具有N通孔电极的半导体器件结构的制作方法

文档序号:14407360阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明提供一种具有N通孔电极的半导体器件结构,包括:外延结构、贯穿外延结构的通孔结构;形成于所述通孔结构内侧壁上的绝缘层;填充于所述通孔内的N电极,N电极与通孔内侧壁上的N型层形成欧姆接触;形成于所述P型层上的P电极。本发明采用通孔电极作为N电极引出,相比于传统的芯片电极结构设计,可以大大减小芯片的尺寸,提高芯片的亮度,同时,也是解决小间距LED照明的核心技术;通过在N通孔电极的侧壁以及除了出光面的芯片表面制作反射层,可以大大提高芯片的光品质。本发明在半导体器件设计领域,尤其是半导体照明、microLED、小间距显示等领域具有较广泛的应用前景。

技术研发人员:郝茂盛;张楠;袁根如
受保护的技术使用者:上海芯元基半导体科技有限公司
技术研发日:2016.11.02
技术公布日:2018.05.11
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