技术总结
本发明公开一种像素bank结构及制备方法，像素bank结构包括基板、间隔设置在基板上的像素bank以及位于相邻像素bank之间的像素电极，其中，在所述像素bank上靠近像素电极的位置设置有材料堆积缓冲区，所述材料堆积缓冲区与像素电极边缘局部重叠。本发明在现有像素bank结构的基础上，于像素发光区边缘引入材料堆积缓冲区，使得印刷工艺过程中墨水干燥时产生的材料堆积位于此材料堆积缓冲区，而像素发光区形成平整均匀的薄膜，从而有效防止因材料堆积发生在像素发光区，导致像素的实际有效发光区面积减小。
技术研发人员：陈亚文
受保护的技术使用者：TCL集团股份有限公司
文档号码：201610951736
技术研发日：2016.11.03
技术公布日：2017.03.22