一种用于固晶机的晶圆推顶系统的制作方法

文档序号:6882984阅读:167来源:国知局
专利名称:一种用于固晶机的晶圆推顶系统的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种推顶系统,尤其是指用于固晶机的晶圆推顶系统。
技术背景固晶机是生产发光二极管过程中必不可少的设备,固晶的目的在于利用粘 接剂将晶圓(芯片)l占着于LED支架碗杯底面,使其固着于基座上,利于焊线及压模。由于晶圆吸附在聚酯薄膜层上,因此,使用传统的装置取晶固晶,晶圆不 易被分离并吸取,造成工作效率下降。 实用新型内容有鉴于此,本实用新型的目的在于解决上述问题,提供一种晶圆推顶系统, 将晶圆向上顶起,使晶圓与聚酯薄膜层脱离。本实用新型的技术方案是 一种用于固晶机的晶圆推顶系统,其特征在于 包括推顶针、推顶轴、基座、动力装置,推顶轴固定安装在基座上,推顶轴中 空并且底部设孔,推顶针底部插在推顶轴底部孔中,推顶针顶部部分露在空中, 动力装置连接基座。所述晶圓推顶系统进一步包括吸附膜片装置。所述吸附膜片装置包括真空发生器、真空管;真空管一端连接推顶轴内部 的中空部分,另一端连接真空发生器,所述真空发生器内设置岡。 所述晶圆推顶系统进一步包括推顶帽,所述推顶帽顶部设孔,推顶针101 底部插在推顶帽顶部孔中,推顶帽底部与推顶轴顶部紧配合。所述阀是电磁阀。所述晶圓推顶系统进一步包括晶圓、晶圆偏移装置。
所述晶圆偏移装置包括横向导轨、橫向导轨丝杆、横向导轨马达、纵向导轨、纵向导轨丝杆、纵向导轨马达、晶圓盘架、晶圓盘;纵向导轨固定在机器 台面上,橫向导轨与纵向导轨中的纵向导轨丝杆相配合,晶圆盘架连接晶圓盘 臂,晶圆盘臂与橫向导轨中的横向导轨丝杆相配合,晶圆盘架在晶圆盘架上。 所述动力装置是步进马达。所述晶圆推顶系统的上升高度是晶圓厚度的一半。 所述晶圆推顶系统的上升高度是l毫米。 所述横向导轨的最大行程是100mm。 所述纵向导轨的最大行程是100mm。 所述真空发生器的压力为-630鹏Hg。本实用新型的有益效果是由于晶圓推顶系统能够将晶圓向上顶出,使晶 圓与聚酯薄膜层脱离,使得晶圆容易被吸取,因此,大大提高了固晶机的工作效率和质量。

图l是本实用新型晶圆推顶系统结构示意图;图2是本实用新型晶圆及晶圓偏移装置结构示意图;图3是本实用新型晶圆推顶系统工作过程示意图。图中,101:推顶针;102:推顶轴;103:基座;104:推顶帽;105:步进 马达;201:真空发生器;202:真空管;203:电磁阀;301:晶圓;302:横向 导轨;303:横向导轨丝杆;304:横向导轨马达;305:纵向导轨;306:纵向 导轨丝杆;307:纵向导轨马达;308:晶圆盘臂;309:晶圓盘架;310:晶圆 盘;311:吸嘴;312:聚酯薄膜层。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步描述。请参考图1,以进一步描述晶圆推顶系统的结构。晶圃推顶系统包括基座103、推顶帽104、推顶轴102、推顶针IOI、步进马达105、真空发生器201。 晶圓推顶系统固定在机器台面上,并且位于晶圆盘310底部下方,推顶针IOI 对准晶圓盘310。步进马达105和真空发生器201位于机器内部,步进马达105 为晶圆推顶系统提供动力,真空发生器201通过连接真空管202连接在基座103 上,并通过电磁阀203控制工作。推顶轴102位于基座103中心,高出基座103, 推顶针101装在推顶轴102中,推顶帽104与推顶轴102螺紋连接,将推顶针 101固定在推顶轴102中。推顶针IOI高出推顶轴102及推顶帽104,部分露于 空中。请参考图2,以进一步描述晶圆301及晶圓偏移装置的结构。纵向导轨305 固定在机器台面上,横向导轨302与纵向导轨305中的纵向导轨丝杆306相配 合,晶圆盘架309连接晶圆盘臂308,晶圓盘臂308与横向导轨302中的横向 导轨丝杆303相配合。橫向导轨马达307开启,横向导轨丝杆303旋转,带动 晶圓盘架309横向移动;横向导轨丝杆303反向旋转,带动晶圆盘架309反向 移动。纵向导轨马达307开启,纵向导轨丝杆306旋转,带动横向导轨302及 晶圓盘架309纵向移动,纵向导轨丝杆306反向旋转,带动横向导轨302和晶 圓盘架309纵向反向移动。晶圆盘310架在晶圆盘架309上。晶圓盘架309横 向、纵向的正向最远移动距离是100毫米,晶圓盘架309橫向、纵向的反向最 远移动距离也是100毫米。请参考图3,以进一步描述晶圓推顶系统的工作过程。晶圆推顶系统固定 在机器台面上,推顶针101水平位置固定不动。工作时,通过调节纵向导轨305、 横向导轨302来调节晶圆盘310的位置,使晶圓盘310上的晶圆位于推顶针101 的上方。马达启动,推顶针101上升,将晶圆301顶出,并且晶圆301与聚酯 薄膜层312脱离。吸嘴311利用真空吸力将晶圓301吸走。推顶针101同时也 将晶圆盘310顶起。马达启动的同时,真空发生器201工作,与真空管202相 连接的推顶轴102中腔被抽真空,推顶轴102内外气压差产生吸引力,吸取晶
圓盘310及其他晶粒不会因自身重力作用而滑落。马达、真空发生器201停止 工作,推顶针101、晶圆盘310恢复原位。真空发生器201的最大压力值为 一630mmHg。为稳定机器性能,推顶针101使用一段时间后,大约几个月,需要更换。 更换时,卸下推顶帽,拔出推顶针101,取一支新的推顶针101插入推顶轴102, 并拧紧推顶帽即可。另外,推顶针101非常锋利,使用时应注意安全。
权利要求1、一种用于固晶机的晶圆推顶系统,其特征在于包括推顶针(101)、推顶轴(102)、基座(103)、动力装置,推顶轴(102)固定安装在基座(103)上,推顶轴(102)中空并且底部设孔,推顶针(101)底部插在推顶轴(102)底部孔中,推顶针(101)顶部部分露在空中,动力装置连接基座(103)。
2、 根据权利要求1所述的用于固晶机的晶圆推顶系统,其特征在于所 述晶圆推顶系统进一步包括吸附膜片装置。
3、 根据权利要求2所述的用于固晶机的晶圓推顶系统,其特征在于所 述吸附膜片装置包括真空发生器(201)、真空管(202 );真空管(202 ) —端 连接推顶轴(102)内部的中空部分,另一端连接真空发生器(201),所述真 空发生器(201)内设置阀。
4、 根据权利要求1所述的用于固晶机的晶圆推顶系统,其特征在于所 述晶圓推顶系统进一步包括推顶帽(104),所述推顶帽(104)顶部设孔,推 顶针(101 )底部插在推顶帽(104 )顶部孔中,推顶帽(104 )底部与推顶轴(102)顶部紧配合。
5、 根据权利要求3所述的用于固晶机的晶圆推顶系统,其特征在于所 述阀是电磁阀(203 )。
6、 根据权利要求1所述的用于固晶机的晶圆推顶系统,其特征在于所 述晶圆推顶系统进一步包括晶圆(301)、晶圓偏移装置。
7、 根据权利要求6所述的用于固晶机的晶圆推顶系统,其特征在于所 述晶圆偏移装置包括橫向导轨(302 )、横向导轨丝杆(303 )、橫向导轨马达(304 )、纵向导轨(305 )、纵向导轨丝杆(306 )、纵向导轨马达(307 )、晶圆200720152474.3权利要求书第2/2页盘架(309 )、晶圓盘(310);纵向导轨(305 )固定在机器台面上,横向导轨 (302 )与纵向导轨(305 )中的纵向导轨丝杆(306 )相配合,晶圆盘架(309 ) 连接晶圆盘臂(308 ),晶圆盘臂(308)与横向导轨(302 )中的横向导轨丝杆 (303 )相配合,晶圆盘(310)架在晶圓盘架(309 )上。
8、根据权利要求1所述的用于固晶机的晶圓推顶系统,其特征在于所 述动力装置是步进马达(105 )。
9、.根据权利要求1所述的用于固晶机的晶圆推顶系统,其特征在于所 述晶圓推顶系统的上升高度是晶圆(301)厚度的一半。
10、 根据权利要求l所述的用于固晶机的晶圓推顶系统,其特征在于所 述晶圆推顶系统的上升高度是l毫米。
11、 根据权利要求7所述的用于固晶机的晶圆推顶系统,其特征在于所 述横向导4九(302 )的最大行程是100mm。
12、 根据权利要求7所述的用于固晶机的晶圆推顶系统,其特征在于所 述纵向导轨(305 )的最大行程是IOO鹏。
13、 根据权利要求3所述的用于固晶机的晶圆推顶系统,其特征在于所 述真空发生器(201)的压力为-630mmHg。
专利摘要本实用新型涉及一种用于固晶机的晶圆推顶系统,包括推顶针、推顶轴、基座、动力装置,推顶轴固定安装在基座上,推顶轴中空并且底部设孔,推顶针底部插在推顶轴底部孔中,推顶针顶部部分露在空中,动力装置连接基座。本晶圆推顶系统进一步包括吸附膜片装置和晶圆水平偏移装置。由于晶圆推顶系统能够将晶圆向上顶出,使晶圆与聚酯薄膜层脱离,使得晶圆容易被吸取,因此,大大提高了固晶机的工作效率和质量。
文档编号H01L21/00GK201054345SQ20072015247
公开日2008年4月30日 申请日期2007年6月4日 优先权日2007年6月4日
发明者刘义红, 杨少辰, 罗会才, 韩金龙 申请人:大赢数控设备(深圳)有限公司
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