沟槽式功率金氧半场效晶体管与其制作方法与流程

文档序号:16702899发布日期:2019-01-22 21:50阅读:来源:国知局
技术总结
一种沟槽式功率金氧半场效晶体管与其制作方法,沟槽式功率金氧半场效晶体管的栅极包括一上掺杂区、一中间区与一下掺杂区,其中中间区为本质区或淡掺杂区,而在栅极中形成一PIN接面、P+/N‑或N+/P‑接面。本发明的沟槽式功率金氧半场效晶体管与其制作方法,当沟槽式功率金氧半场效晶体管运作时,PIN接面或PN接面所形成的接面电容可和降低栅极/漏极之间的电容串联,而使栅极/漏极之间的等效电容降低。

技术研发人员:许修文
受保护的技术使用者:帅群微电子股份有限公司
技术研发日:2014.12.31
技术公布日:2019.01.22

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