功率兼容性更高的溅射靶的制作方法与工艺

文档序号:11966109阅读:来源:国知局
功率兼容性更高的溅射靶的制作方法与工艺

技术特征:
1.一种作为用于PVD涂层的材料供体的涂覆源,其包括:a)安置在支座内的板,该板具有板正面和板背面以及定中机构,其中,所述支座包括用于容纳所述板的框形靶架,所述板是靶,该板正面设置用于在PVD过程中将层材料从表面转变至气相,并且该定中机构设计成:在不同板温度时保证定中,b)设置在该板背面上的具有冷却通道和闭合冷却板的冷却装置,该闭合冷却板呈活动膜状,其中,为了保证在所述板背面和膜之间的良好热接触,将自粘的石墨膜粘附到该板背面上,其中,在该支座上和在该冷却装置上设有卡口接合的元件,因而该支座连同被定中的板借助该卡口接合被固定到该冷却装置,其中,为了保持该靶,分别在靶和靶架内设有至少三个相互间隔的导向成形部和/或槽,以便当该靶被安放到靶架上时所述靶的和/或所述靶架的导向成形部分别嵌入所述靶架的和/或所述靶的对应槽中,其中,“导向成形部-槽”配对如此分布,即,在每个“导向成形部-槽”配对中,该槽的宽度中心位置与对应的导向成形部的宽度中心位置重合,并且如此选择该位置,即该位置在室温下处于靶中心的一个轴向上,在所述靶和/或所述靶架在较高温度下热胀之后保持不变地处于靶中心的相同轴向上,其中该板的材料具有第一热胀系数α1,该支座的材料具有第二热胀系数α2,在此α1>α2。2.根据权利要求1的涂覆源,其特征是,该支座在该板背面的边缘区内包括用于面支承所述板的托座,并且该支座在该板正面上方包括沟槽,从而在该板被置入该支座中之后,该板在那里能借助咬入该沟槽的夹紧环被固定。3.根据权利要求1的涂覆源,其中,该支座由非磁性耐热韧性钢制造,其被锻造且在1020℃被固溶退火1小时。4.根据权利要求1的涂覆源,其中,在该涂覆源处设有用于连接电压源的机构,它允许该靶相对于一个电极处于负电位,从而该靶能用作阴极且该电极能用作阳极。5.根据权利要求4的涂覆源,其中,该阳极围绕该靶安放并且呈阳极环形式构成。6.根据权利要求3的涂覆源,其中,该支座由钢1.3974制造。7.一种PVD设备,其具有至少一个根据权利要求1的涂覆源。
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