一种湿法刻蚀的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种湿法刻蚀机，包括刻蚀槽及其盖板、清洗槽及其盖板；刻蚀槽下侧设有储液罐，二者之间设有注液管道和回流管道，储液罐内设有第一热交换器；清洗槽下侧设有储水罐，二者之间设有注水管道和回水管道；湿法刻蚀机还包括冷却储水罐内介质的冷却装置，冷却装置的预设温度小于或等于第一热交换器的预设温度，使储水罐的预设温度小于或等于储液罐的预设温度，从而使得清洗槽上方的水汽温度小于或等于刻蚀槽上方的酸气温度，气流流动时，不会形成酸性液滴，从根本上避免了刻蚀槽上方盖板液滴的凝结，避免了硅片在刻蚀过程中形成不合格片。
【专利说明】一种湿法刻蚀机
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及光伏【技术领域】，特别是涉及一种湿法刻蚀机。
【背景技术】
[0002]光伏组件作为太阳能的一种利用形式正在大规模的应用，并形成了庞大的产业，越来越多的光伏组件投入使用，为人类提供着清洁的电力能源。
[0003]光伏组件利用玻璃板、背板和EVA封装电池片，电池片由硅片制成，是光伏组件的核心。硅片由硅锭切割而成，然后经过表面制绒、扩散制结、刻蚀、沉积减反射膜、印刷烧结等工艺制成电池片。其中，刻蚀工艺是电池片制造过程中的一个重要工序，目的是去除硅片下表面及四个侧面的PN结，以达到上下表面绝缘的目的，同时去除下表面及四个侧面的磷娃玻璃层。
[0004]目前，一种常用的刻蚀方法是湿法刻蚀，通过化学试剂腐蚀掉硅片下表面及四个侧面的PN结及磷硅玻璃层。如图1所示，图1为一种典型的湿法刻蚀机的结构示意图。
[0005]湿法刻蚀的过程需要用到化学试剂，刻蚀后需要清洗硅片，在湿法刻蚀机中，刻蚀槽I与清洗槽2相邻，两者上方分别设有盖板3和盖板4。刻蚀槽I下方设有储液罐5，储液罐5与刻蚀槽I之间设有注液管道6和用于药液回流的回流管道7、8，储液罐5内设有第一热交换器9，第一热交换器9可以使储液罐5中的药液降温至设定的温度。清洗槽2的下方设有储水罐10，储水罐10与清洗槽2之间设有注水管道11和用于回流的回水管道12。
[0006]在生产过程中，会有气流从清洗槽2和盖板4之间流向刻蚀槽I和盖板3之间，由于工艺的要求，需要储液罐5内的药液温度较低，从而使刻蚀槽I中的药液温度也较低，且药液不断的挥发，致使在刻蚀槽I与盖板3之间充满较凉的酸气。相对而言清洗槽2中纯水的温度较高，约为室温，在气流的作用下，大量的水蒸气更随气流流到刻蚀槽I和盖板3之间，遇到较凉的酸气凝集成酸性的液滴。液滴在重力的作用下会向刻蚀槽I中滴落，如果此时有硅片通过，滴落到硅片表面会形成不合格片。
[0007]目前通常采用定期人工擦拭的方式擦去刻蚀槽I的盖板3上形成的酸性液滴，尽量减少酸性液滴造成的不合格片。但是，人工擦拭的方式不能及时有效的避免液滴滴落，还会造成一部分不合格片。
[0008]因此，如何避免硅片在刻蚀过程中形成不合格片，是本领域技术人员目前急需解决的技术问题。
实用新型内容
[0009]本实用新型的目的是提供一种湿法刻蚀机，该湿法刻蚀机的刻蚀槽盖板上不会形成酸性液滴，避免了硅片在刻蚀过程中形成不合格片。
[0010]为了实现上述技术目的，本实用新型提供了一种湿法刻蚀机，包括刻蚀槽及其盖板、清洗槽及其盖板；所述刻蚀槽下侧设有储液罐，二者之间设有注液管道和回流管道，所述储液罐内设有第一热交换器；所述清洗槽下侧设有储水罐，二者之间设有注水管道和回水管道；所述湿法刻蚀机还包括冷却所述储水罐内介质的冷却装置，所述冷却装置的预设温度小于或等于所述第一热交换器的预设温度。
[0011 ] 优选地，所述冷却装置为第二热交换器，所述第二热交换器设于所述储水罐内。
[0012]优选地，还包括冷却罐，所述储水罐设有进水管和出水管，所述进水管和所述出水管均与所述冷却罐连通；所述冷却装置为第二热交换器，所述第二热交换器设于所述冷却罐内。
[0013]优选地，所述第一热交换器具有第一进水管和第一出水管，所述第二热交换器具有第二进水管和第二出水管；所述第一进水管和所述第二进水管均与冷水却总管连通；所述第一出水管和所述第二出水管均与回水总管连通。
[0014]优选地，所述储水罐设有进水管和出水管，所述进水管和所述出水管与所述冷却装置构成循环回路。
[0015]优选地，所述冷却装置的预设温度等于所述第一热交换器的预设温度。
[0016]本实用新型提供的湿法刻蚀机，包括刻蚀槽及其盖板、清洗槽及其盖板；刻蚀槽下侧设有储液罐，二者之间设有注液管道和回流管道，储液罐内设有第一热交换器；清洗槽下侧设有储水罐，二者之间设有注水管道和回水管道；湿法刻蚀机还包括冷却储水罐内介质的冷却装置，冷却装置的预设温度小于或等于第一热交换器的预设温度，使储水罐的预设温度小于或等于储液罐的预设温度，从而使得清洗槽上方的水汽温度小于或等于刻蚀槽上方的酸气温度，气流流动时，不会形成酸性液滴，从根本上避免了刻蚀槽上方盖板液滴的凝结，避免了硅片在刻蚀过程中形成不合格片。
【专利附图】
【附图说明】
[0017]图1为一种典型的湿法刻蚀机的结构示意图；
[0018]图2为本实用新型所提供的湿法刻蚀机一种【具体实施方式】的结构示意图。
[0019]其中，图1和图2中的附图标记和部件名称之间的对应关系如下:
[0020]刻蚀槽I ;清洗槽2 ;盖板3 ;盖板4 ;储液罐5 ;注液管道6 ;回流管道7、8 ;第一热交换器9 ;储水罐10 ;注水管道11 ;回水管道12 ;第二热交换器13。
【具体实施方式】
[0021]本实用新型的核心是提供一种湿法刻蚀机，该湿法刻蚀机的刻蚀槽盖板上不会形成酸性液滴，避免了硅片在刻蚀过程中形成不合格片。
[0022]为了使本【技术领域】的人员更好地理解本实用新型方案，下面结合附图和【具体实施方式】对本实用新型作进一步的详细说明。
[0023]请参考图2，图2为本实用新型所提供的湿法刻蚀机一种【具体实施方式】的结构示意图。
[0024]在一种具体的实施方式中，本实用新型提供了一种湿法刻蚀机，包括刻蚀槽I及其盖板3、清洗槽2及其盖板4 ;刻蚀槽I下侧设有储液罐5，二者之间设有注液管道6和回流管道7、8，储液罐5内设有第一热交换器9 ;清洗槽2下侧设有储水罐10，二者之间设有注水管道11和回水管道12 ;湿法刻蚀机还包括冷却储水罐10内介质的冷却装置,冷却装置的预设温度小于或等于第一热交换器9的预设温度。
[0025]通过湿法刻蚀机对硅片进行刻蚀时，硅片放置在刻蚀槽I内，刻蚀槽I下侧的储液罐5内装有刻蚀所需的药液，药液通过注液管道6源源不断的注入刻蚀槽1，与硅片接触后的药液通过刻蚀槽I两边的回流管道7和回流管道8流回储液槽5。
[0026]刻蚀后的硅片移动到清洗槽2内，清洗槽2下侧的储水罐10内装有清水，清水通过注水管道11流入清洗槽2，清洗完硅片后通过回水管道12流回储水罐10。
[0027]刻蚀过程中，工艺要求储液罐5内的药液温度较低，第一热交换器9能够使储液罐5内药液的温度为第一热交换器9的预定温度，从而使刻蚀槽I中的药液温度较低。同时，冷却装置能够使储水罐10内清水的温度为冷却装置的预定温度，从而使刻清洗槽2中的清水温度也较低。
[0028]冷却装置的预设温度小于或等于第一热交换器9的预设温度，使得储水罐10的温度小于或等于储液罐5的温度，从而使得清洗槽2上方的水汽温度小于或等于刻蚀槽I上方的酸气温度，气流流动时，不会形成酸性液滴，从根本上避免了刻蚀槽I上方盖板3液滴的凝结，避免了硅片在刻蚀过程中形成不合格片。
[0029]一种优选的实施方式中，冷却装置为第二热交换器13，第二热交换器13设于储水罐10内。通过第二热交换器13冷却储水罐10内的清水，使其温度小于或等于储液罐5内的药液的温度，避免刻蚀槽I盖板3形成酸性液滴。
[0030]另一种优选的实施方式中，还包括冷却罐，储水罐10设有进水管和出水管，进水管和出水管均与冷却罐连通；冷却装置为第二热交换器13，第二热交换器13设于所述冷却罐内。
[0031]通过第二热交换器13能够降低冷却罐内清水的温度，如果冷却罐内的水温与储水罐10内的水温不同，二者便能通过进水管和出水管形成循环回路，进而降低了储水罐10内清水的温度，同样能够避免刻蚀槽I盖板3形成酸性液滴。
[0032]需要说明的是，为储水罐10设置冷却装置的方式不仅仅局限于上述两种方式，能够使储水罐10内清水温度降低的其他方式也可以应用在本申请中。
[0033]在上述各实施方式中，第一热交换器9具有第一进水管和第一出水管，第二热交换器13具有第二进水管和第二出水管；第一进水管和第二进水管均与冷水却总管连通；第一出水管和第二出水管均与回水总管连通。
[0034]第一热交换器9和第二热交换器13可以由同一系统控制，使得二者的预定温度相同，使得储液罐10的温度等于储液槽5的温度，清洗槽2上方的水汽温度等于刻蚀槽I上方的酸气温度，同样也不会形成酸性液滴。
[0035]当然，第一热交换器9和第二热交换器13也可以分别由不同的系统控制。
[0036]以上对本实用新型所提供的湿法刻蚀机进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。应当指出，对于本【技术领域】的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以对本实用新型进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本实用新型权利要求的保护范围内。
【权利要求】
1.一种湿法刻蚀机，包括刻蚀槽(I)及其盖板(3)、清洗槽(2)及其盖板(4);所述刻蚀槽(I)下侧设有储液罐(5)，二者之间设有注液管道(6)和回流管道(7、8)，所述储液罐(5)内设有第一热交换器(9);所述清洗槽(2)下侧设有储水罐(10)，二者之间设有注水管道(11)和回水管道(12);其特征在于，所述湿法刻蚀机还包括冷却所述储水罐(10)内介质的冷却装置，所述冷却装置的预设温度小于或等于所述第一热交换器(9)的预设温度。
2.如权利要求1所述的湿法刻蚀机，其特征在于，所述冷却装置为第二热交换器(13)，所述第二热交换器(13)设于所述储水罐(10)内。
3.如权利要求1所述的湿法刻蚀机，其特征在于，还包括冷却罐，所述储水罐(10)设有进水管和出水管，所述进水管和所述出水管均与所述冷却罐连通；所述冷却装置为第二热交换器(13)，所述第二热交换器(13)设于所述冷却罐内。
4.如权利要求2或3所述的湿法刻蚀机，其特征在于，所述第一热交换器(9)具有第一进水管和第一出水管，所述第二热交换器(13)具有第二进水管和第二出水管；所述第一进水管和所述第二进水管均与冷水却总管连通；所述第一出水管和所述第二出水管均与回水总管连通。
【文档编号】H01L31/18GK203967050SQ201420420478
【公开日】2014年11月26日 申请日期:2014年7月28日 优先权日:2014年7月28日
【发明者】李永洋, 李建朋, 吴成新, 王月超, 杨晓超 申请人:天津英利新能源有限公司