1.一种生成图像轮廓的方法，其特征在于，包括：
基于设计目标信息，生成一个掩模图；
基于在所述掩模图上的光刻效用的仿真，生成一个基准图像；
基于对所述基准图像的边缘探测，生成一个基准图像轮廓图；
从存储器中取出一个集成电路的扫描图像；
生成一个扫描图像轮廓图，所述扫描图像轮廓图是所述基准图像轮廓图和所述集成电路的扫描图像的函数。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于在所述掩模图上的光刻效用的仿真，生成一个基准图像包括：
生成光致抗蚀剂效用的仿真，所述光致抗蚀剂效用为一个光致抗蚀模型的函数，所述光致抗蚀模型是基于用于制造所述集成电路的一个光致抗蚀剂层的特性；
基于所述光刻效用的仿真及所述光致抗蚀剂效用的仿真的结合，生成所述基准图像。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其特征在于，所述光刻效用的仿真是一个光学模型的函数，所述光学模型是基于用于制造所述集成电路的一个棱镜或一个光掩模的特性。
4.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其特征在于，进一步包括：
把所述扫描图像轮廓图和所述基准图像轮廓图划分成对应的区；
在每一个区内，分别比较所述扫描图像轮廓图和所述基准图像轮廓图，以检测所述集成电路是否存在缺陷。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，进一步包括：
如果在一个区内，所述扫描图像轮廓图与所述基准图像轮廓图不一致，则确定在所述一个区所述集成电路存在缺陷。
6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述比较是逐行或逐个对象执行的。
7.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其特征在于，进一步包括：
识别所述扫描图像轮廓图中的集成电路特征，并对所述集成电路特征进行测量。
8.一种装置，其特征在于，包括：
存储器；
至少一个处理器，其执行储存在所述存储器内的指令以：
基于设计目标信息，生成一个掩模图；
基于在所述掩模图上的光刻效用的仿真，生成一个基准图像；
基于对所述基准图像的边缘探测，生成一个基准图像轮廓图；
从所述存储器中取出一个集成电路的扫描图像；
生成一个扫描图像轮廓图，所述扫描图像轮廓图是所述基准图像轮廓图和所述集成电路的扫描图像的函数。
9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述处理器进一步执行储存在所述存储器内的指令以：
生成光致抗蚀剂效用的仿真，所述光致抗蚀剂效用为一个光致抗蚀模型的函数，所述光致抗蚀模型是基于用于制造所述集成电路的一个光致抗蚀剂层的特性；
基于所述光刻效用的仿真及所述光致抗蚀剂效用的仿真的结合，生成所述基准图像。
10.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述处理器进一步执行储存在所述存储器内的指令以：
将一个区域中的所述扫描图像轮廓图与相应区域中的所述基准图像轮廓图相比较，以检测在所述一个区域中所述集成电路的缺陷。