等离子体处理装置的制作方法

技术特征：

技术总结
在一实施方式的等离子体处理装置中，气体供给系统向处理容器内供给气体。等离子体源使由气体供给系统供给的气体激励。支承构造体在处理容器内保持被处理体。支承构造体构成为，将被处理体支承成可旋转且可倾斜。该等离子体处理装置还具备偏压电力供给部，该偏压电力供给部将脉冲调制后的直流电压作为用于离子吸引的偏压施加于支承构造体。

技术研发人员：西村荣一;大秦充敬
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2015.10.08
技术公布日：2017.08.18