专利名称：曝光装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种经由光罩薄膜对基板曝光的曝光装置，特别是涉及一种曝光室内的空气循环环境佳的曝光装置。
背景技术：
在已知技术中，在曝光装置使用的基板为例如用于电子电路基板的大约只有0.05mm的厚度，且其电路图案也朝细微化的方向发展。而且，在曝光装置的作业动作中，在形成电路图案的光罩与基板密合的状态下，通过照射包含既定波长的紫外线的光线，正确地将光罩薄膜的电路图案曝光于基板上。
在此，参照图7说明已知的曝光装置的构造。
图7为已知的曝光装置的曝光室内的侧视图。如图7所示，曝光装置50主要包括载置基板w的曝光台51、在面向该曝光台51的一侧保持光罩M的保持框52、具有从该保持框52的上方经由未图示的反射光学系照射包含紫外线的光线的光源的光学系53、将冷却空气输送至基板W与光罩M侧的送风机构54。
在曝光装置50中，通过送风机构54将温度管理为既定温度的冷却空气输送至光罩M与基板W，由此可防止基板W及光罩M在被照射光照射时，由于其所产生的热而伸长。
如此的已知的曝光装置，例如日本专利第3099841号公报所揭露的。
然而，在已知的曝光装置的送风机构中，存在着以下的问题。
在已知的曝光装置中，由于照射光线而容易受热影响的光罩薄膜以及与光罩薄膜相比由于照射光线而受热影响的程度不同的基板，是以相同条件的温度及湿度的空气，直接从送风机构送风而被冷却的。因此，在要求细微化的电路图案的曝光装置中，无法对应基于光罩薄膜与基板的温度及湿度的伸缩状态的调整。
而且，光罩薄膜的上方经由透光板而被冷却，下方被直接送风而受到空气的影响。因此，影响光罩薄膜的伸缩的送风状态变得不适当，在要求细微化的电路图案的曝光装置中，无法对应而希望改善。
而且，在已知的曝光装置中，虽然由送风机构将实施温度湿度管理的空气送风至曝光室内，但由于仅考虑送风侧的构造，并未考虑送风的空气从曝光室内排出的环境。因此，在开发至电路图案细微化的基板中，也有由于在曝光室内照射的光等而变暖的空气无法有效地换气而滞留的情况，要调整由光罩薄膜及基板的热而对伸缩状态产生的影响是有困难的。
发明内容
鉴于此，本发明的目的在于提供一种曝光装置，使对于光罩薄膜及基板的空气的送风状态达到适当，而且使曝光室内对光罩薄膜及基板送风的空气的流体环境达到适当。
本发明的曝光装置具有一曝光室，收纳有载置基板的载置台以及支持光罩薄膜的支持框，使上述基板与上述光罩薄膜抵接或接近，照射包含既定波长的紫外线的光，而对上述基板曝光的曝光装置中，包括设于上述曝光室内的一侧壁上、沿着成为上述支持框的光照射侧的面而供给预设温度及湿度的空气的供给口，设于上述供给口的下方、通过上述支持框与上述载置台之间而送来的空气以及排出上述曝光室内的空气用的侧壁面排出口，设于上述曝光室的另一侧壁且将从上述供给口送来的空气的送风方向至少改变至通过上述支持框与载置台之间而朝向上述侧壁面排出口的送风方向变更装置，设于上述曝光室外、使从上述侧壁面排出口排出的空气经过过滤器而进入的同时、调整成预设的温度及湿度而输送至上述供给口的温度湿度调整装置。
在如此构造的曝光装置中，从供给口供给预设温度及湿度的空气，沿着支持光罩薄膜的支持框的光照射的侧面，从曝光室内的一侧壁向另一侧壁送风。然后，当空气从供给口送风而来时，借由配置于曝光室内的另一侧壁的送风方向变更装置将空气的方向变更至朝向支持框与载置台之间，将该空气导向侧壁面排出口。而且，从侧壁面排出口排出的空气经由过滤器而回收，通过温度湿度调整装置调整成预设的温度湿度，从供给口再度地供给至曝光室内。
此外，本发明的曝光装置中，送风方向变更装置包括空气的吸入口、从该吸入口吸入空气的旋转叶片、驱动该旋转叶片旋转的驱动装置、以及将经由上述旋转叶片吸入的空气向上述侧壁面排出口送出的送风口。
如此构造的曝光装置，沿支持框的上面送来的空气，经由送风方向变更装置的驱动装置，由旋转叶片强制地从吸入口进入，从送风口向支持框与载置台之间强制地送出，从侧壁面排出口排出。
而且，本发明的曝光装置中，上述送风方向变更装置包括在面向上述供给口的位置上接受所供给的空气并变更方向的变更板、以及导引该空气而将沿该变更板输送的空气从上述支持框及载置台之间朝向上述侧壁面排出口的导出板。
如此构造的曝光装置，沿支持框上面送来的空气通过变更板而沿该变更板被导引，从导出板向支持框与载置台之间送出并从侧壁面排出口排出。
此外，本发明的曝光装置还包括一排气地面，设于设置上述载置台的上述曝光室内的设置面的至少一部分，该排气地面具有复数个排气孔，排出上述曝光室的空气。
在如此构造的曝光装置中，对于从供给口经由送风方向变更装置向侧壁面排出口的空气的流路的影响达到最小，对于无法以送风方向变更装置变更方向的空气或者是无法从壁面排出口回收的曝光室内的空气，通过设置面的排气孔排出装置外。
根据本发明的曝光装置，可达到以下所示的优良效果。
曝光装置将由温度湿度调整装置所调整的空气从供给口供给至光罩薄膜的上面侧，对于最受因光的照射而产生的热所影响的光罩薄膜适当地调整其温度及湿度，在抑制光罩薄膜的伸缩的同时，通过送风方向变更装置输送至支持框与载置台之间的空气，对基板及光罩薄膜调整温度及湿度。
因此，曝光装置通过在曝光室内维持空气的循环，而可适当地控制因光的照射所产生的热有不同影响的光罩薄膜及基板的伸缩，可对应于电路图案细微化的曝光作业。
曝光装置将可从供给口输送的空气借助于送风方向变更装置强制地吸引而向支持框与载置台之间送出，由于使调整曝光室内的温度及湿度的空气确实地循环，可对应使电路图案细微化的曝光作业保持稳定。
曝光装置将可从供给口输送的空气借助于构造简单的送风方向变更装置中的变更板及导出板改变送风方向而向支持框与载置台之间送出，由于使调整曝光室内的温度及湿度的空气确实地循环，可对应使电路图案细微化的曝光作业保持稳定。
曝光装置将可从光罩薄膜的供给口输送的空气，由送风方向变更装置向支持框与载置台之间送出，藉此使调整曝光室内的温度及湿度的空气确实地循环，而且由于从具有设置面的排气孔的排气地面将流入下方的空气进行排气，维持形成于光罩薄膜周围的空气的流路而可排除滞留的空气。因此曝光装置可对应使电路图案细微化的曝光作业保持稳定。
图1为本发明的曝光装置的第一实施方式的移除一部分的侧剖视图。
图2为本发明的曝光装置的曝光室内的气流的立体图。
图3a、3b为本发明的曝光装置中，供给口配置的侧视图。
图4a、4b分别为本发明的曝光装置的第二实施方式中，送风方向变更装置的其它方式的移除曝光装置的一部分的立体图及侧剖视图。
图5为本发明的曝光装置的送风方向变更装置的其它方式的侧视图。
图6为本发明的曝光装置的第三实施方式的移除曝光装置的一部分的侧剖视图。
图7为已知的曝光装置的构造的示意图。
标号说明1、1A～曝光装置；2～空调装置；2a、2b～导管；3～供给口；3a～空气净化过滤器；4～循环器；4a～壳体；4b～吸入口；4c～旋转叶片；4d～送风口；4e-驱动马达；4f～轴承；5～侧壁面排出口；5a～空气净化过滤器；6-框体；6a～壁面；7～排气地面；7a～排气孔；10～光源；11～水银电弧灯；12～聚光镜；14～导风板；14a-弯曲板；14b～导出板；20～光学系；21～第一平面镜；22～复眼透镜；23～第二平面镜；24～凹面镜；25～遮板机构；30～载置台；31～光罩框；40～送风口；44～导风板；44a～弯曲板；44b～导出板；44c、44d～调整部；44e～支持部；45～风导引板；M～光罩薄膜；R1～光源室；R2～曝光室；W～基板。
具体实施例方式
接着，对于本发明的曝光装置的最佳方式，参照适当的附图做详细的说明。
图1为移除曝光装置的一部分的全体的示意侧剖视图。图2为曝光装置的曝光室内的空气流动的立体图。
如图1所示，曝光装置1在框体6内具备光源10、光学系20、载置台30、空气的供给口3、作为送风方向变更装置的循环器4、侧壁面排出口5、具有排气孔7a的排气地面7。该框体6被分隔成光源室R1与曝光室R2。
而且，在曝光装置1中，空调装置2被设置成邻接于框体6。该空调装置2具有作为温度湿度调整装置的功能，将经由侧壁面排出口5进入曝光室R2内的空气，在调整成既定的温度及湿度之后，再经由导管2a返回曝光室R2。
光源10包括例如水银电弧灯11与聚光镜12。水银电弧灯11照射包含既定波长的紫外线，在曝光作业中持续地点亮而将设置于光路中的遮板机构25作为虚拟光源，通过该遮板机构25的开闭而将光线照射至基板。
聚光镜12将从上述水银电弧灯11照射的光反射，而向后述的第一平面镜21侧聚光。
在本实施方式中，光学系20由第一平面镜21、复眼透镜22、第二平面镜23、凹面镜24所构成。在该光学系20中，第一平面镜21、复眼透镜22、第二平面镜23、凹面镜24配置成使从光源10照射的光做适当的反射及穿透，从光源10照射的光经过预设的光路后，到达配置于曝光室R2内的光罩薄膜M。
第一平面镜21为板状的镜，例如冷反光镜(cold mirror)。该第一平面镜21系被直接配置于光源10上，将来自光源10的光反射至既定的方向。
复眼透镜22为复数个凸透镜纵横地配列，配置于第一平面镜21与第二平面镜23之间的光路中，使第一平面镜21反射的光以相同的照度分布照射至第二平面镜23上。在复眼透镜22的第一平面镜21侧，设有遮断第一平面镜21反射的光，以控制朝晶圆(基板)W照射的遮板机构25。
凹面镜24是表面形状为抛物线曲面的镜，其使来自第二平面镜23的反射光成为平行光而反射至光罩薄膜M，例如准直镜。该凹面镜24与光罩薄膜M成为相向的状态下，直接配置于后述的载置台30上，使由第二平面镜23反射的光线成为平行光而照射至光罩薄膜M上。在上述光学系20中，第一平面镜21与复眼透镜22设置于光源室R1中。而且，第二平面镜23与凹面镜24设置于曝光室R2中。
载置台30具备使基板W整合移动的功能，在载置面上可在平行方向X方向、Y方向整合移动，而且在垂直轴的θ方向上整合转动的同时，为了将基板W抵接于光罩薄膜M而可在垂直方向上移动。
载置台30的正上方，配置有支持形成所希望的电路图案的光罩薄膜M的支持框的光罩框31。
空调装置2设于曝光室R2外，将空气调整至既定的温度湿度。该空调装置2将调整成既定温度与湿度的空气供给至后述的曝光室R2内的供给口3，而且供给口3与侧面壁排出口5以导管2a、2b连接，从设置于后述的曝光室R2内的侧壁面排出口5排出的空气回收后，再度调整温度及湿度而供给。该空调装置2在其内部具备未图标的温度调整机构及湿度调整机构。
供给口3将空调装置2调整过温度与湿度的空气沿着支持光罩M的光罩框31的上面而供给。然后，通过从该供给口3供给的空气，在曝光室R2内，从该供给口3经过光罩框31的上面(成为光照射侧的面)，形成至曝光室R2的其它侧壁的流路。
在供给口3的开口部，设有空气净化过滤器3a。在此使用的空气净化过滤器3a是吸附尘埃等的浮游物而除去的纸过滤器，最好是吸附微粒子或二氧化硅及硅氧烷等挥发性物质而除去的HEPA过滤器，或中性能过滤器。
而且，在此，供给口3形成对应于由光罩框31所支持的光罩薄膜M的有效面积(图案形成面积)的宽度，而且设置成倾斜的状态而朝向光罩框31。
在此，供给口3形成横宽，具有比形成图案的区域更宽的宽度，而使从供给口3供给的空气可全部覆盖在形成光罩薄膜M的图案上。
该供给口3的倾斜角，如图3a所示，最好是供给的空气沿光罩31的上面送风至循环器4侧的倾斜角度θ1。在此，当光罩框31的上面侧做为基准面时，倾斜角度θ1最好相对于该基准面为90度以下45度以上的范围。即，从供给口3供给的空气的送风方向相对于基准面为平行至45度而为其送风的范围。该供给口3通过供给的空气形成从供给口3沿光罩框31的上面至循环器4为止的流路。
如图2所示，循环器4变更从供给口3送风来的空气的移动方向。
具体而言，从供给口3供给的同时，通过光罩框的上面侧的空气，在通过光罩框31与载置台30之间的空间后，到达位于供给口3的下侧的侧壁面排出口5，而变更空气的移动方向。在此，通过光罩框31与载置台30之间的空间的空气的移动方向最好是相对于载置台30的载置面为平行的方向。
循环器4设于构成曝光装置1的框体6的壁中与设置供给口3的位置相反侧的曝光室R2的另一壁面，在此，设置于与供给口3及侧壁面排出口5相向的位置。
换言之，循环器4在构成曝光装置1的框体6的壁面中，位于与设置供给口3的壁面为相反侧的壁面，即设于与设置供给口3的壁面相向的壁面。
循环器4包括设置于曝光室R2的另一壁面的壳体4a、从设于该壳体4a的一面侧的吸入口4b吸入空气而从设于壳体4a的另一面侧的送风口4d送风的旋转叶片4c、驱动该旋转叶片4c旋转的驱动马达4e、可旋转地支持由驱动马达4e旋转的旋转叶片4c的轴承4f。
而且，在吸入口4b及送风口4d，也可以安装与上述相同的空气净化过滤器3a。该循环器4形成从曝光室R2的另一侧壁通过光罩框31与载置台30之间而朝向侧壁面排出口5的空气流路。
侧壁面排出口5用于排出曝光室R2内的空气，而且排出从循环器4送来的空气。该侧壁面排出口5位于供给口3的下方，设置成面向载置台30与光罩框31之间的空间，使从循环器4排出而通过载置台30与光罩框31之间的空间的空气，得以有效地被排出。
而且，在该侧壁面排出口5的开口部，最好设有与上述相同的空气净化过滤器5a。
在本实施方式中，通过该侧壁面排出口5形成排出曝光室R2内的气流，从循环器4通过载置台30与光罩框31之间的空间，确实地形成向侧壁面排出口5的气流。
该侧壁面排出口5对应于光罩薄膜M的有效面积而形成横向宽度，而且设置成相对于上述基准面垂直(呈90度)的状态。
换言之，从图2可知，侧壁面排出口5形成与供给口3相同的宽度，最好比形成光罩薄膜M的图案的区域的宽度还宽。
而且，如图3b所示，侧壁面排出口5最好是配置在从供给口3的开口位置后退的位置上，对于从供给口供给的气流的影响变小。
即，侧壁面排出口5最好是位于从供给口3供给的空气的送风方向的后方侧。
此外，如图3b所示，侧壁面排出口5最好设置在与供给口3的倾斜角度相反的范围。即，侧壁面排出口5是相对于上述基准面从45度至135度的范围，最好是从90度至135度的范围倾斜而设置。若超过从45度至135度的范围之外，对于来自循环器4的空气无法适当地朝向排气口，又可能会是产生流路中的乱流的原因。
参照图1，具有排气孔7a的排气地面7是将曝光室R2内的空气排出曝光室R2外的装置，通过曝光室R2与曝光室外的气压差实施排气。排气孔7a用来将曝光室R2内空气排出，主要将来自循环器4的空气中无法从侧壁面排出口5排出的空气排出至曝光室R2外。
通过如此的构造，可防止未从侧壁面排出口5排出的空气阻碍从供给口3经过循环器4朝向侧壁面5的气流。
该排气孔7a在设置载置台30的地面上形成网眼状或冲压金属状，形成于该地面至少一部分或全部。
而且，上述各构成要素被设置于光源室R1与曝光室R2的框体6内。光源室R1为密闭的箱状空间。曝光室R2是侧壁面具有未图示的实施基板W的搬入及搬出的基板W搬出入口的箱状的空间。而且，排气孔7a的开口面积比基板W的搬出入口面积还宽。
接着，说明曝光装置的动作。
在曝光装置1中，首先，使用未图示的把手等的搬运装置，将基板W搬运并载置于载置台30上。
然后，使载置基板W的载置台30上升，对于由光罩框31所支持的光罩薄膜M，使基板W保持在接近或抵接的状态。
在曝光装置1中，在基板W开始搬入之际，由空调装置2调整成预设温度及湿度的空气从供给口3供给至曝光室R2内，而且，从供给口3供给的空气由循环器4变更行进方向，到达侧壁面排出口5后而排出。
即，如图1所示，从供给口3供给的空气形成气流(流路)，沿光罩框31的上面到达循环器4侧之后，借助于循环器4通过光罩框31与载置台30之间而到达侧壁面排出口5。
在此若流过光罩薄膜M的表侧(上侧)的空气流路为往路，流过光罩薄膜M的内侧(下侧)的空气流路为复路，则形成夹着光罩薄膜M而往路与复路位于上下的气流(流路)。
由此，流过往路的空气从光罩薄膜M的上面侧，经过透光板，使光罩薄膜M的温度湿度保持一定，流过复路的空气从光罩薄膜M的下面侧，使光罩薄膜M的温度湿度保持一定。
而且，当基板W载置于载置台30上时，流过复路的空气使基板W的温度湿度保持一定。
在曝光装置1中，在作动时，将来自光源10的照射光，经过特定光学系20，成为包含既定波长的紫外线的照射光，而照射至光罩薄膜M与基板W上。在此，在照射光照射时，光罩薄膜M、光罩框31、透光板、基板W等的组件由于被照射光照射而发热。特别是，位于凹面镜24附近的组件，很容易表现出被该热所影响的状态。
然而，从图1判断，光罩M由于位于比凹面镜24还接近基板W的位置，发热经常比基板W还大。而且，对基板W而言，照射光一般是照射一次，曝光作业时受到热的影响只有一次，对光罩薄膜M而言，由于用于照射复数片基板，曝光作业时是重复地受到热的影响。
在此，在曝光装置1中，通过在光罩薄膜M上下通过气流而调整温度湿度，在曝光时将对光罩薄膜M作用的热的影响抑制到最小，而且空气的温度湿度被反应至光罩薄膜M。
即，从供给口3供给的同时，通过空气通过光罩薄膜M的上面侧所形成的往路，以及从循环器4排出的同时，通过光罩框31与载置台30之间的空间的空气所形成的复路，将空气直接吹过光罩薄膜M，将曝光时对光罩薄膜M作用的热的影响抑制到最小限度。
此外，形成往路与复路的空气，由于分别调整成既定的温度、湿度，流过往路的空气经由透光板调整光罩薄膜M上侧的温度、湿度，并调整光罩薄膜M下侧的温度、湿度。
曝光装置1中，空气往复的流路，由于对光罩薄膜M的表面与内面供给的空气的影响大约相等，可维持光罩薄膜M的伸缩状态至良好的平衡状态。
换言之，在本实施方式的曝光装置1中，通过位于光罩薄膜M上下的流路(往路与复路)的空气，由于调整成既定的温度、湿度，光罩薄膜M的温度及湿度等状态也借助于通过往路及复路的空气，而维持在所希望的温度、湿度。结果，如已知的曝光装置，在光罩薄膜M的上下面，由于不会产生温度差及湿度差，可以抑制光罩薄膜M在上下伸缩状态不同的状况。
此外，图2所示，由于形成空气的流路，从感旋光性树脂层挥发的二氧化硅及硅氧烷等挥发性物质及漂浮于曝光室R2内的尘埃等的浮游物沿空气的流路移动，从侧面排出口5排出至曝光室R2之外。而且，在不从侧面排出口5排出的情况下，可从地面的排气孔7a排出至曝光室R2之外。
而且，可防止从感光性树脂层挥发的二氧化硅及硅氧烷等挥发性物质及漂浮于曝光室R2内的尘埃等的浮游物附着于凹面镜24的表面及光罩薄膜M等。
而且由于在供给口3设置有空气净化过滤器3a，从供给口3供给至曝光室R2的空气通过空气净化过滤器3a而清净。然后，由于该清净的空气可沿光罩框31、光罩薄膜M、基板W以及载置台30通过，可有效地防止尘埃等浮游物附着于光罩框31上。
而且，由于通过空调装置2调整温度及湿度的空气供给至曝光室R2内，在曝光室R2内，特别是可将光罩薄膜M周围的温度与湿度保持在既定的温度与湿度。
因此，曝光装置1可以应付温度及湿度的条件严格的细微化的电路图案的曝光。
而且，在此，空调装置2供给例如将温度控制在22～23℃、湿度控制在55～60％的空气。此外，例如从供给口3的送风速度为1.5m/sec，从循环器4送出的送风速度在通过时为1.5m/sec。
而且，以上说明的曝光装置1虽然是以循环器4作为送风方向变更装置为例而做说明，但是如图4所述的构造亦可。
图4a、4b为表示送风方向变更装置的另一方式的将曝光装置的一部分移除的立体图及侧剖视图。而且，在以下的说明中，所说明的构造中，相同的元件给予相同的标号并省略其说明。
如图4所示，导风板14(送风变更装置)从剖面观看形成弯曲状，使通过光罩薄膜M上侧的空气通过光罩薄膜M的下侧而朝向侧壁面排出口5，包括弯曲板14a与导出板14b。该导风板14的弯曲板14a是作为变更空气行进方向的变更板的功能。而且，导出板14b调整气流，使通过光罩M的下侧而朝向侧壁面排出口5的气流相对于光罩薄膜M为平行。
在此，该导风板14的宽度方向的长度形成宽大状，从导风板14供给的空气覆盖于形成光罩薄膜M的图案的区域的下面，最好具有比形成图案的区域的宽度大的宽度。
该导风板14最好其弯曲板14a与导出板14b连续地一体成形，此外，将个别准备的弯曲板14a与导出板14b组合而形成导风板14。
导风板14的弯曲板14a在比光罩框31上表面高的位置上，接收从供给口3沿着光罩框31送来的空气，而导入导出板14b侧。该导出板14a最好包括弯曲面，可使作为变更板的平板倾斜至既定角度。
导出板14b对应于光罩薄膜M的图案区域形成宽大状，将沿着弯曲板14a输送的空气，向载置台30及光罩薄膜31之间传送。该导出板14b配置于比载置台30的上表面高的位置且比光罩薄膜31的下表面低的位置之间。
如此构造的导风板14将来自供给口3的空气沿着光罩框31输送时，空气沿着弯曲板14a送至导出板14b侧，借助于导出板14b可将空气送至载置台30与光罩框31之间。
而且，导风板14可以是如图5所示的构造。图5为送风方向变更装置的其它方式的侧视图。
如图5所示，导风板44包括作为变更空气的行进方向的变更板的弯曲板44a、调整沿该弯曲板44a而来的气流的导出板44b、供调整弯曲板44a及导出板44b的设置角度(设置角度)的调整部44c、44d、以及经由该调整部44c、44d支持弯曲板44a与导出板44b的支持部44e。
在此，导出板44a与上述导出板14b相同，调整气流，使通过光罩薄膜M与载置台30之间朝向侧壁面排出口5的气流相对于光罩薄膜M为平行。而且，支持部44e具有安装于框体6内的内壁面的安装部44f。
如此构造的导风板44松开调整部44c、44d而调整弯曲板44a、导出板44b的设置角度，再一次锁紧调整部44c、44d，而将弯曲板44a、导出板44b定位于既定的位置上。如图5所示，(适当地置换图2的循环器4而参照)当曝光装置1作动时，从供给口3沿着光罩框31的上方输送空气时，沿着导风板44的弯曲板44a将空气导引至导出板44b，通过该导出板44b将空气输送至光罩框31与载置台30之间。此时，导风板44，由于可自由调整弯曲板44a及导出板44b的设置角度，容易达成维护或设定。
换言之，由于将导风板44的设置角度变更成所希望的角度，可相当细微地调整通过光罩薄膜M下侧的空气的行进方向。
此外，本发明的曝光装置可以是图6所示的曝光装置1A。
图6是移除曝光装置的一部分的侧剖视图。而且，所说明的构造中，相同的构造给予相同的标号而省略其说明。
在该曝光装置1A中，在框体6的上部设有送风口40。
该送风口40经由导管2c而连接于空调装置2，从空调装置2供给调整至既定温度、湿度的空气。然后，送风口40配置于凹面镜24的附近，使从送风口40送出的空气沿着凹面镜24的凹面移动。
在该送风路径上，为了沿着凹面镜24的凹面供给清净的空气，具有与上述构造相同的空气净化过滤器42。该空气净化过滤器42在此设置于送风口40的开口面。该送风口40具有既定角度，设置于凹面镜24的附近，而不重叠于从第二平面镜23朝向凹面镜24反射的光的光路。
风导引板45为曲面状的板，形成与凹面镜24相同的宽度。
该风导引板45调整空气的行进方向，从送风口40送出的空气沿凹面镜24的凹面移动中，从后述的排气孔7a等排气至曝光室R2之外。
在本实施形态中，风导引板45相对于送风口40位于夹着凹面镜24而相向的位置上，而设于比凹面镜24更下方的位置上。
换言之，设于从送风口40送出的空气的行进方向的下游侧。而且，该风导引板45最好使用未图示的固定具固定于曝光室R2的壁面上。
在此，在本实施形态中，虽然将风导引板45设置于曝光室R2的壁面上，也可以将曝光室R2的壁面6a的形状形成曲面状，使气流平滑地流过。
如此构造的曝光装置1A使从送风口40送出的空气沿着凹面镜24的凹面移动而到达风导引板45。而且，到达风导引板45的空气，通过风导引板45，其行进方向朝向循环器4。
结果，到达循环器4的空气借助于循环器而改变行进方向，在经过载置台30与光罩框31之间的空间中，经由侧壁排出口5排出至曝光装置1A的外部。
另一方面，未由循环器变更行进方向的空气，越过循环器4，从排气孔7a排气至曝光装置1A的外部。
因此，在曝光装置1A中，从感光性树脂挥发的二氧化硅及硅氧烷等的挥发物质，以及在曝光室R2中漂浮的浮游物，借助于在曝光装置1A内流通的空气，从设置载置台30的地面上的排气孔7a以及侧壁面排出孔5排出至曝光室R2(曝光装置1A)的外部。
因此，可防止从感光性树脂挥发的二氧化硅及硅氧烷等的挥发物质以及在曝光室R2中漂浮的浮游物附着于凹面镜24的表面及光罩薄膜M等。
此外，曝光装置1A在维持从供给口3至循环器4与侧壁面排出口5的流路的状态下，形成从送风口40经由风导引板45送风的流路。因此，曝光装置1A中，曝光室R2的空气会处于循环状态而不会滞留地流动，可控制凹面镜24、光罩薄膜M以及基板W的温度湿度，特别是可使光罩M的伸缩状态稳定，可达到细微化电路图案的要求。
在如此构造的曝光装置1A中，从送风口40送风的空气的送风速度最好是在曝光室R2内不产生乱流的程度，在此例如在送风口40为1.5m/sec，在通过风导引板45时，为1.2m/sec此外，风速等的控制通过未图示的控制阀进行。而且，朝曝光室R2内的送风在曝光作业中经常进行。
而且，通过设置风导引板45，通过凹面镜24的凹面的空气，冲击曝光室R2的壁面而可防止在曝光室R2内产生乱流。而且，可防止曝光室R2内发生空气滞留的现象。如此，通过使空气的流动平滑，挥发物质等可有效地从曝光室R2中排出，同时有效地保持曝光室R2内的温度及湿度。
权利要求
1.一种曝光装置，具有一曝光室，在内部收纳有载置基板的载置台以及支持光罩薄膜的支持框，使上述基板与上述光罩薄膜抵接或接近，照射包含既定波长的紫外线的光，而对上述基板曝光的曝光装置中，包括设于上述曝光室内的一侧壁上，沿着成为上述支持框的光照射侧的面而供给预设温度及湿度的空气的供给口；设于上述供给口的下方，通过上述支持框与上述载置台之间而送来的空气以及排出上述曝光室内的空气用的侧壁面排出口；设于上述曝光室的另一侧壁且将从上述供给口送来的空气的送风方向至少改变至通过上述支持框与载置台之间而朝向上述侧壁面排出口的送风方向变更装置；以及设于上述曝光室外，使从上述侧壁面排出口排出的空气经过过滤器而进入的同时，调整成预设的温度及湿度而输送至上述供给口的温度湿度调整装置。
2.如权利要求1所述的曝光装置，其中上述送风方向变更装置包括空气的吸入口；从该吸入口吸入空气的旋转叶片；驱动该旋转叶片旋转的驱动装置；以及将经由上述旋转叶片吸入的空气向上述侧壁面排出口送出的送风口。
3.如权利要求1所述的曝光装置，其中上述送风方向变更装置包括在面向上述供给口的位置上接受所供给的空气并变更方向的变更板；以及导引该空气而将沿该变更板输送的空气从上述支持框及载置台之间朝向上述侧壁面排出口的导出板。
4.如权利要求1所述的曝光装置，其还包括一排气地面，设于设置上述载置台的上述曝光室内的设置面的至少一部分，该排气地面具有复数个排气孔，排出上述曝光室的空气。
全文摘要
本发明提供一种曝光装置，使对于光罩薄膜及基板的空气的送风状态达到适当，而且使曝光室内对光罩薄膜及基板送风的空气的流体环境达到适当。曝光装置(1)包括设于上述曝光室(R2)内的一侧壁上、沿着成为上述支持框(31)的光照射侧的面而供给预设温度及湿度的空气的供给口(3)；设于上述供给口的下方、通过上述支持框与上述载置台(30)之间而送来的空气以及排出上述曝光室内的空气用的侧壁面排出口(5)；设于上述曝光室的另一侧壁且将从上述供给口送来的空气的送风方向至少改变至通过上述支持框与载置台之间而朝向上述侧壁面排出口的送风方向变更装置(4)；使从上述侧壁面排出口排出的空气经过过滤器而进入的同时、调整成预设的温度及湿度而输送至上述供给口的温度湿度调整装置(2)。
文档编号H01L21/027GK1983038SQ200610167089
公开日2007年6月20日 申请日期2006年12月14日 优先权日2005年12月14日
发明者船山昌彦, 水口信一郎 申请人:株式会社Orc制作所