专利名称：光学头的聚焦位置调整方法及其系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种光学头聚焦位置的调整方法及系统，尤其指一种用于光 学记录/读写装置的光学头聚焦位置的调整方法及系统。
背景技术：
现有技术中，在光学记录媒体上烧录数据时，光学头使用该聚焦误差零 交点的聚焦位置进行烧录。然而，光盘片因为制程不稳定，常常会有倾斜或 高低不平的问题，因此，此预定的聚焦位置并非一定为最佳的聚焦位置。最 佳聚焦位置会在烧录的过程中改变。而光学头可能距离光学记录^ 某体太近或 太远，导致该记录/读写装置所烧录出的光学记录媒体质量不稳定，进而影 响从该光学记录媒体进行数据读取的质量。
请参见图1是光学头在一特定聚焦时，将信息烧录在光学记录纟某体上的 过程中烧录射频信号变化示意图。首先，当光学头开始发出烧录光束时，感
测模块会产生对应的烧录射频信号，即A基准；随后，当烧录光束发出一 段时间后，传感器才会产生一较为稳定的烧录射频信号，即B基准；而当 光学头中断发出烧录光束回到读取功率时，感测模块会从该较高的稳定的烧 录射频信号跳变为一较低基准的电压，即C基准。而现有的光学头聚焦调 整方法均采用B基准所对应的聚焦位置作为目标聚焦位置，然而，在实际 应用中，从A基准到需要经过一个相对不稳定的阶段才能达到B基准，因 此该B基准的获取往往不易精确。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的在于提供一种光学头聚焦位置的调整方法，用 以在烧录的过程中，调整光学头的聚焦位置，以有效解决已知烧录质量不稳 定的问题。本发明所提供的聚焦位置调整方法是利用烧录射频信号从B基准跳变
为c基准作为检测基准，当检测到烧录射频信号从高基准电压转为低基准
电压时，获取烧录射频信号的最小值及其对应的目标聚焦位置，进一步调整 光学头的聚焦位置为该目标聚焦位置，以有效解决已知烧录质量不稳定的问 题。
基于上述构思，本发明提出一种光学头的聚焦位置调整方法，该光学头 位于与一光学记录J 某体相距一预定距离的聚焦位置，用以对该光学记录々某体 发出一预定功率的烧录光束，而将相对应的光学数据烧录于该光学记录媒体
上，该聚焦位置调整方法包括
1) 用一聚焦位置在该光学记录媒体上进行烧录，以产生一相对应的烧录 射频信号；
2) 检测该烧录射频信号是否由一高基准电压转为低基准电压，若是， 则进入3);
3) 获取该烧录射频信号的最小值，以及其对应的目标聚焦位置；
4) 将该光学头调整至该目标聚焦位置，以使该光学头后续能于该目标 聚焦位置对该光学记录媒体进行烧录。
为了实现上述光学头的聚焦位置调整方法，本发明还提出一种光学头聚 焦位置的调整系统，包括
感测模块，用于感测出自该光学记录媒体上反射的烧录光束，并产生对 应的射频信号；
控制4莫块，包括 一位置改变单元，以预定的位置改变程序，控制该光 学头改变在该光学记录^ 某体上进行烧录的聚焦位置；电位转换侦测单元，用 于当侦测到所述感测模块所产生的射频信号由高基准电压转为低基准电压 时输出一转换信号；极值产生单元，用于根据所述转换信号获取其中射频信 号最小值，及其对应的目标聚焦位置。
传动模块，根据所述控制模块的控制，将该光学头调整至该目标聚焦位置。
本发明还提出另一种光学头的聚焦位置调整方法，该光学头位于与一光学记录媒体相距一预定距离的聚焦位置，用以对该光学记录媒体发出 一预定 功率的烧录光束，而将相对应的光学数据烧录于该光学记录媒体上，该聚焦
位置调整方法包括
1) 用 一聚焦位置在该光学记录媒体上进行烧录；
2) 暂停烧录，以读取功率回读烧录的资料，以产生出一相对应的射频 信号；
3) 利用该射频信号，获取振幅绝对值；
4) 改变该聚焦位置，并重复进入步骤1)，以得到一最大振幅绝对值 以及其对应的目标聚焦位置；
5) 将该光学头调整至该目标聚焦位置，以使该光学头后续能于该目标 聚焦位置对该光学记录媒体进行烧录。
为了实现上述另一种光学头的聚焦位置调整方法，本发明还提出一种光 学头聚焦位置的调整系统，包括
感测模块，用于感测出自该光学记录媒体上反射的烧录光束，并产生对 应的射频信号；
控制模块，包括 一位置改变单元，以预定的位置改变程序，控制该光 学头改变在该光学记录媒体上进行烧录的聚焦位置；回读^r测单元，用于对 烧录之后暂停烧录，再回读烧录的数据所对应产生的射频信号进行检测以获 取一振幅绝对值；振幅计算单元，用于接收该振幅绝对值，并比较产生一最 大振幅绝对值，及其对应的目标聚焦位置。
传动模块，根据所述控制模块的控制，将该光学头调整至该目标聚焦位置。
采用上述方法及系统的优点为在烧录期间可以根据烧录射频信号的下 冲电压值或者振幅绝对值来持续调整聚焦位置，使整张光盘片由内至外拥有 一致的烧录质量。或者，根据光盘片多个点的聚焦位置调整结果，决定任意 位置的目标聚焦位置。
为让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较 佳实施例，并配合所附图示，作详细说明如下。
图l是现有技术中光学读取头的烧录射频信号变化示意图。
图2A是根据本发明第一实施例所绘示的烧录射频信号(Write RF )的 波形图。
图2B是根据本发明第一实施例所绘示的光学头的聚焦位置调整方法流 程图。
图2C是根据本发明第一实施例所绘示的一种光学头的聚焦位置调整系 统方框图。
图3A是根据本发明第二实施例所绘示的烧录射频信号(Write RF )的 波形图。
图3B是根据本发明第二实施例所绘示的光学头的聚焦位置调整方法流 程图。
图3C是根据本发明第二实施例所绘示的一种光学头的聚焦位置调整系 统方框图。
图4A是根据本发明第三实施例所绘示的射频信号(RF Signal)的波形图。
图4B是根据本发明第三实施例所绘示的光学头的聚焦位置调整方法流 程图。
图4C是根据本发明第三实施例所绘示的一种光学头的聚焦位置调整系 统方框图。
具体实施例方式
图2A是根据本发明第一实施例所绘示的烧录射频信号(Write Radio Frequency Signal, Write RF )的波形图。请参考图2A,此波形是在烧录期间， 光学读取头的写入功率(Write Power)被固定为读耳又功率(Read Power)时， 用以在光盘片上产生空白(Space)区块的波形图，在光盘技术中，烧录射 频信号的定义如下
9Write RF = Write Power x R
其中，R为反射率。由于此时光学头正在用激光头以读取功率在光盘片 上产生空白(Space)区块，而读取功率相对较低，并且在此期间，功率是 固定的。因此，当光学头的聚焦越好，波形的下冲电压值(Undershoot Voltage) 越低。接下来，图2B是根据本发明第一实施例所绘示的聚焦位置调整方法 的流程图。请参考图2A以及图2B,在此实施例中，调整光学头聚焦位置的 方法如下
步骤S201:开始烧录；
步骤S202:在烧录过程中改变光学头的聚焦位置，以产生出相对应的 烧录射频信号(Write RF);
步骤S203:判断上述烧录射频信号(Write RF)是否由一高电压准位转 低电压准位，当判断为是，则进行步骤S204;当判断为否，则持续进行步 骤S203;
步骤S204:获取上述烧录射频信号(WriteRF)的极小值Vsc，以及其 相对应的一目标聚焦位置；
步骤S205:将光学头调整至上述目标聚焦位置，以使光学头后续能在 此目标聚焦位置对光学记录媒体进行烧录。
对应于实施例一的方法，本发明还提供了一种光学头的聚焦位置的烧录 射频信号最小值调整系统，参考图2C,包括感测模块21、控制模块22和 传动模块23，其中
感测模块21,用于感测出自该光学记录媒体上反射的烧录光束，并产 生对应的射频信号；
控制模块22,包括 一电位转换侦测单元221、 一第一存储单元222、 一极值产生单元223和一位置改变单元224，其中
电位转换侦测单元221,用于当侦测到所述感测模块21所产生的射频 信号由高基准电压转为低基准电压时输出 一转换信号；
第一存储单元222,用于当接收到所述电位转换侦测单元221输出的转 换信号时，记录当前烧录射频信号的电压值；极值产生单元223,用于从第一存储单元222接收该电压值，并比较产 生一该射频信号的最小值所对应的最低电压值，及其对应的目标聚焦位置；
位置改变单元224,以预定的位置改变程序，控制该光学头改变在该光 学记录媒体上进行烧录的聚焦位置；
传动模块23,根据控制模块22的控制，将该光学头调整至所述最低电 压值所对应的目标聚焦位置。
其中，所述射频信号是在烧录过程中产生的烧录射频信号。
图3A是根据本发明第二实施例所绘示的烧录射频信号(Write RF )的 波形图。请参考图3A,上述图2的实施例是以检测烧录射频信号(Write RF) 的极小值电压，也就是下冲电压的最小值，来作为调整光学头聚焦位置的基 础。图3B是才艮据本发明第二实施例所绘示的聚焦位置调整方法的流程图。 请参考图3A和图3B，在此例中，默认了一组参考电压Vref。而上述的步骤 可以如以下变化
步骤S301:开始烧录；
步骤S302:在烧录过程中改变光学头的聚焦位置，以产生出相对应的 烧录射频信号(Write RF);
步骤S303:判断上述烧录射频信号(Write RF )是否由一高电压准位转 低电压准位，当判断为是，则进行步骤S304;当判断为否则持续进行步骤 S303;
步骤S304:当烧录射频信号由一高电压准位转低电压准位，开始计时；
步骤S305:判断烧录射频信号是否到达一预定电压Vref,若烧录射频信 号尚未到达预定电压Vref，则维持步骤S304,继续计时；若烧录射频信号到 达预定电压Vref，则进行步骤S306;
步骤S306:当烧录射频信号由一相对低电压到达预定电压Vref时，停止
计时，得到一下冲反应时间(Undershoot Response Time ) U ~ tc;
步骤S307:重复上述步骤S303 步骤S306，以得到一最大下沖反应时 间tc以及其对应的目标聚焦位置；
步骤S308:将光学头调整至上述目标聚焦位置，以使光学头后续能在此目标聚焦位置对光学记录媒体进行烧录。
由于此种方式可以在烧录的同时即刻得知聚焦状况，因此可以在接下来 的烧录中，适当的调整聚焦位置，使烧录的质量提升。
对应于实施例二的方法，本发明还提供了一种光学头的聚焦位置的最大
下沖反应时间调整系统，参考图3C,包括感测模块31、控制模块32和传 动模块33,其中
感测模块31,用于感测出自该光学记录媒体上反射的烧录光束，并产 生对应的射频信号；
控制模块32，包括 一电位转换侦测单元321、 一定时单元322、 一极 值产生单元323和一位置改变单元324,其中
电位转换侦测单元321，用于当侦测到所述感测模块31所产生的射频 信号由高基准电压转为低基准电压时输出一转换信号；
定时单元322,用于当接收到所述电位转换侦测单元321输出的转换信 号时，启动计时，当所述烧录射频信号由一相对低电压到达一预定电压时， 停止计时，以获得一下冲反应时间；
极值产生单元323,接收该下沖反应时间，并比较产生一该射频信号的 最小值所对应的最大下冲反应时间，及其对应的目标聚焦位置；
位置改变单元324，以预定的位置改变程序，控制该光学头改变在该光 学记录J^某体上进行烧录的聚焦位置；
传动模块33,根据控制模块32的控制，将该光学头调整至所述最大下 冲反应时间所对应的目标聚焦位置。
其中，所述射频信号是在烧录过程中产生的烧录射频信号。 图4A是根据本发明第三实施例所绘示的射频信号(RF Signal)的波形 图。在此图中绘示了振幅114以及1，，其中114/1固定义为114/1湖调变(114/1兩 Modulation),在此实施例便以此114/114"周变作为基础，以调整光学头的聚 焦位置。图4B是根据本发明第三实施例所绘示的聚焦位置调整方法的流程 图。请参考图4A以及图4B，此实施例的光学头的聚焦位置的调整方法的步 骤如下
12步骤S401:在一聚焦位置对一光盘片进行烧录；
步骤S402:暂停烧录，以一读取功率回读烧录的数据，以产生出一相 对应的射频信号；
步骤S403:利用上述射频信号，获取振幅绝对值；
所述振幅绝对值是I14/I14H调变值(I14/I14HModulation);
步骤S404:改变上述聚焦位置，并重复步骤S401 步骤S403,以得到 一最大振幅绝对值以及其对应的目标聚焦位置；
当I"/Ii4H调变的调变值为最大时，即表示聚焦在最佳位置；
步骤S405:将光学头调整至该目标聚焦位置，以使该光学头后续能在 该目标聚焦位置对该光学记录媒体进行烧录。
其中，所述射频信号是在回读过程中产生的读取射频信号(ReadRF)。 此第三实施例虽然必须要暂停烧录并且回读射频信号(RF Signal)，但 是在此回读的过程，通常只需要回读一小部分的数据即可以检测到I14/I14H 调变值，因此，此实施例仍可以使整张光盘片由内至外拥有一致的烧录质量。
对应于实施例三的方法，本发明还提供了一种光学头的聚焦位置最大调 制值调整系统，参考图4C，包括感测模块41、控制模块42和传动模块43, 其中
感测模块41 ，用于感测出自该光学记录媒体上反射的烧录光束。
控制才莫块42,包括 一回读才全测单元421、 一振幅计算单元422和一位 置改变单元423，其中
回读^r测单元421,用于对烧录之后暂停烧录，再以回读烧录的数据所 对应产生的读取射频信号进行检测以获取一振幅绝对值。
振幅计算单元422,用于接收该振幅绝对值，并比较产生一最大振幅绝 对值，及其对应的目标聚焦位置。
位置改变单元423,以预定的位置改变程序，控制该光学头改变在该光 学记录媒体上进行烧录的聚焦位置。
传动模块43,根据所述控制模块42的控制，将该光学头调整至该目标聚焦位置。
其中，振幅绝对值是I14/I14H调变值；以及射频信号为读取射频信号 (Read RF )
所述控制斗莫块42还包括一第二存储单元，用于存储所述最大振幅绝对 值所对应的目标聚焦位置，所述目标聚焦位置与位置改变单元中预定的位置 相对应。
综上所述，本发明的精神是在烧录过程中改变光学头的聚焦位置，产生 相对应烧录射频信号的下沖电压值或114/11411调变值。其次，搜寻出烧录射频 信号的下冲电压值的最小值(即对应最大下冲反应时间)或114/1，调变值的 最大值，与相对应的目标聚焦位置。然后，将光学读取头调整至目标聚焦位 置。此方法的优点为在烧录期间可以根据烧录射频信号的下沖电压值持续调 整聚焦位置。
另外，还可以根据光盘片多个点的聚焦位置调整结果，决定任意位置的 目标聚焦位置。为此，在图2C，图3C和图4C中的控制模块中还可以包括 一第二存储单元(图中未示出)，其中，在图2C和图3C中，所述控制才莫 块包括的所述第二存储单元，用于存储所述极值产生单元所产生的射频信号 最小值所对应的目标聚焦位置，所述目标聚焦位置与位置改变单元中预定的 位置相对应；在图4C中，所述控制模块包括的所述第二存储单元，用于存 储所述最大振幅绝对值所对应的目标聚焦位置，所述目标聚焦位置与位置改 变单元中预定的位置相对应，从而方便位置改变单元直接根据所述第二存储 单元所存储的光盘片多个点的聚焦位置调整结果，决定任意位置的目标聚焦 位置。
明技术内容，而非将本发明狭义地限制于上述实施例，在不超出本发明的精 神及以下申请专利范围的情况，所做的种种变化实施，皆属于本发明的范围。 因此本发明的保护范围当视后附的申请专利范围所界定内容为准。
权利要求
1、一种光学头的聚焦位置调整方法，该光学头位于与一光学记录媒体相距一预定距离的聚焦位置，用以对该光学记录媒体发出一预定功率的烧录光束，而将相对应的光学数据烧录于该光学记录媒体上，该聚焦位置调整方法包括1)用一聚焦位置在该光学记录媒体上进行烧录，以产生一相对应的烧录射频信号；2)检测该烧录射频信号是否由一高基准电压转为低基准电压，若是，则进入3)；3)获取该烧录射频信号的最小值，以及其对应的目标聚焦位置；4)将该光学头调整至该目标聚焦位置，以使该光学头后续能于该目标聚焦位置对该光学记录媒体进行烧录。
2、 如权利要求1所述的调整方法，其中所述步骤3 )中获取烧录射 频信号的最小值具体包括301) 判断当该烧录射频信号由一高基准电压转低基准电压，记录当前 烧录射频信号的电压值；302) 改变该聚焦位置，并重复进入步骤1)，以得到一烧录射频信号 的最低电压值；所述目标聚焦位置为所述最低电压值对应的目标聚焦位置。
3、 如权利要求2所述的调整方法，其中所述步骤3)中获取烧录射 频信号的最小值具体包括311) 判断当该烧录射频信号由一高基准电压转低基准电压，开始计时；312) 判断当该烧录射频信号由一相对低电压到达一预定电压时，停止 计时，以获得一下沖反应时间；313) 改变该聚焦位置，并重复进入步骤1)，以得到一该烧录射频信 号的最小值所对应的最大下冲反应时间；所述目标聚焦位置为所述最大下冲反应时间对应的目标聚焦位置。
4、 如权利要求1至3任一项所述的调整方法，其中所述步骤4)之 前还包括存储该射频信号最小时所对应的目标聚焦位置，所述目标聚焦位 置对应于步骤l)中的聚焦位置。
5、 一种光学头的聚焦位置调整方法，该光学头位于与一光学记录媒 体相距一预定距离的聚焦位置，用以对该光学记录媒体发出一预定功率的 烧录光束，而将相对应的光学数据烧录于该光学记录媒体上，该聚焦位置 调整方法包括1) 用 一聚焦位置在该光学记录媒体上进行烧录；2) 暂停烧录，以一读取功率回读烧录的资料，以产生出一相对应的射 频信号；3) 利用该射频信号，获取振幅绝对值；4) 改变该聚焦位置，并重复进入步骤1),以得到一最大振幅绝对值 以及其对应的目标聚焦位置；5) 将该光学头调整至该目标聚焦位置，以使该光学头后续能于该目标 聚焦位置对该光学记录媒体进行烧录。
6、 如权利要求5所述的调整方法，其中所述振幅绝对值是I14/I14H调变值。
7、 如权利要求5或6所述的调整方法，其中所述步骤5 )之前还包 括存储该射频信号最小时所对应的目标聚焦位置，所述目标聚焦位置对应 于步骤1 )中的聚焦位置。
8、 一种光学头聚焦位置的调整系统，该光学头位于与一光学记录媒 体相距一预定距离的聚焦位置，用以对该光学记录媒体发出一预定功率的 烧录光束，而将相对应的光学数据烧录于该光学记录媒体上，包括感测模块，用于感测出自该光学记录媒体上反射的烧录光束，并产生对 应的射频信号；控制模块，包括 一位置改变单元，以预定的位置改变程序，控制该光 学头改变在该光学记录媒体上进行烧录的聚焦位置；电位转换侦测单元，用 于当侦测到所述感测模块所产生的射频信号由高基准电压转为低基准电压 时输出一转换信号；极值产生单元，用于根据所述转换信号获取其中射频信 号最小值，及其对应的目标聚焦位置。传动模块，根据所述控制模块的控制，将该光学头调整至该目标聚焦位置。
9、 如权利要求8所述的调整系统，其中所述控制模块还包括一第一 存储单元，用于当接收到所述电位转换侦测单元输出的转换信号时，记录 当前烧录射频信号的电压值；所述极值产生单元，接收该电压值，并比较 产生一该射频信号的最小值所对应的最低电压值，及其对应的目标聚焦位 置；所述传动模块，根据所述控制模块的控制，将该光学头调整至所述最低 电压值所对应的目标聚焦位置。
10、 如权利要求8所述的调整系统，其中所述控制模块还包括一定时 单元，用于当接收到所述电位转换侦测单元输出的转换信号时，启动计时， 当所述烧录射频信号由一相对低电压到达一预定电压时，停止计时，以获 得一下冲反应时间；所述极值产生单元，接收该下冲反应时间，并比较产 生一该射频信号的最小值所对应的最大下冲反应时间，及其对应的目标聚 焦位置；所述传动模块，根据所述控制模块的控制，将该光学头调整至所述最大 下沖反应时间所对应的目标聚焦^立置。
11、 如权利要求8至IO任一项所述的调整系统，其中所述控制模块 还包括一第二存储单元，用于存储所述极值产生单元所产生的射频信号最 小值所对应的目标聚焦位置，所述目标聚焦位置与位置改变单元中预定的 4立置相对应。
12、 一种光学头聚焦位置的调整系统，该光学头位于与一光学记录媒体相距一预定距离的聚焦位置，用以对该光学记录媒体发出一预定功率的 烧录光束，而将相对应的光学lt据烧录于该光学记录々某体上，其特征在于，包括感测模块，用于感测出自该光学记录媒体上反射的烧录光束；控制模块，包括 一位置改变单元，以预定的位置改变程序，控制该光 学头改变在该光学记录媒体上进行烧录的聚焦位置；回读检测单元，用于对 烧录之后暂停烧录，再回读烧录的数据所对应产生的一射频信号进行检测以 获取一振幅绝对值；振幅计算单元，用于接收该振幅绝对值，并比较产生一 最大振幅绝对值，及其对应的目标聚焦位置。传动模块，根据所述控制模块的控制，将该光学头调整至该目标聚焦位置。
13、 如权利要求12所述的调整系统，其中振幅绝对值是I14/I14H调变值。
14、 如权利要求12或13所述的调整系统，其中所述控制才莫块还包括 一第二存储单元，用于存储所述最大振幅绝对值所对应的目标聚焦位置， 所述目标聚焦位置与位置改变单元中预定的位置相对应。
全文摘要
本发明是关于一种光学头的聚焦位置调整方法，此光学头位于与一光学记录媒体相距一预定距离的聚焦位置，用来对光学记录媒体发出一预定功率的烧录光束，而将相对应的光学数据烧录于此光学记录媒体上，此聚焦位置调整方法包括下列步骤在烧录过程中改变光学头的聚焦位置，以产生出相对应的烧录射频信号；搜寻出烧录射频信号的极小值，以及相对应的一目标聚焦位置；以及将光学头调整至上述目标聚焦位置，使光学头后续能在此目标聚焦位置对光学记录媒体进行烧录。
文档编号G11B7/095GK101527146SQ20091012918
公开日2009年9月9日 申请日期2009年3月31日 优先权日2009年3月31日
发明者刘耀文, 蔡政修 申请人:凌阳科技股份有限公司