3和槽4，并且，例如，在这些上面顺序地层叠反射层5、第一介电层6、记录层7、第二介电层8和透光保护膜9，以形成光学记录/再现介质10。
标号54代表物镜或其它光学拾波器；用于再现的激光或其它入射光L照射辅助凹坑3。在此情况下，保护层9是设置为从上述光入射表面到凹坑的介质，并且它的折射率为n，用于再现的入射光的波长为λ，那么应用上述方程式(1)和(2)。
图2所示实例是凹坑部分在基片1上形成为突出图案的情形，在这，凹坑2的高度为d1，并且辅助凹坑3的高度为d2，其中，凹坑2和辅助凹坑3形成的高度d1和d2大致相等。
辅助凹坑3的高度的不局限于此实例，在其它情况下此高度可以制作得比凹坑2的高度更低(即更浅)；然而，所述高度在满足上述方程式(1)和(2)的范围内选择。当辅助凹坑3的高度(深度)按上述选择时，可以保证满意的记录/再现特性，这在后续的实施例中详细解释。
图1示出的情形为当凹坑2之间的间隔为由记录信息的调制方法所确定的最短间隔时，不设置辅助凹坑；当凹坑2用于例如通过1-7调制方法而记录记录信息时，在不形成辅助凹坑的凹坑2之间部分示出为2T间隔部分。
下面，结合图3A-3C来解释制造此种光学记录/再现介质的工艺的实例，其中，图3A-3C示出此制造工艺。
在图3A中，标号11代表由玻璃或类似物形成的原版基片。在此原版基片11的表面上形成包含光致抗蚀剂或类似物的感光层12，并且，通过用后述光学记录器件而曝光和显影预定的图案，辅助凹坑图案14与凹坑图案13一起形成为感光层12中的凹陷图案，其中，凹坑图案13是与记录信息相应的图案，而辅助凹坑图案14在这些凹坑图案13之间形成，从而，在此情况下，辅助凹坑图案14比凹坑图案13更浅。此时，与凹坑图案13情形相似地，通过扫描单一曝光光斑来使所述图案曝光而形成辅助凹坑图案14，从而，沿着记录轨道的两个边缘部分的平面形状为简单凸曲线。
随后，尽管未在图中示出，通过用无电镀或其它方法，用由镍膜或类似物组成的导电膜覆盖此构图感光层12的整个表面，接着把此覆盖有导电膜的原版基片11安装在电成型设备中，通过在导电膜层上进行电镀而形成例如大约300±5μm厚的镍镀层。
接着，使用切割机或类似设备从其上淀积厚镍镀层的原版基片11剥离镍镀层，并且用丙酮或类似物清洗其上形成凹/凸图案的感光层；如图3B所示，形成称作原模的压模15，在原模中，反转原版基片11上的凹坑图案13和辅助凹坑图案14，以形成反转凹坑图案13n和反转辅助凹坑图案14n。
随后，在压模15的形成凹/凸图案的表面上例如涂敷模具释放剂之后，使用诸如电镀的方法形成母模16，其中，压模15的凹/凸图案转移到母模16上，如图3C所示。
与在图3A中解释的原版基片11上的感光层12的图案相似地，预定的凹坑图案13和辅助凹坑图案14在此母模16上形成为凹陷。
在压模15和母模16上形成的凹坑图案和辅助凹坑图案的深度(高度)与上述光学记录/再现介质情形相似地进行选择。
即，如图3C中一个实例所示，当凹坑图案13的深度为d′1并且辅助凹坑图案14的深度为d′2时，d′1≥d′2。图3C的实例示出d′1≥d′2的情形。
进一步地，采用以下配置当在光学记录/再现介质中从光入射表面到凹坑的介质的折射率为n、用于再现凹坑所记录信息的再现入射光的波长为λ、凹坑图案13的相位深度为x′1、并且辅助凹坑图案14的相位深度为x′2时，那么λ/13.06n≤x′1≤λ/5.84nλ/16.14n≤x′2≤x′1下面，结合光学记录器件的配置实例，详细解释在以上图3A中解释的原版11上感光层12的具体制造工艺。
首先，解释光学记录器件的配置。
在上述图案曝光工艺中，一般采用用物镜对激光束聚焦以使原版基片上的光致抗蚀剂曝光的方法。此光学记录器件的实例在图4中示出。
在图4中，标号20代表气体激光器或其它光源。对光源没有具体限制，可根据应用而选择合适的光源；在此实例中，所采用激光源的记录激光从Kr激光器发射(波长λ＝351nm)。
在从激光源20发射的激光穿过电-光调制器(EOM)21和分析器22之后，部分被分光器BS2和分光器BS1反射。穿过分光器BS2和BS1的激光由光电检测器(PD)检测，并且在记录光学功率控制电路或其它控制部分中与比较电压进行比较，并且结果反馈回调制器21，所述控制电路或其它控制部分在图中未示出。
分光器BS2和BS1反射的激光束LB1和LB2分别被引导到各自的调制光学系统OM1和OM2。在调制光学系统OM1中，激光被透镜L11聚焦，并且包括AOM1(声-光调制器)的AO调制器126位于光束的焦平面中。
与记录信号相应的超声波从驱动器127输入到此AO调制器126，并且基于此超声波而调制激光的强度。所述激光被AO调制器126的衍射光栅衍射，并且系统配置为在此衍射光中，只有一次衍射光通过狭缝。
在经过强度调制之后，一次衍射光被透镜L12聚焦，并接着由镜子M1反射，从而，在激光穿过λ/2波片HWP并被引导之前，它的传播方向弯曲90°，相对于移动光学平台40是水平的并且沿着光轴方向，而且将入射到偏振光束分光器PBS。
相似地，在调制光学系统OM2中，激光由透镜L21聚焦，并且入射到AO调制器226上，AO调制器226包括位于焦平面内的AOM2；激光基于从驱动器227输入的与记录信号相应的超声波而进行强度调制。在透镜L22相似地聚焦发散激光之后，该激光被镜子M2反射，从而，传播方向弯曲90°，并被引导得相对于移动光学平台40是水平的并且沿着光轴方向。
当由激光LB2形成槽时，并且当此槽是摆动槽时，在移动光学平台40上的偏光系统OD执行光学偏转之后，光束被镜子M4反射，从而，传播方向再次弯曲90°，并且光束入射到偏振光束分光器PBS上。
穿过偏振光束分光器PBS的激光LB1、以及传播方向被偏振光束分光器PBS再次弯曲90°的激光LB2穿过放大透镜L3，从而，光束直径达到预定值，接着被镜子M5反射并被引导到物镜52，并且被物镜52聚焦到原版基片11的感光层12上。旋转驱动部件使原版基片11沿箭头a所指的方向旋转，其中，旋转驱动装置在图中未示出。点划线c表示基片11的中心轴。
移动光学平台40平行地移动记录激光LB1和LB2。通过此装置，在感光层12的表面上形成与凹/凸图案相应的潜像，其中，潜像是因激光的照射轨迹而产生的。
在这，偏光系统OD包括楔形棱镜47、声-光偏转器(AOD)48和楔形棱镜49。激光LB2通过楔形棱镜47入射到声-光偏转器48上，并且由声-光偏转器48根据所希望的曝光图案而进行光学偏转。
对于在此声-光偏转器48中使用的声-光元件，例如，氧化碲(TeO2)的声-光元件是适当的。经过声-光偏转器48光学偏转的激光LB2穿过楔形棱镜49，并且从偏光系统OD发射。
楔形棱镜47、49具有使激光LB2按以下入射的功能，声-光偏转器48的声-光元件的格栅表面满足布喇格(Bragg)条件，同时，即使在激光LB2被声-光偏转器48光学偏转时也保证光束的水平高度不被改变。换句话说，这些楔形棱镜47、49以及声-光偏转器48定位得使声-光偏转器48的声-光元件的格栅表面对于激光LB2满足布喇格条件，并且使从偏光系统OD发射的激光的水平高度不变。
进一步地，在声-光偏转器48上安装用于驱动声-光偏转器48的驱动器50；被正弦波调制的高频信号从压控振荡器(VCO)51提供给此驱动器50。在感光层的曝光过程中，与所希望曝光图案相应的信号从压控振荡器51输入到用于驱动的驱动器50，并且，驱动器50根据此信号而驱动声-光偏转器48；相应地，激光LB2受到与所希望摆动相应的光学偏转。
具体地，当地址信息例如通过使槽以194.1kHz频率摆动而增加到槽上时，中心频率例如为224MHz的高频信号被调制成194.1kHz频率的控制信号，并且通过正弦波从压控振荡器51提供给用于驱动的驱动器50。
驱动器50根据此信号而驱动声-光偏转器48，并且改变声-光偏转器48的声-光元件的布喇格角；相应地，激光进行光学偏转，以便与194.1kHz频率的摆动相对应。通过此部件，聚焦在感光层上的激光的光斑位置被光学偏转，以便以频率194.1kHz和振幅±9nm沿原版基片11的径向方向振动。
在这，偏振光束分光器PBS配置为反射S-偏振光和透射P-偏振光；光学偏转的激光LB2是S-偏振光，并且被PBS反射。
从第一调制光学系统OM1发射的激光LB1穿过λ/2波片HWP，以便旋转偏振方向90°，因此变为P-偏振光，并且被PBS透射。
在以下实施例中，物镜的数值孔径NA设定为0.9。氧化碲用作声-光调制器126和226的声-光元件。当形成凹坑时，从输入端通过驱动器127和227提供的信号是1-7调制信号，该信号具有用于在间隔中增加的辅助凹坑的信号，并且，当形成槽时，从输入端通过驱动器127和227提供的信号是固定电平DC(直流)信号。
在此实施例中，对于调制光学系统OM1和OM2的光学透镜，聚光透镜L11和L21具有80mm的焦距，准直透镜L12和L22具有100mm的焦距，并且移动光学平台40的放大透镜L3具有50mm的焦距。
对于具备上述配置的光学记录器件的曝光条件，用于摆动槽的激光功率是0.30mJ/m，用于凹坑的激光功率大约是0.25mJ/m，并且，原版基片11上的感光层12受到图案曝光，对使用1-7调制信号的上述辅助凹坑应用第一调制光学系统OM1，并对轨道间距0.32μm的DC调制信号应用第二调制光学系统OM2。
如图5A中凹坑2及相应信号S所示意性示出地，通常在1-7调制的情况下，凹坑2在圆周方向上的密度，即凹坑效率，为50％。推-挽信号振幅与凹坑效率成正比。即，在用于凹坑效率的凹坑边缘位置为50％的情况下，推-挽信号振幅减小到槽推-挽信号振幅的50％。
然而，在此实施例中，如图5B所示，通过在凹坑2之间的间隔中形成辅助凹坑3，平均凹坑效率可增加到超过50％，从而，增加推-挽信号振幅并且获得稳定的跟踪伺服控制。在图5A和5B中，凹坑2被画上阴影。
如上所述，通过激光1的曝光，辅助凹坑3在记录轨道方向上的两个边缘部分3a和3b形成为简单凸曲线。
在图5A和5B所示实施例中，示出3T间隔和8T间隔，作为凹坑之间的间隔；在2T间隔中不设置辅助凹坑3时也可采用此种配置，2T间隔是1-7调制中的最短间隔。
在执行上述图案曝光之后，原版基片11放置在显影器的转盘上，以使感光层12朝上，并且原版基片11的表面旋转以便处于水平面中。在此状态下，显影器流体滴到感光层12上，并且对感光层12执行显影；在信号形成区域中，基于记录信号而形成凹/凸图案，并且形成用于制造光学记录/再现介质的原版，这在上述图3A中解释。
随后，在上述图3B和3C中解释的制造工艺用于形成制造光学记录/再现介质的压模(在此情况下，简称为母模)，其中，所形成的凹/凸图案是通过用上述光学记录器件经过图案曝光和显影工艺而制作的凹/凸图案的反转。进一步地，用于聚碳酸酯或其它透光树脂的光学记录/再现介质的基片通过注射模塑法、2P方法或其它方法而从此母模形成；在此实例中，使用注射模塑法。
在此实施例中，模制基片的厚度设定为1.1mm，并且通过溅镀或其它方法在信号形成表面上顺序地形成Al合金或类似物的反射层5；ZnS-SiO2或类似物的第一介电层6；GeSbTe合金或类似物的包含相变材料的记录层7；以及ZnS-SiO2或类似物的第二介电层8。接着，使用自旋涂敷方法把紫外线固化树脂涂敷到第二介电层8上，并且通过紫外线辐射而照射此紫外线固化树脂，导致硬化，从而形成0.1mm厚的保护层9。
借助此种制造工艺，可制作如图1和2所解释的光学记录/再现介质，如蓝光盘格式中的介质，其中，使用本发明的配置形成具有辅助凹坑的1-7调制信号凹坑以及摆动槽。
使用包括波长λ＝406nm和数值孔径NA＝0.85的光学系统的光学记录/再现器件来执行对按上述形成的光学记录/再现介质的凹/凸图案再现特性的评估。在图6中示出此器件的示意图。
在图6中，标号61代表波长λ＝406nm的半导体激光器或其它光源；从此发射的激光束被准直透镜62变为平行光束，并且被格栅63分为三个光束0次(主)光束以及±1次(次)光束。这三个光束(P-偏振光)穿过偏振光束分光器64和1/4波片65，成为圆偏振光，并且由光学拾波器66聚焦在光学记录/再现介质10的预定记录轨道上，其中，光学拾波器66具有数值孔径NA＝0.85的物镜。主光束的中心光斑用于再现记录信息；次光束光斑用于检测跟踪误差。标号68代表旋转部件，它使光学记录/再现介质10如箭头b所示地旋转。实线d表示光学记录/再现介质10的旋转轴。
从光学记录/再现介质10反射的光再次穿过光学拾波器66和1/4波片65，并且圆偏振光变为S-偏振光，被偏振光束分光器64反射，并入射到组合透镜71上。
入射到组合透镜71上的激光穿过对激光束赋予象散差的透镜，进入光电二极管72，并根据光束强度而变换为电信号，接着输出到伺服电路，作为伺服信号(聚焦误差信号和跟踪误差信号)。光电二极管72具有分立检测器73(A-H)。主光束的返回光入射到位于检测器73中心的四个分立检测器(A-D)；次光束的返回光入射到位于检测器73两侧的分立检测器E-H。
如以下所示，从检测器73 A-H输出的信号A-H经过预定电路系统的加法和减法处理，并且输出预定的信号，所述电路系统在图中未示出。在此实例中，采用差分推-挽(DPP)方法得到跟踪伺服信号，DPP方法使用三个以预定间隔布置的激光束来照射介质。即，光学记录/再现介质的再现信号＝(A+B+C+D)凹坑再现信号(如EFM信号)＝(A+B+C+D)推-挽信号＝(B+C)-(A+D)差分推-挽(跟踪伺服)信号＝(B+C)-(A+D)-k((E-F)+(G-H))(这里，k为预定的常数)在以下实施例中，采用具有上述配置的光学记录/再现器件对具有本发明上述配置的光学记录/再现介质进行评估。
下面，使用包括以上图6所述光学系统的光学记录/再现器件，对具有本发明上述配置的光学记录/再现介质以及没有设置辅助凹坑的光学记录/再现介质执行凹/凸图案再现特性评估，其中，后一介质作为比较例，光学系统的波长λ＝406nm并且数值孔径NA＝0.85。如以上所解释的，轨道间距设定为0.32μm。
在以上结合图4解释的光学记录器件的调制光学系统OM1中，对凹坑和辅助凹坑调节曝光功率，并且制造具有不同深度凹坑和辅助凹坑的各个光学记录/再现介质实例。
制作盘A-E，其凹坑深度分别为47nm、39nm、34nm、23nm和21nm；在每个盘上形成辅助凹坑区域，辅助凹坑的深度从0nm一直变化到等于凹坑深度的深度。在下表1中列出每个实例中与凹坑深度和辅助凹坑深度相应的相位深度、以及从每个光学记录/再现介质实例得到的推-挽信号的振幅。在计算相位深度时使用的折射率n为1.48(以上图2中所示保护层9的材料的折射率)，并且如上所述，用于再现的入射光的波长为406nm。辅助凹坑的深度不能制作得大于在以上图3A中解释的感光层的厚度，因此，这些深度从下表1中省略。
在未设置辅助凹坑的具有常规1-7调制凹坑的光学记录/再现介质中，即，在具有图7所示平面图案示意实例的常规凹坑2和槽4的光学记录/再现介质中，在凹坑深度变化的每一种情形中，推-挽信号振幅大约是12％，从而，稳定的跟踪伺服控制是不可能的，并且不能再现凹坑信号。
然而，在具有17nm深或更深的辅助凹坑的所有光学记录/再现介质上形成凹坑的所有区域中，推-挽信号振幅大约是15％或更大，并且可获得稳定的跟踪伺服控制，从而，凹坑信号再现是可能的。
在这，当凹坑深度d1从34nm到47nm时，相位深度x1为λ/5.84n≤x1≤λ/8.07n。
当辅助凹坑深度为17nm或高达凹坑深度并且相位深度x2如下时，获得满意的结果(盘A)λ/16.14n≤x2≤λ/5.84n(盘B)λ/16.14n≤x2≤λ/7.03n(盘C)λ/16.14n≤x2≤λ/8.07n(盘D)λ/16.14n≤x2≤λ/11.93n(盘E)λ/16.14n≤x2≤λ/13.06n如以上所解释地，辅助凹坑的相位深度的上限是凹坑相位深度。
进一步地，如以上所解释地，当采用1-7调制方法时，通过采用在作为最短间隔的2T间隔中不设置辅助凹坑的配置，凹坑信号再现特性提高，并且抖动减少大约1％。
如以上所解释地，DVR-ROM和蓝光盘的ROM轨道间距设定为0.32μm，或者是截止频率轨道间距的大约4/3(0.239μm；即，0.32/0.239＝1.339)，并且，不能获得充分的跟踪伺服信号振幅(推-挽信号振幅)。因而，根据本发明，即使在具有狭窄轨道间距的凹坑格式的情况下，通过在除1-7调制方法的2T间隔之外的凹坑之间间隔中设置辅助凹坑，通过选择凹坑的相位深度等于或大于λ/13.06n且等于或小于λ/5.84n，并且通过选择辅助凹坑的相位深度等于或大于λ/16.14n且等于或小于凹坑相位深度，可获得满意的凹坑信号再现特性。
如上所述，即使在设置辅助凹坑时，凹坑信息信号也能保持满意的再现特性，因为对于在记录轨道方向上相对较长的凹坑信号，即对于1-7调制方法中的3T-8T信号，获得满意的凹坑信息再现特性；即使在这些凹坑之间的间隔中设置辅助凹坑，也获得满意的凹坑再现输出，并且通过限制只在最短间隔中设置辅助凹坑，保留十分有利的再现特性是可以理解的。也就是说，即使设置辅助凹坑，3T和更长凹坑的调制度减小一点，但它对信号特性没有问题，并且可获得满意的再现特性。
如以上所解释地，通过调节原版基片感光层上的曝光激光强度而执行对辅助凹坑深度的控制。也就是说，当形成比较浅的辅助凹坑时，其宽度减小到比普通凹坑宽度更窄的宽度。
另一方面，即使辅助凹坑的深度制作得与普通凹坑的深度大致相等，如果只减小其宽度，那么，获得相似的有利结果也是可以理解的。
进一步地，在图1所解释的实施例中，也可采用以下配置在蓝光盘的PIC(永久信息和控制数据)区域中，即在通常与TOC相似地规定的区域中，设置辅助凹坑。当在此配置中采用上述表格1中的盘C时，能可靠地再现摆动槽地址信息。
在上述每一个盘中，在形成其轨道间距与凹坑相同的槽时，并且当用1-7调制在槽部分中记录信息时，有可能在整个盘上进行再现且抖动率为10％或更小，并且获得满意的记录/再现特性。而且，根据本发明的配置，在形成凹坑时，在PIC区域中增加辅助凹坑，并且，获得满意的凹坑信号再现特性。
以上已经解释本发明的各个方面和各个实施例；然而，本发明当然不局限于上述实施例，并且，在本发明的要旨之内，可采用各种变更例，从而，例如，可改变相变材料记录层或类似层中每个层的组成材料，或者，可进行其它各种变化，例如，采用磁光记录层或染料层、或其它适当的材料和配置。
进一步地，所述信息不局限于记录信息；本发明可应用于光学记录/再现介质、用于光学记录/再现介质的压模、以及光学记录/再现器件，它们中每一个都具有用于信号记录和再现的功能、或用于记录和再现信息和信号的功能。
如以上所解释地，根据本发明，通过在凹坑之间设置辅助凹坑，有可能避免凹坑部分中跟踪伺服信号振幅(推-挽信号振幅)减半，从而，即使对于具有大约0.32μm的窄轨道间距并且密度增加的光学记录介质，如在DVR-ROM、蓝光盘或类似盘中，也可获得充分的跟踪伺服信号振幅，并且，可保持满意的凹坑信息记录/再现特性。
进一步地，在制造光学记录/再现介质时，通过在用于感光层图案曝光的信号中增加辅助凹坑信号的简单方法，可以形成在普通凹坑之间间隔中设置辅助凹坑的配置，并不需复杂的方法，如包括制备两个不同的曝光光束或类似物的方法，从而，以常规方式配置的光学记录器件可用于高生产率的制造中，在制造时不需复杂的操作。
进一步地，根据本发明，可以提供采用以下格式的光学记录/再现介质，此格式为凹坑和槽混杂、凹坑和槽形成有相同的轨道间距、并且用相同的调制方法记录凹坑信息或信号和记录在槽中的所述记录信息；以及使用以上介质的光学记录/再现器件。
权利要求书(按照条约第19条的修改)1.一种光学记录和再现介质，其中，沿着记录轨道形成与记录信息相应的凹坑，其中在沿着所述记录轨道方向相邻的所述凹坑之间的至少一部分间隔中形成辅助凹坑；当所述凹坑的深度为d1并且所述辅助凹坑的深度为d2时，得到关系d1≥d2；所述辅助凹坑沿着所述记录轨道的两个边缘部分形成为简单凸曲线；以及当从所述光学记录和再现介质上的光入射表面到所述凹坑的介质的折射率为n、用于再现所述凹坑的记录信息的再现入射光的波长为λ、所述凹坑的相位深度为x1、并且所述辅助凹坑的相位深度为x2时，获得以下关系λ/13.06n≤x1≤λ/5.84n且λ/16.14n≤x2≤x1。
2.如权利要求1所述的光学记录和再现介质，其中，所述再现入射光的波长λ为405±10nm，并且物镜的数值孔径NA为0.85±0.05。
3.如权利要求1所述的光学记录和再现介质，其中，所述凹坑的轨道间距等于或大于截止频率的轨道间距的4/3，但小于3/2，其中，所述截止频率与所述再现入射光的波长λ和物镜的数值孔径NA相对应。
4.如权利要求1所述的光学记录和再现介质，其中，当所述凹坑之间间隔是由所述记录信息的调制方法所确定的最短间隔时，不设置所述辅助凹坑。
5.如权利要求1所述的光学记录和再现介质，其中，与所述凹坑混杂地形成槽。
6.如权利要求5所述的光学记录和再现介质，其中，所述凹坑的轨道间距与所述槽的轨道间距相同。
7.如权利要求5所述的光学记录和再现介质，其中，所述凹坑的调制方法与记录在所述槽中的记录信息的调制方法相同。
8.一种用于制造光学记录和再现介质的压模，所述压模用于制造其中沿着记录轨道形成与记录信息相应的凹坑的光学记录和再现介质，其中，与所述凹坑相应地设置凹坑图案；在沿着所述记录轨道方向相邻的凹坑图案之间的至少一部分间隔中设置辅助凹坑图案；当所述凹坑图案的深度为d′1并且所述辅助凹坑图案的深度为d′2时，获得关系d′1≥d′2；所述辅助凹坑图案沿着所述记录轨道的两个边缘部分形成为简单凸曲线；以及当从所述光学记录和再现介质上的光入射表面到所述凹坑的介质的折射率为n、用于再现所述凹坑的记录信息的再现入射光的波长为λ、所述凹坑图案的相位深度为x′1、并且所述辅助凹坑图案的相位深度为x′2时，获得以下关系λ/13.06n≤x′1≤λ/5.84n且λ/16.14n≤x′2≤x1。
9.如权利要求8所述的用于制造光学记录和再现介质的压模，其中，所述再现入射光的波长λ为405±10nm，并且物镜的数值孔径NA为0.85±0.05。
10.如权利要求8所述的用于制造光学记录和再现介质的压模，其中，所述凹坑图案的轨道间距等于或大于截止频率的轨道间距的4/3，但小于3/2，其中，所述截止频率与所述再现入射光的波长λ和物镜的数值孔径NA相对应。
11.如权利要求8所述的用于制造光学记录和再现介质的压模，其中，当所述凹坑图案之间间隔是由所述凹坑中所述记录信息的调制方法所确定的最短间隔时，不设置所述辅助凹坑图案。
12.如权利要求8所述的用于制造光学记录和再现介质的压模，其中，与所述光学记录和再现介质中槽相应的槽图案与所述凹坑图案混杂地形成。
13.如权利要求12所述的用于制造光学记录和再现介质的压模，其中，所述凹坑图案的轨道间距与所述槽图案的轨道间距相同。
14.如权利要求12所述的用于制造光学记录和再现介质的压模，其中，所述凹坑图案的调制方法与记录在所述槽中的记录信息的调制方法相同。
15.一种光学记录和再现器件，该器件使用其中沿着记录轨道形成与记录信息相应的凹坑的光学记录和再现介质，所述光学记录和再现介质的特征在于在沿着所述记录轨道方向相邻的所述凹坑之间的至少一部分间隔中形成辅助凹坑；当所述凹坑的深度为d1并且所述辅助凹坑的深度为d2时，得到关系d1≥d2；所述辅助凹坑沿着所述记录轨道的两个边缘部分形成为简单凸曲线；以及当从所述光学记录和再现介质上的光入射表面到所述凹坑的介质的折射率为n，用于再现所述凹坑的记录信息的再现入射光的波长为λ，所述凹坑的相位深度为x1，并且所述辅助凹坑的相位深度为x2时，获得以下关系λ/13.06n≤x1≤λ/5.84n且λ/16.14n≤x2≤x1。
16.如权利要求15所述的光学记录和再现器件，其中，所述再现入射光的波长λ为405±10nm，并且物镜的数值孔径NA为0.85±0.05。
17.如权利要求15所述的光学记录和再现器件，其中，所述光学记录和再现介质上所述凹坑的轨道间距等于或大于截止频率的轨道间距的4/3，但小于3/2，其中，所述截止频率与所述再现入射光的波长λ和物镜的数值孔径NA相对应。
18.如权利要求15所述的光学记录和再现器件，其中，当所述光学记录和再现介质上所述凹坑之间间隔是由所述记录信息的调制方法所确定的最短间隔时，不设置所述辅助凹坑。
19.如权利要求15所述的光学记录和再现器件，其中，在所述光学记录和再现介质上，与所述凹坑混杂地形成槽。
20.如权利要求19所述的光学记录和再现器件，其中，在所述光学记录和再现介质上，所述凹坑的轨道间距与所述槽的轨道间距相同。
21.如权利要求19所述的光学记录和再现器件，其中，在所述光学记录和再现介质上，所述凹坑的调制方法与记录在所述槽中的记录信息的调制方法相同。
权利要求
1.一种光学记录和再现介质，其中，沿着记录轨道形成与记录信息相应的凹坑，其中在沿着所述记录轨道方向相邻的所述凹坑之间的至少一部分间隔中形成辅助凹坑；当所述凹坑的深度为d1并且所述辅助凹坑的深度为d2时，得到关系d1≥d2；以及所述辅助凹坑沿着所述记录轨道的两个边缘部分形成为简单凸曲线。
2.如权利要求1所述的光学记录和再现介质，其中当从所述光学记录和再现介质上的光入射表面到所述凹坑的介质的折射率为n、用于再现所述凹坑的记录信息的再现入射光的波长为λ、所述凹坑的相位深度为x1、并且所述辅助凹坑的相位深度为x2时，获得以下关系λ/13.06n≤x1≤λ/5.84n且λ/16.14n≤x2≤x1。
3.如权利要求1所述的光学记录和再现介质，其中，所述再现入射光的波长λ为405±10nm，并且物镜的数值孔径NA为0.85±0.05。
4.如权利要求1所述的光学记录和再现介质，其中，所述凹坑的轨道间距等于或大于截止频率的轨道间距的4/3，但小于3/2，其中，所述截止频率与所述再现入射光的波长λ和物镜的数值孔径NA相对应。
5.如权利要求1所述的光学记录和再现介质，其中，当所述凹坑之间间隔是由所述记录信息的调制方法所确定的最短间隔时，不设置所述辅助凹坑。
6.如权利要求1所述的光学记录和再现介质，其中，与所述凹坑混杂地形成槽。
7.如权利要求6所述的光学记录和再现介质，其中，所述凹坑的轨道间距与所述槽的轨道间距相同。
8.如权利要求6所述的光学记录和再现介质，其中，所述凹坑的调制方法与记录在所述槽中的记录信息的调制方法相同。
9.一种用于制造光学记录和再现介质的压模，所述压模用于制造其中沿着记录轨道形成与记录信息相应的凹坑的光学记录和再现介质，其中，与所述凹坑相应地设置凹坑图案；在沿着所述记录轨道方向相邻的凹坑图案之间的至少一部分间隔中设置辅助凹坑图案；当所述凹坑图案的深度为d′1并且所述辅助凹坑图案的深度为d′2时，获得关系d′1≥d′2；以及所述辅助凹坑图案沿着所述记录轨道的两个边缘部分形成为简单凸曲线。
10.如权利要求9所述的用于制造光学记录和再现介质的压模，其中，当从所述光学记录和再现介质上的光入射表面到所述凹坑的介质的折射率为n、用于再现所述凹坑的记录信息的再现入射光的波长为λ、所述凹坑图案的相位深度为x′1、并且所述辅助凹坑图案的相位深度为x′2时，获得以下关系λ/13.06n≤x′1≤λ/5.84n且λ/16.14n≤x′2≤x1。
11.如权利要求9所述的用于制造光学记录和再现介质的压模，其中，所述再现入射光的波长λ为405±10nm，并且物镜的数值孔径NA为0.85±0.05。
12.如权利要求9所述的用于制造光学记录和再现介质的压模，其中，所述凹坑图案的轨道间距等于或大于截止频率的轨道间距的4/3，但小于3/2，其中，所述截止频率与所述再现入射光的波长λ和物镜的数值孔径NA相对应。
13.如权利要求9所述的用于制造光学记录和再现介质的压模，其中，当所述凹坑图案之间间隔是由所述凹坑中所述记录信息的调制方法所确定的最短间隔时，不设置所述辅助凹坑。
14.如权利要求9所述的用于制造光学记录和再现介质的压模，其中，与所述光学记录和再现介质中槽相应的槽图案与所述凹坑图案混杂地形成。
15.如权利要求14所述的用于制造光学记录和再现介质的压模，其中，所述凹坑图案的轨道间距与所述槽图案的轨道间距相同。
16.如权利要求14所述的用于制造光学记录和再现介质的压模，其中，所述凹坑图案的调制方法与记录在所述槽中的记录信息的调制方法相同。
17.一种光学记录和再现器件，该器件使用其中沿着记录轨道形成与记录信息相应的凹坑的光学记录和再现介质，所述光学记录和再现介质的特征在于在沿着所述记录轨道方向相邻的所述凹坑之间的至少一部分间隔中形成辅助凹坑；当所述凹坑的深度为d1并且所述辅助凹坑的深度为d2时，得到关系d1≥d2；以及所述辅助凹坑沿着所述记录轨道的两个边缘部分形成为简单凸曲线。
18.如权利要求17所述的光学记录和再现器件，其中，当从所述光学记录和再现介质上的光入射表面到所述凹坑的介质的折射率为n，用于再现所述凹坑的记录信息的再现入射光的波长为λ，所述凹坑的相位深度为x1，并且所述辅助凹坑的相位深度为x2时，获得以下关系λ/13.06n≤x1≤λ/5.84n且λ/16.14n≤x2≤x1。
19.如权利要求17所述的光学记录和再现器件，其中，所述再现入射光的波长λ为405±10nm，并且物镜的数值孔径NA为0.85±0.05。
20.如权利要求17所述的光学记录和再现器件，其中，所述光学记录和再现介质上所述凹坑的轨道间距等于或大于截止频率的轨道间距的4/3，但小于3/2，其中，所述截止频率与所述再现入射光的波长λ和物镜的数值孔径NA相对应。
21.如权利要求17所述的光学记录和再现器件，其中，当所述光学记录和再现介质上所述凹坑之间间隔是由所述记录信息的调制方法所确定的最短间隔时，不设置所述辅助凹坑。
22.如权利要求17所述的光学记录和再现器件，其中，在所述光学记录和再现介质上，与所述凹坑混杂地形成槽。
23.如权利要求22所述的光学记录和再现器件，其中，在所述光学记录和再现介质上，所述凹坑的轨道间距与所述槽的轨道间距相同。
24.如权利要求22所述的光学记录和再现器件，其中，在所述光学记录和再现介质上，所述凹坑的调制方法与记录在所述槽中的记录信息的调制方法相同。
全文摘要
本发明涉及光学记录和再现介质、制造其的压模、以及光学记录和再现器件，在所述光学记录和再现介质中，沿着记录轨道形成与记录信息相应的凹坑，其中，在沿着记录轨道方向相邻的凹坑之间的至少一部分间隔中形成辅助凹坑；当凹坑深度为d1并且辅助凹坑深度为d2时，得到关系d1≥d2；以及辅助凹坑沿着记录轨道方向的两个边缘部分形成为简单凸曲线。
文档编号G11B7/24085GK1585975SQ0282270
公开日2005年2月23日 申请日期2002年10月16日 优先权日2001年10月16日
发明者远藤惣铭 申请人:索尼株式会社